CN111499213A - 渐变玻璃及其制备方法和应用 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了渐变玻璃及其制备方法和应用,该渐变玻璃包括:玻璃本体,所述玻璃本体的至少一部分外表面的雾度大于0,在预定方向上所述雾度逐渐变化,且所述玻璃本体任意位置处的透光率均大于85%。该渐变玻璃在具有渐变效果的同时,可以达到较高的透光率,可以满足电子设备的使用要求,尤其是可以满足电子设备的盖板的使用要求,大大扩展了渐变玻璃的应用范围。

Description

渐变玻璃及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及玻璃技术领域和电子设备技术领域,具体的,涉及渐变玻璃及其制备方法和应用。
背景技术
随着电子设备的快速发展,人们对电子设备的性能、外观均提出了越来越高的要求。现阶段,为了避免金属壳体的信号屏蔽问题,玻璃壳体越来越多的被应用到电子设备壳体中,而为了满足用户对时尚和个性的不同需求,已经发展出了具有多种多样装饰效果的玻璃壳体,其中,雾度渐变的玻璃被很多用户青睐。然而,目前雾度渐变的玻璃虽然实现了渐变的效果,但玻璃的雾度越大,对光的漫反射作用越强,透光率则越小,在对光学性能要求较高的电子设备中应用时,尤其是当采用该雾度渐变的玻璃作为电子设备的盖板时,会受到很多限制,无法满足使用要求。因而,如何提高渐变玻璃的光学性能是亟待解决的问题。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的目的在于提出一种既具有渐变效果又具有良好的光学性能的渐变玻璃及其制备方法和应用。
在本发明的一个方面,本发明提供了一种渐变玻璃。根据本发明的实施例,该渐变玻璃包括:玻璃本体,所述玻璃本体的至少一部分外表面的雾度大于0,在预定方向上所述雾度逐渐变化,且所述玻璃本体任意位置处的透光率均大于85%。发明人发现,该渐变玻璃在具有渐变效果的同时,可以达到较高的透光率,可以满足电子设备的使用要求,尤其是可以满足电子设备的盖板的使用要求,大大扩展了渐变玻璃的应用范围。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备前面所述的渐变玻璃的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:对玻璃本体的至少一部分外表面进行蒙砂处理;对经过所述蒙砂处理的外表面进行化学抛光处理。该方法中,通过先进行蒙砂处理可以在玻璃本体的外表面形成凹凸结构,以使得玻璃本体外表面具有一定的雾度,然后进行化学抛光处理,可以将凹凸结构的表面上的毛刺去除,使得凹凸结构的表面形成光滑或近似光滑的表面,从而大大减少漫反射作用,大大提高渐变玻璃的透光率。
在本发明的再一方面,本发明提供了一种电子设备壳体。根据本发明的实施例,该电子设备壳体包括前面所述的渐变玻璃。该电子设备壳体包括前面所述的渐变玻璃的全部特征和优点,在此不再一一赘述。
在本发明的又一方面,本发明提供了一种电子设备。根据本发明的实施例,该电子设备包括前面所述的电子设备壳体。该电子设备包括前面所述的渐变玻璃和电子设备壳体的全部特征和优点,在此不再一一赘述。
附图说明
图1是本发明一个实施例的制备渐变玻璃的方法的流程示意图。
图2是本发明一个实施例的制备渐变玻璃的过程中各步骤产品的结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的,按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市购获得的常规产品。
在本发明的一个方面,本发明提供了一种渐变玻璃。根据本发明的实施例,该渐变玻璃包括:玻璃本体,所述玻璃本体的至少一部分外表面的雾度大于0,在预定方向上所述雾度逐渐变化,且所述玻璃本体任意位置处的透光率均大于85%(具体如85%、86%、87%、88%、89%、90%、91%、92%、93%、94%、95%等等)。发明人发现,该渐变玻璃外表面的雾度在具有渐变效果的同时,可以达到较高的透光率,可以满足电子设备的使用要求,尤其是可以满足电子设备的盖板的使用要求,大大扩展了渐变玻璃的应用范围。
需要说明的是,本文中所采用的术语“透光率”是指透过渐变玻璃的光通量与入射光通量的百分比;“雾度”是指偏离入射光2.5°角以上的透射光强占总透射光强的百分数;本文中所采用的描述方式“预定方向”是指玻璃本体的外表面上任意指定的一个方向,具体的方向可以根据实际使用需要灵活选择,例如可以为从玻璃本体的一端向另一端的方向,或者与上述方向成一定夹角的方向等。
根据本发明的实施例,玻璃本体的形状和结构没有特别限制,本领域技术人员可以根据需要灵活选择,例如玻璃本体可以为平板玻璃、2.5D玻璃、3D玻璃等等,具体形状可以为正方向、矩形、圆角矩形、其他规则或不规则的形状等等。
根据本发明的实施例,玻璃本体的具体种类也没有特别限制,可以根据渐变玻璃的具体应用领域进行选择,例如,作为电子设备壳体(包括后壳和盖板)时,则包括但不限于硅铝酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、盖板玻璃(包括高铝高碱的铝硅酸盐玻璃和钠钙硅玻璃等)、触控屏基板玻璃(如不含碱和重金属(砷、锑、钡)的碱土焦硼酸钠-铝硅酸盐玻璃、钠玻璃及中性硅酸硼玻璃等)、显示屏基板玻璃(如不含碱和重金属(砷、锑、钡)的碱土焦硼酸钠-铝硅酸盐玻璃、钠玻璃及中性硅酸硼玻璃等)和TFT显示屏屏幕基板玻璃(不含碱和重金属(砷、锑、钡)的碱土焦硼酸钠-铝硅酸盐玻璃等)等等。
根据本发明的实施例,为了使得玻璃本体外表面的雾度均匀、自然的逐渐过渡变化,且玻璃本体不出现明显阶梯状形貌,玻璃本体的全部外表面的雾度均大于0。由此,整个外表面的雾度可以均匀、自然过渡变化,不会出现雾度大于0的表面和光滑表面之间的界限处出现明显阶梯形貌的问题,从而使得渐变玻璃的外观质量更高,手感光滑细腻。
根据本发明的实施例,玻璃本体的雾度一般均是通过在玻璃本体的外表面上形成凹凸结构实现的,因此该玻璃本体雾度大于0的外表面上具有凹凸结构,本发明中为了提高渐变玻璃的透光率,上述凹凸结构的表面为光滑表面或近似光滑的表面。由此,光滑或近似光滑的表面可以大大减弱漫反射作用,使得渐变玻璃能够同时实现较高的雾度变化和较高的透光率,同时,凹凸结构的表面比较光滑、没有毛刺,还可以提高获得的渐变玻璃的力学性能,提高其使用效果。
根据本发明的实施例,玻璃本体的厚度可以为0.1~1.0mm,具体如0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1.0mm等,而玻璃本体的外表面的表面粗糙度RA不大于1微米,具体如1微米、0.9微米、0.8微米、0.7微米、0.6微米、0.5微米、0.4微米、0.3微米、0.2微米、0.1微米等等。由此,玻璃本体的厚度和外表面的表面粗糙度可以相互配合作用,使得玻璃本体的厚度较薄时力学性能仍然较好,可以很好的满足电子设备的使用要求。如果厚度较薄时,表面粗糙度过大,则可能使得渐变玻璃力学性能变差,如易碎、强度低等,而影响使用效果。
根据本发明的实施例,该渐变玻璃中雾度的渐变范围没有特别限制,可以根据实际使用需求而选择,一些具体实施例中,在所述预定方向上,所述雾度的最大值和所述雾度的最小值之间的差值可以为1%~99%,换句话说,在所述预定方向上,雾度可以从1%逐渐变化至2%、5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、100%等等。一些具体实施例中,在所述预定方向上,所述雾度的最大值和所述雾度的最小值之间的差值可以为20%~80%。由此,雾度渐变效果清晰,且雾度均匀自然的逐渐变化,可以适用更加广泛的领域,满足更多使用环境的使用要求。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备前面所述的渐变玻璃的方法。根据本发明的实施例,参照图1和图2,该方法包括以下步骤:
S100:对玻璃本体10的至少一部分外表面进行蒙砂处理。
根据本发明的实施例,该步骤中可以利用蒙砂处理溶液对玻璃本体的外表面进行处理,可以采用的蒙砂处理溶液可以为酸溶液,具体可以为包含氟化氢铵、氟化氨、氟化钾和硫酸钡等成分中的一种或几种的组合的酸液;具体的处理方法可以为将玻璃本体浸入蒙砂处理溶液中。大部分情况,蒙砂处理溶液的浓度一定的情况下,与玻璃本体的外表面接触的时间越长,玻璃本体的外表面砂感越强,雾度越大,因此该步骤中可以对蒙砂处理溶液的浓度、蒙砂处理溶液的成分和玻璃本体的接触时间进行调整,从而形成不同的雾度,实现雾度渐变的效果,而具体的浓度、接触时间等可根据目标雾度进行灵活的调整和选择。
根据本发明的实施例,该步骤中还可以对从蒙砂处理溶液中取出的玻璃本体进行清洗和干燥,如可以采用大量的纯水进行处理,以去除玻璃本体上的残留酸液,然后可以将玻璃本体进行干燥,如放入恒温箱中进行干燥等。
S200:对经过所述蒙砂处理的外表面进行化学抛光处理。
根据本发明的实施例,经过蒙砂处理的玻璃本体10的外表面会形成凹凸结构20,使得表面具有一定的粗糙度,从而具有一定的雾度,但是仅经过蒙砂处理,凹凸结构20的表面会形成毛刺21,即凹凸结构的表面也是粗糙的表面,由此,会使得到的渐变玻璃的漫反射作用较强,透光率大大降低。而该步骤中通过化学抛光溶液对经过蒙砂处理的外表面进行化学抛光处理,一方面可以使得玻璃本体的外表面的粗糙度降低,进一步对雾度进行调整,同时可以在玻璃本体的厚度较薄时保证玻璃本体的力学性能,满足较薄的渐变玻璃的使用要求,另一方面化学抛光处理可以有效去除凹凸结构表面的毛刺21,使得凹凸结构表面光滑或近似光滑,提高玻璃光学性能,尤其是透光率,使得渐变玻璃可以满足电子设备盖板对光学性能的要求。
根据本发明的实施例,该步骤中可以采用常规的化学抛光方法进行抛光,具体的,可以采用的化学抛光溶液包括但不限于氢氟酸溶液、氢氟酸与硫酸的混合水溶液等,具体的处理方法可以将玻璃本体浸入化学抛光溶液中,也可以将化学抛光溶液喷洒在玻璃本体的外表面上等,在一定范围内化学抛光溶液的浓度越高,与玻璃本体接触的时间越长,经过蒙砂处理的玻璃本体的外表面的粗糙度RA降低越多,雾度下降越多,因此,该步骤中可以根据渐变玻璃的实际使用要求灵活调整化学抛光溶液的浓度和与玻璃本体接触的时间,从而得到需要的雾度和透光率的渐变玻璃。
根据本发明的实施例,该步骤中还可以对从化学抛光溶液中取出的玻璃本体进行清洗和干燥,如可以采用大量的纯水进行处理,以去除玻璃本体上的残留酸液,然后可以将玻璃本体进行干燥,如放入恒温箱中进行干燥等。
根据本发明的一个具体实施例,所述玻璃本体包括相对的第一端和第二端,所述方法包括:按照第一预定速度、将所述玻璃本体沿所述第一端朝向所述第二端的方向逐渐浸入蒙砂处理溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述蒙砂处理溶液中后,将所述玻璃本体取出,得到经过所述蒙砂处理的玻璃本体;按照第二预定速度,将经过所述蒙砂处理的玻璃本体沿所述第二端朝向所述第一端的方向逐渐浸入化学抛光溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述化学抛光溶液中后,将所述玻璃本体取出。由此,蒙砂处理步骤中,玻璃本体沿第一端朝向第二端的方向上,与蒙砂处理溶液的反应时间由长变短,使得玻璃本体外表面的粗糙度和雾度由大变小,且变化均匀,且最终整个玻璃本体均浸入蒙砂处理溶液中,整个外表面的雾度和粗糙度均匀、自然变化且不会存在明显的阶梯外貌,而在化学抛光处理步骤中,玻璃本体的第一端与化学抛光溶液的接触时间最短,雾度下降最少,加强了渐变效果,得到的渐变玻璃从第一端到第二端可以实现100%~1%的渐变。
根据本发明的另一个具体实施例,所述玻璃本体包括相对的第一端和第二端,所述方法包括:将所述玻璃本体整体直接浸入蒙砂处理溶液中第一预定时间后取出,以在所述玻璃本体的外表面形成均匀蒙砂,得到经过所述蒙砂处理的玻璃本体;按照第三预定速度,将所述经过蒙砂处理的玻璃本体沿所述第二端朝向所述第一端的方向逐渐浸入化学抛光溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述化学抛光溶液中后,将所述玻璃本体取出。该方法中,蒙砂处理步骤中将玻璃本体整体直接快速浸入蒙砂处理溶液,即玻璃本体外表面的不同位置处基本在相同的时间点浸入蒙砂处理溶液中,由此形成均匀的凹凸结构,而蒙砂处理后的玻璃本体与化学抛光溶液的接触时间不同,造成玻璃本体外表面的雾度连续变化,形成渐变效果。
根据本发明的另一个具体实施例,所述玻璃本体包括相对的第一端和第二端,所述方法包括:按照第四预定速度、将所述玻璃本体沿所述第一端朝向所述第二端的方向逐渐浸入蒙砂处理溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述蒙砂处理溶液中后,将所述玻璃本体取出,得到经过所述蒙砂处理的玻璃本体;将所述经过蒙砂处理的玻璃本体整体直接浸入化学抛光溶液中第二预定时间后取出。该方法中,蒙砂处理步骤中玻璃本体与蒙砂处理溶液的接触时间不同,在第一端向第二端的方向上雾度逐渐变大,而化学抛光处理步骤中将玻璃本体整体直接快速浸入化学抛光溶液,即玻璃本体外表面的不同位置处基本在相同的时间点浸入化学抛光溶液中,不同位置处的雾度减小基本相同,最终形成雾度渐变的渐变玻璃。
根据本发明的实施例,上述第一预定速度、第二预定速度、第三预定速度和第四预定速度均没有特别限制,可以根据实际需要达到的雾度、玻璃本体的尺寸和成分、采用的蒙砂处理溶液和化学抛光溶液的种类和浓度等灵活选择,上述第一预定时间和第二预定时间也没有特别限制,也可以根据实际需要达到的雾度、玻璃本体的尺寸和成分、采用的蒙砂处理溶液和化学抛光溶液的种类和浓度等灵活选择,在此不再过多赘述。
本发明的该方法,通过先进行蒙砂处理可以在玻璃本体的外表面形成凹凸结构,以使得玻璃本体外表面具有一定的雾度,然后进行化学抛光处理,可以将凹凸结构的表面上的毛刺去除,使得凹凸结构的表面形成光滑或近似光滑的表面,从而大大减少漫反射作用,大大提高渐变玻璃的透光率。
在本发明的再一方面,本发明提供了一种电子设备壳体。根据本发明的实施例,该电子设备壳体包括前面所述的渐变玻璃。该电子设备壳体包括前面所述的渐变玻璃的全部特征和优点,在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例,该电子设备壳体可以是电子设备的后壳,也可以是电子设备的盖板,如手机、平板电脑等的前盖板等等,其具体形状、结构均可以根据实际产品的需要而进行选择。
在本发明的又一方面,本发明提供了一种电子设备。根据本发明的实施例,该电子设备包括前面所述的电子设备壳体。该电子设备包括前面所述的渐变玻璃和电子设备壳体的全部特征和优点,在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例,该电子设备的具体种类没有特别限制,例如包括但不限于显示器、手机、平板电脑、可穿戴设备、游戏机等等。另外,本领域技术人员可以理解,除了上述渐变玻璃或壳体外,该电子设备还包括常规电子设备所必备的结构和部件,以手机为例,其还可以包括显示屏、触控屏、CPU、指纹识别模组、摄像模组、声音处理系统以及必要的电路结构等等。
下面详细描述本发明的实施例。
实施例1
采用铝硅酸盐玻璃,厚度0.6mm,长度为160mm宽度为75mm。玻璃清洗干净,玻璃某一面用耐酸油墨遮蔽,将玻璃A端固定,B端(与A端相对的另一端)以速度1.2mm/S的速度下降,直至玻璃整个浸入蒙砂处理液体(氟化氢铵质量比25%,氟化钾质量比5%,硫酸钡质量比8%的水溶液)中,后快速提拉出液面,再用大量水清洗。玻璃表面形成渐变蒙砂效果,A端表面粗糙度RA为0.15微米,雾度35%(测试方法:用标准“c”光源的一束平行光垂直照射到渐变玻璃上,检测偏离入射光方向大于2.5°角的散射光通量Td与透过渐变玻璃的光通量T2的之比的百分率,本文中雾度测试方法均同此),B端表面粗糙度RA为0.35微米,雾度90%。再将玻璃B端固定,A端以速度0.2mm/S速度浸入化学抛光酸液(含有5wt%的氢氟酸,2wt%的硫酸的水溶液),直至玻璃完全浸入化学抛光酸液,后快速提拉出液面,用大量水清洗干净吹干。A端表面粗糙度RA降至0.1微米,雾度5%,B端表面粗糙度RA降至0.32微米,雾度82%。在得到的渐变玻璃1的A端、B端以及A端和B端中间的位置分别测试多次透过率,多次测试中透过率的最小值为88%。
实施例2
采用铝硅酸盐玻璃,厚度0.6mm,长度为160mm宽度为75mm。玻璃清洗干净,将玻璃整体直接浸入蒙砂酸液(氟化氢铵质量比30%,氟化钾质量比5%,硫酸钡质量比8%的水溶液)将玻璃均匀腐蚀,玻璃形成表面粗糙度RA为0.4微米,雾度99%的砂面效果,清洗吹干待用。将玻璃A端固定,B端(与A端相对的另一端)以0.12mm/S的速度下降,直至玻璃全部浸入化学抛光酸液(含有5wt%的氢氟酸,2wt%的硫酸的水溶液),后快速提拉出液面,再用大量水清洗。A端表面粗糙度RA为0.36微米,雾度90%,B端表面粗糙度为0.1微米,雾度15%。实现整面均匀渐变蚀刻。在得到的渐变玻璃2的A端、B端以及A端和B端中间的位置分别测试多次透过率,多次测试中透过率的最小值为90%。
实施例3
采用铝硅酸盐玻璃,厚度0.6mm,长度为160mm,宽度为75mm。玻璃清洗干净,玻璃某一面用耐酸油墨遮蔽,将玻璃A端固定,B端(与A端相对的另一端)以速度1.2mm/S的速度下降,直至玻璃整个浸入蒙砂处理溶液(氟化氢铵质量比30%,氟化钾质量比5%,硫酸钡质量比8%的水溶液)中,后快速提拉出液面,再用大量水清洗。玻璃表面形成渐变蒙砂效果,A端表面粗糙度RA为0.15微米,雾度35%,B端表面粗糙度RA为0.35微米,雾度90%。再将玻璃整体浸入化学抛光酸液(含有5wt%的氢氟酸,2wt%的硫酸的水溶液)中10分钟,A端表面粗糙度RA为0.12微米,雾度8%,B端表面粗糙度RA为0.2微米,雾度60%。在得到的渐变玻璃3在渐变玻璃A端、B端和A端和B端中间的位置分别测试多次透过率,多次测试中透过率的最小值为91%。
对比例1
采用铝硅酸盐玻璃,厚度0.6mm,长度为160mm宽度为75mm。玻璃清洗干净,玻璃某一面用耐酸油墨遮蔽,将玻璃A端固定,B端(与A端相对的另一端)以速度1.2mm/S的速度下降,直至玻璃整个浸入蒙砂处理液体(氟化氢铵质量比30%,氟化钾质量比5%,硫酸钡质量比8%的水溶液)中,后快速提拉出液面,再用大量水清洗。玻璃表面形成渐变蒙砂效果,A端表面粗糙度RA为0.15微米,雾度35%,B端表面粗糙度RA为0.35微米,雾度90%。在得到的渐变玻璃D1的A端、B端和A端和B端中间的位置分别测试多次透过率,多次测试中透过率的最小值为68%。
性能测试:
将实施例1-3和对比例1中得到的渐变玻璃1-3和D1进行化学强化,然后将经过强化的渐变玻璃1-3和D1进行落球测试和表面应力测试,其中:
落球测试的具体测试步骤为:使钢球(32g)从65cm、65cm、70cm、75cm、80cm、85cm的高度砸渐变玻璃中心,每个高度测试五次,在高度为85cm处落球测试后渐变玻璃没有破碎,则认为渐变玻璃符合要求)。
表面应力测试采用表面应力测试仪进行测试,满足要求的表面应力标准:680mPa≤CS(表面压应力)≤850mPa,8微米≤DOL(应力层深度)≤10微米,70mPa≤CSK(拐角应力)≤110mPa,100微米≤DOC(零应力深度)≤115微米,44mPa≤CT(中心张应力)≤95mPa。
性能测试结果:
Figure BDA0001965416070000081
注:“-”表示未测试
由上述测试可知,根据本发明实施例的渐变玻璃经过化学强化后表面应力复合要求,能够满足电子盖板玻璃、壳体等的使用要求,且力学性能较佳,而对比例1中只经过蒙砂处理的渐变玻璃力学性能相对较差。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个B该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (11)

1.一种渐变玻璃,其特征在于,包括:
玻璃本体,所述玻璃本体的至少一部分外表面的雾度大于0,且在预定方向上所述雾度逐渐变化,且所述玻璃本体任意位置处的透光率均大于85%。
2.根据权利要求1所述的渐变玻璃,其特征在于,所述玻璃本体的全部外表面的雾度均大于0。
3.根据权利要求1所述的渐变玻璃,其特征在于,所述玻璃本体雾度大于0的外表上具有凹凸结构,且所述凹凸结构的表面为光滑表面或近似光滑的表面。
4.根据权利要求1所述的渐变玻璃,其特征在于,所述玻璃本体的厚度为0.1~1.0mm,且所述玻璃本体的外表面的表面粗糙度RA不大于1微米。
5.根据权利要求1所述的渐变玻璃,其特征在于,在所述预定方向上,所述雾度的最大值和所述雾度的最小值之间的差值可以为1%~99%,优选为20%~80%。
6.一种制备权利要求1-5中任一项所述的渐变玻璃的方法,其特征在于,包括:
对玻璃本体的至少一部分外表面进行蒙砂处理;
对经过所述蒙砂处理的外表面进行化学抛光处理。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述玻璃本体包括相对的第一端和第二端,所述方法包括:
按照第一预定速度、将所述玻璃本体沿所述第一端朝向所述第二端的方向逐渐浸入蒙砂处理溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述蒙砂处理溶液中后,将所述玻璃本体取出,得到经过所述蒙砂处理的玻璃本体;
按照第二预定速度,将经过所述蒙砂处理的玻璃本体沿所述第二端朝向所述第一端的方向逐渐浸入化学抛光溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述化学抛光溶液中后,将所述玻璃本体取出。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述玻璃本体包括相对的第一端和第二端,所述方法包括:
将所述玻璃本体整体直接浸入蒙砂处理溶液中第一预定时间后取出,以在所述玻璃本体的外表面形成均匀蒙砂,得到经过所述蒙砂处理的玻璃本体;
按照第三预定速度,将所述经过蒙砂处理的玻璃本体沿所述第二端朝向所述第一端的方向逐渐浸入化学抛光溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述化学抛光溶液中后,将所述玻璃本体取出。
9.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述玻璃本体包括相对的第一端和第二端,所述方法包括:
按照第四预定速度、将所述玻璃本体沿所述第一端朝向所述第二端的方向逐渐浸入蒙砂处理溶液中,待所述玻璃本体全部浸入所述蒙砂处理溶液中后,将所述玻璃本体取出,得到经过所述蒙砂处理的玻璃本体;
将所述经过蒙砂处理的玻璃本体整体直接浸入化学抛光溶液中第二预定时间后取出。
10.一种电子设备壳体,其特征在于,包括权利要求1-5中任一项所述的渐变玻璃。
11.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求10所述的电子设备壳体。
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