CN111482744A - 一种镭雕治具 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及镭雕设备领域，具体公开了一种镭雕治具，该镭雕治具包括治具本体，治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；第一真空腔及第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，吸附孔与第一真空腔连通；仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔，落料孔与第二真空腔连通。该镭雕治具能够实现薄膜平整吸附，并且及时吸走被镭雕掉的废料，避免造成落料孔堵塞。

Description

一种镭雕治具
技术领域
本发明涉及镭雕设备领域，尤其涉及一种镭雕治具。
背景技术
现有的电脑键盘用PET薄膜，其外形及内孔均采用镭雕加工。
在进行镭雕加工时，通常采用镭雕治具固定PET薄膜。但是，现使用的镭雕治具存在以下问题：定位不精确、不平整；加工过程中薄膜容易变形、扭曲等，从而影响薄膜镭雕精度，产生不良品。另外，不能及时清理镭雕掉的废料，容易造成落料孔堵塞。
因此，有必要设计一种镭雕治具，以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种镭雕治具，能够实现薄膜平整吸附，并且及时吸走被镭雕掉的废料，避免造成落料孔堵塞。
为了实现上述目的，本发明采用如下的技术方案：
一种镭雕治具，包括治具本体，所述治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；所述第一真空腔及所述第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；
所述治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；所述仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，所述吸附孔与所述第一真空腔连通；所述仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔，所述落料孔与所述第二真空腔连通。
进一步地，所述治具本体包括：
定位板，其上开设有所述仿形定位凹槽及各所述吸附孔；及
隔离板，其与所述定位板的底面连接并形成所述第一真空腔。
进一步地，所述定位板的底面开设有第一凹槽，所述隔离板的顶面开设有第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽拼接形成所述第一真空腔。
进一步地，所述治具本体还包括中空且顶面敞口的腔体，所述腔体与所述隔离板的底面连接并形成所述第二真空腔；各所述落料孔均包括上下贯通的第一通孔及第二通孔，所述定位板开设有所述第一通孔，所述隔离板开设有所述第二通孔。
进一步地，所述第一凹槽的内底面朝向所述隔离板延伸有多个凸柱，各所述凸柱的底面均与所述隔离板的顶面相贴合；各所述第一通孔分别同轴开设于各所述凸柱内。
进一步地，所述腔体的顶面设置有至少两个定位销。
进一步地，所述第一真空腔连接有两个所述真空放大器。
进一步地，所述第二真空腔连接有一个所述真空放大器。
本发明的有益效果是：通过在治具本体的顶面开设仿形定位凹槽，在治具本体内设置第一真空腔，并通过仿形定位凹槽的四周及底面开设的多个吸附孔与第一真空腔连通，从而实现对薄膜平整、牢固吸附，保证了薄膜的镭雕精度；通过在治具本体内设置第二真空腔，并通过仿形定位凹槽的底面开设的多个落料孔与第二真空腔连通，从而及时吸走被镭雕掉的废料，避免造成落料孔堵塞。
附图说明
图1是本发明提供的镭雕治具的立体结构示意图；
图2是本发明提供的镭雕治具的局部剖面结构示意图；
图3是图2中的定位板的结构示意图；
图4是图2中的隔离板的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
如图1-2所示，一种镭雕治具，包括治具本体100，该治具本体100内部具有相互隔开的第一真空腔10及第二真空腔20；第一真空腔10及第二真空腔20 分别连接有至少一个真空放大器70；治具本体100的顶面开设有用于对待镭雕薄膜200进行定位的仿形定位凹槽31；仿形定位凹槽31的四周及底面开设有多个吸附孔32，吸附孔32与第一真空腔10连通；仿形定位凹槽31的底面还开设有多个落料孔60，落料孔60与第二真空腔20连通。
具体的，该治具本体100包括从上至下依次连接的定位板30、隔离板40及中空且顶面敞口的腔体50。其中，定位板30的结构如图3所示，采用CNC加工方式，在定位板30的顶面加工出仿形定位凹槽31，以实现对薄膜200的精准定位；各吸附孔32均开设于定位板30上；定位板30的底面开设有第一凹槽34，各吸附孔32均与该第一凹槽34连通。隔离板40的结构如图4所示，其顶面开设有第二凹槽41，第一凹槽34与第二凹槽41拼接形成上述的第一真空腔10。腔体50与隔离板40连接形成第二真空腔20。各落料孔60均包括上下贯通的第一通孔33及第二通孔42，其中，第一通孔33开设于定位板30上，第二通孔 42开设于隔离板40上。
进一步地，第一凹槽34的内底面朝向隔离板40延伸有多个凸柱35，各凸柱35的底面均与隔离板40的顶面相贴合；各第一通孔33分别同轴开设于各凸柱35内，通过各凸柱35实现了第一真空腔10及第二真空腔20之间的隔离。
为了保证该镭雕治具的装配精度，可在腔体50的顶面设置有至少两个定位销80，以用于对隔离板40及定位板30进行定位。另外，该镭雕治具还设置有多个锁紧螺钉90，用于将隔离板40及定位板30与腔体50锁紧连接。
作为本发明的优选方案，第一真空腔10连接有两个真空放大器70，这两个真空放大器70的一端均与第二凹槽41连通，另一端与抽真空设备连通。采用两个大吸力的真空放大器70，可实现对薄膜200的平整吸附。第二真空腔20连接有一个真空放大器70，该真空放大器70的一端与腔体50的内部连通，另一端与抽真空设备连通。采用一个大吸力的真空放大器70，可及时吸走被镭雕掉的废料，从而避免废料堵塞落料孔60。
本发明的镭雕治具，使用时，将待镭雕薄膜200放置于仿形定位凹槽31内；向第一真空腔10内抽真空，由于各吸附孔32与第一真空腔10连通，从而将薄膜200牢固且平整地吸附固定，保证了薄膜200的镭雕精度；向第二真空腔20 内抽真空，由于落料孔60与第二真空腔20连通，从而将被镭雕掉的废料及时吸走，避免废料堵塞落料孔60。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理，这些描述只是为了解释本发明原理，不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处解释，本领域技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种镭雕治具，其特征在于，包括治具本体，所述治具本体内部具有相互隔开的第一真空腔及第二真空腔；所述第一真空腔及所述第二真空腔分别连接有至少一个真空放大器；
所述治具本体的顶面开设有用于对待镭雕薄膜进行定位的仿形定位凹槽；所述仿形定位凹槽的四周及底面开设有多个吸附孔，所述吸附孔与所述第一真空腔连通；所述仿形定位凹槽的底面还开设有多个落料孔，所述落料孔与所述第二真空腔连通。
2.根据权利要求1所述的镭雕治具，其特征在于，所述治具本体包括：
定位板，其上开设有所述仿形定位凹槽及各所述吸附孔；及
隔离板，其与所述定位板的底面连接并形成所述第一真空腔。
3.根据权利要求2所述的镭雕治具，其特征在于，所述定位板的底面开设有第一凹槽，所述隔离板的顶面开设有第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽拼接形成所述第一真空腔。
4.根据权利要求2或3所述的镭雕治具，其特征在于，所述治具本体还包括中空且顶面敞口的腔体，所述腔体与所述隔离板的底面连接并形成所述第二真空腔；各所述落料孔均包括上下贯通的第一通孔及第二通孔，所述定位板开设有所述第一通孔，所述隔离板开设有所述第二通孔。
5.根据权利要求4所述的镭雕治具，其特征在于，所述第一凹槽的内底面朝向所述隔离板延伸有多个凸柱，各所述凸柱的底面均与所述隔离板的顶面相贴合；各所述第一通孔分别同轴开设于各所述凸柱内。
6.根据权利要求4所述的镭雕治具，其特征在于，所述腔体的顶面设置有至少两个定位销。
7.根据权利要求1所述的镭雕治具，其特征在于，所述第一真空腔连接有两个所述真空放大器。
8.根据权利要求1所述的镭雕治具，其特征在于，所述第二真空腔连接有一个所述真空放大器。
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