CN111497355A - 一种光学膜及制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供了一种光学膜及制作方法，该光学膜包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于第一柔性基板和第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；第一柔性基板具有面向第二柔性基板的第一光扩散表面，第一氧化层位于第一光扩散表面上；第二柔性基板具有面向第一柔性基板的第二光扩散表面，第二氧化层位于第二光扩散表面上；量子点胶水层位于第一氧化层和第二氧化层之间。本发明提出的一种光学膜及制作方法，通过将在第一柔性基板上设置第一光扩散表面，在第二柔性基板上设置第二光扩散表面，不需要另外添加光扩散粉，有效降低成膜成本，减少成膜工艺流程，减少成膜的厚度，降低了光扩散粉层对光线的吸收率。
Description
技术领域
本发明施例涉及电子显示技术领域，尤其涉及一种光学膜及制作方法。
背景技术
量子点材料具有发射谱窄、色纯度稿、色域广等优点，广泛的应用于新一代显示和照明领域中。
现有技术中，对通过在量子点光学膜附加光扩散粉来实现扩散作用，而且由于量子点表面具有化学性能活泼的纳米颗粒，容易受到温度，湿度的影响，造成表面氧化的现象，所以量子点光学膜主要依靠上下两层高水养阻隔率的阻隔膜来实现对量子点的保护。
现有技术中光扩散粉膜层和高水养阻隔率的阻隔膜是彼此分开的两个膜层，导致制备工艺复杂，工序较多，厚度也无法进一步的削减，并且现有技术中，上下两层高水养阻隔率的阻隔膜的表面对可见光会有微弱的吸收，使得最终的产品显示会有灰度。
发明内容
本发明实施例的目的在于提出一种光学膜及制作方法，降低了成膜的厚度，减少成膜工艺，增加光线透过率。
为达此目的，本发明实施例提供了一种光学膜，该光学膜包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；
所述第一柔性基板具有面向所述第二柔性基板的第一光扩散表面，所述第一氧化层位于所述第一光扩散表面上；
所述第二柔性基板具有面向所述第一柔性基板的第二光扩散表面，所述第二氧化层位于所述第二光扩散表面上；
所述量子点胶水层位于所述第一氧化层和所述第二氧化层之间。
可选地，所述第一柔性基板、所述第一光扩散表面、所述第二柔性基板和所述第二光扩散表面为柔性透明高分子基材。
可选地，所述第一光扩散表面和所述第二光扩散表面的粗糙度介于0.1μm-3μm。
可选地，所述第一氧化层和所述第二氧化层的组成材料包括氧化铝、氟化锂或者聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。
可选地，所述量子点胶水层包括均匀分布的量子点和固化胶水。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种光学膜的制作方法，该光学膜的制作方法包括：
提供一第一柔性基板和一第二柔性基板；
在所述第一柔性基板上喷涂有机溶剂以溶胀溶解所述第一柔性基板的表面并形成第一光扩散表面，在所述第二柔性基板上喷涂有机溶剂以溶胀溶解所述第二柔性基板的表面并形成第二光扩散表面；
对所述第一光扩散表面进行隔离沉积以在所述第一光扩散表面形成第一氧化层，对所述第二光扩散表面进行隔离沉积以在所述第二光扩散表面形成第二氧化层；
在所述第一氧化层的表面均匀涂布量子点并胶水固化所述量子点以形成量子点胶水层；
贴合所述量子点胶水层和所述第二氧化层。
可选地，所述第一柔性基板和所述第二柔性基板均为柔性透明高分子基材。
可选地，形成氧化层之前，还包括：
静置柔性基板直至所述柔性基板表面的有机溶剂挥发完全。
可选地，通过原子沉积技术在光扩散表面进行隔离沉积。
可选地，贴合所述量子点胶水层和所述第二氧化层之后，还包括：通过光固化技术进行贴合固化。
本发明实施例提供的一种光学膜及制作方法，相对设置第一柔性基板和第二柔性基板，第一柔性基板的面向第二柔性基板的表面为第一光扩散表面，第二柔性基板的面向第一柔性基板的表面为第二光扩散表面，无需另外单独的设置光扩散粉形成的光扩散层，避免了扩散粉在高浓度的情况下分散与涂抹不均匀的情况，降低了成膜的厚度，有效的减少了成膜工艺的步骤；在第一光扩散表面上设置第一氧化层，在第二光扩散表面上设置第二氧化层，并在第一氧化层和第二氧化层之间设置量子点胶水层，对量子点进行有效保护，能够防止量子点受到温度、湿度的影响，避免氧化和出现荧光淬灭等问题，与现有技术相比，不必使用上下两层高水养阻隔率的阻隔膜来保护量子点，降低了成膜成本，并进一步的减少了光学膜的厚度，同时减少了上下两层高水养阻隔率的阻隔膜对可见光的吸收，减少光学膜的灰度，提高光学膜的透光率。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种光学膜结构示意图。
图2是本发明实施例提供的一种光学膜制作方法流程图。
图3是本发明实施例提供的一种光学膜的柔性基板成型示意图。
图4是本发明实施例提供的一种光学膜的柔性基板形成光扩散表面示意图。
图5是本发明实施例提供的一种光学膜的氧化层成型示意图。
图6是本发明实施例提供的一种光学膜的量子点胶水层成型示意图。
图7是本发明实施例提供的一种光学膜的成型示意图。
具体实施方式
为使发明实施例解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明发明的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释发明，而非对发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分而非全部内容。在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项操作(或步骤)描述成顺序的处理，但是其中的许多操作可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项操作的顺序可以被重新安排。
图1是本发明实施例提供的一种光学膜结构示意图，如图1所示，本发明实施例提供的一种光学膜，该光学膜包括：相对设置的第一柔性基板1和第二柔性基板2，位于第一柔性基板1和第二柔性基板2之间的第一氧化层3、量子点胶水层5和第二氧化层4；
第一柔性基板1具有面向第二柔性基板2的第一光扩散表面6，第一氧化层3位于第一光扩散表面6上；
第二柔性基板2具有面向第一柔性基板1的第二光扩散表面7，第二氧化层4位于第二光扩散表面7上；
量子点胶水层5位于第一氧化层3和第二氧化层4之间。
通过相对设置第一柔性基板1和第二柔性基板2，并在第一柔性基板1上具有面向第二柔性基板2的第一光扩散表面6，在第二柔性基板2上具有面向第一柔性基板1的第二光扩散表面7，代替了传统光学膜的光扩散层，无需另外单独的设置光扩散粉形成的光扩散层，避免了扩散粉在高浓度的情况下分散与涂抹不均匀的情况，降低了成膜的厚度，有效的减少了成膜工艺的步骤。在第一光扩散表面6上设置第一氧化层3，在第二光扩散表面7上设置第二氧化层4，并在第一氧化层3和第二氧化层4之间设置量子点胶水层5，对量子点进行有效保护，防止量子点受到温度，湿度的影响，避免量子点发生氧化，出现荧光淬灭的问题，通过设置第一氧化层3和第二氧化层4，代替了上下两层高水养阻隔率的阻隔膜，降低了成膜成本，并进一步的降低了光学膜的厚度，同时一氧化层3和第二氧化层4不会吸收可见光，减少了光学膜的灰度，提高光学膜的透光率。
可选地，第一柔性基板1、第一光扩散表面6、第二柔性基板2和第二光扩散表面7为柔性透明高分子基材。
第一柔性基板1和第二柔性基板2为柔性高分子材料，示例性的，采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)作为第一柔性基板1和第二柔性基板2的材料，PET材料不易产生热变形，在高温下具有良好的稳定性，既不会变形也不会变色，可以保证光学膜的良好透光率，并且PET材料的弯曲强度大，弹性模量高，表面硬度强，增强了光学膜的柔韧度。
可选地，第一光扩散表面6和第二光扩散表面7的粗糙度介于0.1μm-3μm。
第一光扩散表面6和第二光扩散表面7的粗糙度介于0.1μm-3μm之间，优选的，第一光扩散表面6和第二光扩散表面7的粗糙度为1μm，保证了光线通过第一光扩散表面6和第二光扩散表面7时，能够发生漫反射，起到光扩散的作用，提高光学成像的质量，从而代替了采用光扩散粉形成光的扩散层，通过有机溶剂在第一柔性基板1表面溶胀形成第一光扩散表面6，通过有机溶剂在第二柔性基板2表面溶胀形成第二光扩散表面7，减少了加工的工艺步骤，降低了光学膜的厚度。
可选地，第一氧化层3和第二氧化层4的组成材料包括氧化铝、氟化锂或者聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。
示例性的，采用氧化铝作为第一氧化层3和第二氧化层4的组成材料，氧化铝的作用是提供一层氧化保护层，将量子点与空气有效的隔离开，如此，，在量子点与水、氧气之间形成氧化层，可有效的防止量子点被空气中的水氧氧化或侵蚀。聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，简称PMMA)，是一种有机物，俗称亚克力或者有机玻璃，采用PMMA作为第一氧化层3和第二氧化层4的组成材料，具有很高的透明度，增加光线的透过率，并且PMMA材料易于加工制造，价格低廉。
可选地，量子点胶水层5包括均匀分布的量子点8和固化胶水(图中未示出)。
将量子点8设置在第一氧化层3与第二氧化层4之间，有效防止了量子点被氧化，保证量子点8的质量，通过均匀分布涂抹量子点8，并利用固化胶水固化，保证量子点8的色纯度高、色域广，增强光学膜的色彩，使得光学膜成像效果更佳细腻。
图2是本发明实施例提供的一种光学膜制作方法流程图，图3-7是本发明实施例提供的一种光学膜制作方法成型示意图，如图2和图3-7所示，一种光学膜的制作方法包括：
S101、提供一第一柔性基板10和一第二柔性基板20。
第一柔性基板10和第二柔性基板20采用柔性透明有机高分子材料制作，提高光学膜的稳定性，保证光学膜的良好透光率，增强光学膜的柔韧性。
S102、在第一柔性基板10上喷涂有机溶剂以溶胀溶解第一柔性基板10的表面并形成第一光扩散表面11，在第二柔性基板20上喷涂有机溶剂以溶胀溶解第二柔性基板20的表面并形成第二光扩散表面21。
在第一柔性基板10和第二柔性基板20上大面积的喷涂有机溶剂，对第一柔性基板10和第二柔性基板20的表面进行溶胀溶解，使得第一柔性基板10和第二柔性基板20的表面凹凸不平，保证粗糙度，在在第一柔性基板10上产生第一光扩散表面11，在在第二柔性基板20上产生第二光扩散表面21，达到光扩散的作用，在第一柔性基板10和第二柔性基板20上喷涂有机溶剂，将第一柔性基板10和第二柔性基板20的表面溶胀溶解，减少了重新采用扩散粉制作光扩散层的工艺步骤，通过有机溶剂在第一柔性基板10的表面溶胀形成第一光扩散表面11，在第二柔性基板20的表面溶胀形成第二光扩散表面21方便加工生产，降低了光学膜的厚度，有效避免了高浓度扩散粉分散以及涂抹不均匀的问题。
S103、对第一光扩散表面11进行隔离沉积以在第一光扩散表面11形成第一氧化层12，对第二光扩散表面21进行隔离沉积以在第二光扩散表面21形成第二氧化层22。
通过在第一光扩散表面11进行隔离沉积，形成第一氧化层12，在第二光扩散表面21进行隔离沉积，形成第二氧化层22，避免了量子点被空气中的水与氧气氧化，保障了量子点的质量，通过隔离沉积形成第一氧化层12和第二氧化层22，替代了传统工艺上下两层高水养阻隔率的阻隔膜，，减少了上下两层高水养阻隔率的阻隔膜对可见光的吸收，增加光学膜的透光率。示例性的，采用氧化铝在第一光扩散表面11和第二光扩散表面21进行沉积，形成第一氧化层12和第二氧化层22。
S104、在第一氧化层12的表面均匀涂布量子点131并胶水固化量子点131以形成量子点胶水层13。
在第一氧化层12的表面均匀涂布量子点131，防止量子点131被空气中的水氧氧化，采用胶水固化均匀涂布的量子点131，保证量子点131的功能与质量以及量子点131的色纯度。
S105、贴合量子点胶水层13和第二氧化层22。
在量子点胶水层13表面贴合第二氧化层22，第二氧化层22与量子点胶水层13接触，使得量子点胶水层13位于第一氧化层12和第二氧化层22之间，有效保证量子点131不被氧化，通过贴合第二氧化层22，既可以保护量子点131不被氧化，又具备光扩散性能，还可以使得光学膜更轻薄，便于制作。
在相对设置的第一柔性基板10和第二柔性基板20上通过有机溶剂形成具有粗糙度的第一光扩散表面11第二光扩散表面21，替代了传统采用光扩散粉形成的光扩散层，兼具光扩散作用的情况下，降低了光学膜的厚度，减少了工业流程步骤，示例性的，采用氧化铝形成第一氧化层12和第二氧化层22，保护量子点131不被氧化，替代传统上下两层高水养阻隔率的阻隔膜保护量子点131的方式，减少了上下两层高水养阻隔率的阻隔膜对可见光的吸收，降低光学膜的灰度，提升光学膜的透光率。
可选地，第一柔性基板10和第二柔性基板20均为柔性透明高分子基材。
示例性的，采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)作为第一柔性基板10和第二柔性基板20的材料，保证光学膜的良好透光率，增强了光学膜的柔韧度。可选地，形成氧化层之前，还包括：
静置柔性基板直至柔性基板表面的有机溶剂挥发完全。
有机溶剂采用易挥发成分，在对第一柔性基板10和第二柔性基板20进行溶胀溶解后，静止一段时间，保证有机溶剂有效的挥发，不会对光学膜产生影响，保证光学膜的质量。
可选地，通过原子沉积技术在光扩散表面进行隔离沉积。
示例性的，利用氧化铝材料通过原子沉积系统对第一光扩散表面11和第二光扩散表面21进行隔离沉积，保证氧化铝在第一光扩散表面11有效的形成第一氧化层12，在第二光扩散表面21有效行程第二氧化层22，提高对量子点131的保护质量。
可选地，通过光固化技术进行贴合固化。
通过对成膜后的光学膜进行固化，增强光学膜的韧性，增强光学膜的附着力，强度，同时保证光学膜的良好外观，提升美感。
注意，上述仅为发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对发明进行了较为详细的说明，但是发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种光学膜，其特征在于，包括：相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板，位于所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间的第一氧化层、量子点胶水层和第二氧化层；
所述第一柔性基板具有面向所述第二柔性基板的第一光扩散表面，所述第一氧化层位于所述第一光扩散表面上；
所述第二柔性基板具有面向所述第一柔性基板的第二光扩散表面，所述第二氧化层位于所述第二光扩散表面上；
所述量子点胶水层位于所述第一氧化层和所述第二氧化层之间。
2.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述第一柔性基板和所述第二柔性基板均为柔性透明高分子基材。
3.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述第一光扩散表面和所述第二光扩散表面的粗糙度均介于0.1μm-3μm。
4.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述第一氧化层和所述第二氧化层的组成材料包括氧化铝、氟化锂和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种光学膜，其特征在于，所述量子点胶水层包括均匀分布的量子点和固化胶水。
6.一种光学膜的制作方法，其特征在于，包括：
提供一第一柔性基板和一第二柔性基板；
在所述第一柔性基板上喷涂有机溶剂以溶胀溶解所述第一柔性基板的表面并形成第一光扩散表面，在所述第二柔性基板上喷涂有机溶剂以溶胀溶解所述第二柔性基板的表面并形成第二光扩散表面；
对所述第一光扩散表面进行隔离沉积以在所述第一光扩散表面形成第一氧化层，对所述第二光扩散表面进行隔离沉积以在所述第二光扩散表面形成第二氧化层；
在所述第一氧化层的表面均匀涂布量子点并胶水固化所述量子点以形成量子点胶水层；
贴合所述量子点胶水层和所述第二氧化层。
7.根据权利要求6所述的光学膜的制作方法，其特征在于，所述第一柔性基板和所述第二柔性基板均为柔性透明高分子基材。
8.根据权利要求7所述的光学膜的制作方法，其特征在于，形成氧化层之前，还包括：
静置柔性基板直至所述柔性基板表面的有机溶剂挥发完全。
9.根据权利要求6所述的光学膜的制作方法，其特征在于，通过原子沉积技术在光扩散表面进行隔离沉积。
10.根据权利要求6所述的光学膜的制作方法，其特征在于，还包括：通过光固化技术进行贴合固化。
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| CN202010342242.4A CN111497355A (zh) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 一种光学膜及制作方法 |
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|---|
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