CN111477635A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

显示面板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111477635A
CN111477635A CN202010286369.9A CN202010286369A CN111477635A CN 111477635 A CN111477635 A CN 111477635A CN 202010286369 A CN202010286369 A CN 202010286369A CN 111477635 A CN111477635 A CN 111477635A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
substrate
light shielding
display panel
metal layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202010286369.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111477635B (zh
Inventor
蔡俊飞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Visionox Technology Co Ltd
Original Assignee
Hefei Visionox Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Visionox Technology Co Ltd filed Critical Hefei Visionox Technology Co Ltd
Priority to CN202010286369.9A priority Critical patent/CN111477635B/zh
Publication of CN111477635A publication Critical patent/CN111477635A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111477635B publication Critical patent/CN111477635B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06VIMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V40/00Recognition of biometric, human-related or animal-related patterns in image or video data
    • G06V40/10Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
    • G06V40/12Fingerprints or palmprints
    • G06V40/13Sensors therefor
    • G06V40/1324Sensors therefor by using geometrical optics, e.g. using prisms
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/126Shielding, e.g. light-blocking means over the TFTs
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40OLEDs integrated with touch screens

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置,显示面板中阵列电路层包括设置于基板一侧的至少三层金属层,其中金属层包括电路结构部,至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他金属层中的至少一层作为辅助遮光层,遮光层包括遮光部,遮光部与同层的电路结构部绝缘设置形成镂空部;遮光部开设有至少一个过孔,在显示面板的厚度方向上,过孔与辅助遮光层、第一电极层均无交叠;第一电极层和/或辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影。本发明技术方案,可以简化显示面板的制作工艺,有利于降低生产成本;有利于实现显示面板的轻薄化;有利于提高指纹识别精度。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展,屏下指纹识别结构在显示面板中的应用越来越广泛。
现有显示面板中,利用小孔成像原理开发的光学指纹识别技术以其高精度的优势被广泛应用,该技术主要在显示面板中集成一层开设有小孔的遮光膜层,即MAPIS(Matrixpinhole image sensing system,矩阵小孔成像系统)层。
然而,现有包括开设有小孔遮光膜层的显示面板工艺较为复杂,成本较高,且不利于显示面板的轻薄化。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置,以实现屏下指纹识别的同时,简化显示面板的工艺,降低生产成本以及实现显示面板的轻薄化。
第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,包括:
基板;
设置于基板一侧的阵列电路层以及设置于阵列电路层远离基板一侧的发光器件层,发光器件层包括自阵列电路层一侧层叠设置的第一电极层、发光层和第二电极层;
其中阵列电路层包括设置于基板一侧的至少三层金属层,其中金属层包括电路结构部,至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他金属层中的至少一层作为辅助遮光层,遮光层包括遮光部,遮光部与同层的电路结构部绝缘设置形成镂空部;遮光部开设有至少一个过孔,在显示面板的厚度方向上,过孔与辅助遮光层、第一电极层均无交叠;
第一电极层和/或辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影。
可选的,阵列电路层包括多个薄膜晶体管和多个电容;
阵列电路层包括自基板一侧向远离基板方向设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,其中第一金属层的电路结构部包括薄膜晶体管的栅极、电容的第一极板和栅极线,第二金属层的电路结构部包括电容的第二极板,第三金属层的电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、数据线和电源线,其中第二金属层作为遮光层,镂空部围绕第二极板,第一金属层和/或第三金属层作为辅助遮光层。
可选的,多个薄膜晶体管包括第一薄膜晶体管;
第三金属层的源漏部包括第一部和第二部,第一薄膜晶体管的第一部与第一电极层电连接;
同一第一薄膜晶体管的第一部在基板上的正交投影和栅极在基板上的正交投影之间包括第一区域,第一电极层在基板上的正交投影覆盖第一区域;
同一第一薄膜晶体管的第二部在基板上的正交投影和栅极在基板上的正交投影之间包括第二区域,遮光部在基板上的正交投影覆盖第二区域;
可选的,多个薄膜晶体管还包括第二薄膜晶体管,第二薄膜晶体管与第一薄膜晶体管或电容电连接,同一第二薄膜晶体管的第一部在基板上的正交投影和栅极在基板上的正交投影之间包括第三区域,同一第二薄膜晶体管的第二部在基板上的正交投影和栅极在基板上的正交投影之间包括第四区域,遮光部在基板上的正交投影覆盖第三区域和第四区域。
可选的,电容的第一极板和第二极板均包括至少一个过孔,在垂直于显示面板出光面的方向上,第一极板的过孔位置与第二极板的过孔位置相对应。
可选的,阵列电路层包括多个薄膜晶体管和多个电容;
阵列电路层包括自基板一侧向远离基板方向设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,其中第一金属层的电路结构部包括薄膜晶体管的栅极、电容的第一极板和栅极线,第二金属层的电路结构部包括电容的第二极板,第三金属层的电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、信号传输线;
第一金属层作为遮光层,第二金属层和/或第三金属层作为辅助遮光层;遮光部设置于相邻两条栅极线之间,且遮光部与两侧的栅极线之间包括镂空部;
或者第三金属层作为遮光层,第一金属层和/或第二金属层作为辅助遮光层;遮光部设置于相邻两条信号传输线之间,遮光部与两侧的信号传输线之间包括镂空部,其中信号传输线包括数据线和电源线。
可选的,第一电极层和辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影;辅助遮光层中至少包括第二金属层,第二金属层包括辅助遮光部,辅助遮光部、辅助遮光层的电路结构部、以及第一电极层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影。
可选的,在显示面板厚度方向上,遮光部与辅助遮光层的电路结构部、第一电极层均无交叠。
可选的,显示面板还包括图像传感元件,图像传感元件设置于基板与阵列电路层之间;或者图像传感元件设置于基板远离阵列电路层的一侧,在显示面板的厚度方向上,图像传感元件至少与一个过孔相对应。
第二方面,本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,包括:
在基板一侧形成阵列电路层;
在阵列电路层远离基板一侧的形成发光器件层,发光器件层包括自阵列电路层层叠设置的第一电极层、发光层和第二电极层;
其中在基板一侧形成阵列电路层包括:
在基板一侧形成至少三层金属层,其中金属层包括电路结构部,至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他金属层中的至少一层作为辅助遮光层,遮光层包括遮光部,遮光部与同层的电路结构部绝缘设置形成镂空部;遮光部开设有至少一个过孔,在显示面板的厚度方向上,过孔与辅助遮光层、第一电极层均无交叠;其中同层的遮光部和电路结构部采用同一道光罩形成;
第一电极层和/或辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影。
第三方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括第一方面提供的显示面板。
本实施例提供的显示面板及其制作方法、显示装置,通过将阵列电路层的各金属层中的任一层作为遮光层,使得遮光部可以与电路结构部采用同一道光罩形成,进而简化显示面板的制作工艺,有利于降低生产成本。并且,因本实施例的显示面板,将显示面板中阵列电路层的任一金属层作为遮光层,进而无需在现有显示面板的基础上额外增加膜层,进而有利于实现显示面板的轻薄化。另外,本实施例的显示面板中,第一电极层和辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影,进而使得经过手指反射后,无法通过镂空部到达图像传感元件,即经手指反射的光线只能通过与辅助遮光层、第一电极层均无交叠遮光层的过孔到达图像传感元件,进而有利于提高指纹识别精度。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图;
图3是现有技术中2T1C像素电路的结构示意图;
图4是现有技术中7T1C像素电路的结构示意图;
图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图;
图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图;
图9是本发明实施例提供的一种显示面板制作方法的流程图;
图10是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
正如背景技术中所述,现有包括开设有小孔的遮光膜层的显示面板工艺较为复杂,成本较高,且不利于显示面板的轻薄化。经发明人研究发现,出现上述问题的原因在于,现有包括开设有小孔的遮光膜层的显示面板中,通常在现有显示面板膜层结构的基础上,额外增加遮光膜层,因遮光膜层需开设成像小孔,因此制作该遮光膜层时,需要增加至少一道掩膜工艺,使得显示面板的制作工艺复杂,导致制作成本的增加,并且因遮光膜层为额外增加的膜层,使得显示面板的厚度变大,进而不利于实现显示面板的轻薄化。现有技术中,部分有机发光显示面板通过将有机发光器件的阳极层作为遮光层,但是因遮光层需要设置过孔,而阳极层的材料包括银,过孔开设过多可能带来银扩散使得有机发光器件失效,并且将阳极层作为遮光层会带来有机发光器件阳极层与阴极层交叠面积过大而导致阴阳极之间过大的寄生电容,或者阴阳极电路的风险。
基于上述问题,本发明实施例提供一种显示面板,图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图,参考图1,该显示面板包括基板100;设置于基板100一侧的阵列电路层200以及设置于阵列电路层200远离基板100一侧的发光器件层300,发光器件层300包括自阵列电路层200一侧层叠设置的第一电极层310、发光层320和第二电极层330;
其中阵列电路层200包括设置于基板100一侧的至少三层金属层,其中金属层包括电路结构部,至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他金属层中的至少一层作为辅助遮光层,遮光层包括遮光部,遮光部与同层的电路结构部绝缘设置形成镂空部;遮光部开设有至少一个过孔,在显示面板的厚度的方向上,过孔与辅助遮光层、第一电极层310均无交叠;
第一电极层310和/或辅助遮光层在基板100上的正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影。
本实施例的显示面板可用于包括图像传感元件的显示装置中,其中图像传感元件可以集成于显示面板中,也可以是外挂的图像传感模组,图像传感元件集成于图像传感模组中。图1中示例性的示出了图像传感模组设置于基板100远离阵列电路层200的一侧的情况,当图像传感模组设置于基板100远离阵列电路的一侧时,基板100可以为透明基板。指纹识别的原理为:采用外挂的指纹识别光源或者复用显示面板中发光器件发出的光到达手指与显示面板的接触面,以使光线经手指的指纹脊和谷后发生反射;反射回的光线通过显示面板的透光膜层以及遮光层的过孔被图像传感元件接收,该图像传感元件根据相应的成像原理进行成像,实现指纹识别。
上述显示面板中,可选的,基板100可以为显示装置提供缓冲、保护或支撑等作用。基板100可以是柔性基板100,柔性基板100的材料可以是聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等,也可以是上述多种材料的混合材料。基板100也可以为采用玻璃等材料形成的硬质基板100。
阵列电路层200可以包括多个薄膜晶体管、多个电容和多条信号线。图1中示例性示出了阵列电路层200包括三层金属层的情况,为例实现显示面板的正常显示,阵列电路层200的各金属层中包括相应的电路结构部,例如电路结构部可以是薄膜晶体管的栅极、源漏极、电容的极板和信号线等,使得阵列电路层200中可以的薄膜晶体管、电容和信号线等可以组成像素电路,像素电路对发光器件进行驱动,实现显示面板的发光显示。以图1所示情况为例,图1示例性地示出了显示面板包括三层金属层的情况,阵列电路层200包括自基板100一侧向远离基板100方向设置的第一金属层210、第二金属层220和第三金属层230,其中第一金属层210的电路结构部包括薄膜晶体管的栅极211、电容的第一极板211和栅极线(图中未示出),第二金属层220的电路结构部包括电容的第二极板222,第三金属层230的电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、数据线和电源线(其中图1中233可表示数据线或电源线)。
发光器件层300可以是有机发光器件层或无机发光器件层。示例性的,发光器件层300为有机发光器件层时,第一电极层310可以是有机发光器件的阳极层,第二电极层330可以是有机发光器件的阴极层。示例性的,阳极层可以采用三层结构,其中第一层与第三层可为金属氧化物层例如可以是铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、铝锌氧化物(AZO),中间的第二层可为金属层(如银或铜)。阴极层可以是ITO透明电极或镁银合金。发光层320可以只包括单层膜层,即只包括发光材料层;也可以包括自基底100侧层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层等形成的多层结构。并且,发光层320至少包括红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层,进而可实现多种颜色的显示。
本实施例的显示面板,将阵列电路层200的各金属层中的任一层作为遮光层,其他金属层中的至少一层作为辅助遮光层。其中,遮光层除包括电路结构部外,还包括遮光部,遮光部开设有至少一个过孔,遮光部开设过孔以外的区域光线无法透过,经指纹反射的光线通过遮光部的过孔到达图像传感元件。辅助遮光层中可以只设置电路结构部,辅助遮光层中的电路结构部可以起到辅助遮光的作用,示例性的,在显示面板厚度方向上,辅助遮光层中的电路结构部可以与遮光层中镂空部的部分或全部区域对应,进而可以使得指纹反射的光线无法通过遮光层中镂空部到达图像传感元件,保证指纹识别精度。即本实施例的显示面板中,因遮光部除过孔以外的区域光线无法透过,故遮光层的遮光部起到主要遮光作用(只有过孔区域的光线可以透过),辅助遮光层起到辅助遮光作用(遮挡可能通过镂空部的光线)。遮光部与同层的电路结构部绝缘设置,二者之间形成镂空部,具体的,进行遮光层的制作时,可首先沉积整层金属层,并通过设计与遮光层图案相适应的光罩,使得在一道光刻工艺中,将作为遮光层的金属层中,遮光部开设过孔的对应位置处金属刻蚀掉形成过孔,该过孔作为成像小孔,以及将除遮光部、电路结构部以外的部分刻蚀掉形成镂空部,使遮光部与电路结构部采用同一道光罩形成,进而简化显示面板的制作工艺,有利于降低生产成本。因遮光部与同层的电路结构部由同一材料的整层金属层在一道光刻工艺中制作形成,因此遮光部与同层的电路结构部的材料相同,例如对于图1所示情况,遮光部221位于第二金属层220,与遮光部221同层的电路结构部为电容的第二极板222,则遮光部221与电容的第二极板222的材料相同。并且,因本实施例的显示面板,将显示面板中阵列电路层200的任一金属层作为遮光层,进而无需在现有显示面板的基础上额外增加膜层,进而有利于实现显示面板的轻薄化。并且,可以避免现有技术中将遮光层制作在发光器件阳极层所导致的阳极层过孔开设过多可能带来银扩散使得有机发光器件失效,并且将阳极层作为遮光层会带来有机发光器件阳极层与阴极层交叠面积过大而导致阴阳极之间过大的寄生电容,或者阴阳极电路的风险的问题。
另外,遮光层的电路结构部和遮光部之间的镂空部即电路结构部与遮光部之间的间隙,若光线经过手指反射通过镂空部达到图像传感元件,会给图像传感元件带来光学干扰信号,导致指纹识别效果和精度受到影响。本实施例的显示面板中,第一电极层310和/或辅助遮光层(阵列基板100中除作为遮光层的金属层以外的金属层)在基板100上的正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影,进而使得经过手指反射后,无法通过镂空部到达图像传感元件,即经手指反射的光线只能通过与辅助遮光层、第一电极层310均无交叠遮光层的过孔(成像小孔)到达图像传感元件,进而有利于提高指纹识别精度。
需要说明的是,第一电极层310和/或辅助遮光层在基板100上的正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影可以指第一电极层310在基板100上的正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影,或者辅助遮光层在基板100上的正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影,也可以指第一电极层310和辅助遮光层二者在基板100上的共同形成正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影。并且可选的,辅助遮光层在基板100上的正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影,或者第一电极层310和辅助遮光层二者在基板100上的共同形成正交投影覆盖镂空部在基板100上的正交投影,进而有利于减小第一电极层310的面积,进而减小第一电极层310与第二电极层330交叠面积,有利于减小第一电极层310和第二电极层330之间的寄生电容,减小发光器件的第一电极和第二电极之间短路的风险。
本实施例提供的显示面板,通过将阵列电路层的各金属层中的任一层作为遮光层,使得遮光部可以与电路结构部采用同一道光罩形成,进而简化显示面板的制作工艺,有利于降低生产成本。并且,因本实施例的显示面板,将显示面板中阵列电路层的任一金属层作为遮光层,进而无需在现有显示面板的基础上额外增加膜层,进而有利于实现显示面板的轻薄化。另外,本实施例的显示面板中,第一电极层和辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影,进而使得经过手指反射后,无法通过镂空部到达图像传感元件,即经手指反射的光线只能通过与辅助遮光层、第一电极层均无交叠遮光层的过孔到达图像传感元件,进而有利于提高指纹识别精度。
图2是本发明实施例提供的一种显示面板的俯视图,其中图1所示显示面板的结构示意图可对应图2沿B-B’剖切得到,参考图1和图2,可选的,阵列电路层200包括多个薄膜晶体管和多个电容(其中图1中示例性地示出了一个薄膜晶体管和一个电容,图2中示意性地示出了一个电容);阵列电路层200包括自基板100一侧向远离基板100方向设置的第一金属层210、第二金属层220和第三金属层230,其中第一金属层210的电路结构部包括薄膜晶体管的栅极211、电容的第一极板211和栅极线(图中未示出),第二金属层220的电路结构部包括电容的第二极板222,第三金属层230的电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、数据线和电源线,其中第二金属层220作为遮光层,镂空部223围绕第二极板222,第一金属层210和/或第三金属层230作为辅助遮光层。
可选的,栅极线可以包括扫描线,或者包括扫描线和发光控制信号线,具体可以根据阵列电路层200所包括的像素电路结构进行设置,图3是现有技术中2T1C像素电路的结构示意图,参考图3,像素电路包括第一电源电压输入端VDD、第二电源电压输入端VSS、扫描信号输入端Scan、数据信号输入端Data、两个薄膜晶体管、一个电容和发光器件;图4是现有技术中7T1C像素电路的结构示意图,参考图4,像素电路包括第一电源电压输入端VDD、第二电源电压输入端VSS、参考电压输入端Vref、发光控制信号输入端Emit、第一扫描信号输入端Scan1、数据信号输入端Data、七个薄膜晶体管、一个电容和发光器件;例如阵列电路层200所包括的像素电路为图3所示现有2T1C像素电路结构时,栅极线可以包括扫描线,扫描线与像素电路的扫描信号输入端Scan电连接;阵列电路层200所包括的像素电路为图4所示现有的7T1C像素电路结构时,栅极线可以包括扫描线(扫描线与像素电路的第一扫描信号输入端Scan1或第二扫描信号输入端Scan2电连接)和发光控制线(发光控制线与像素电路的发光控制信号输入端Emit电连接)。当然,阵列电路层200所包括的像素电路也可以是其他像素电路结构,本实施例在此不做具体限定。
因第一金属层210的电路结构部包括薄膜晶体管的栅极211、电容的第一极板211和栅极线,第二金属层220的电路结构部包括电容的第二极板222,第三金属层230的电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、数据线和电源线,即第一金属层210和第三金属层230所包括的电路结构部较多,相应的第一金属层210和第三金属层230中电路结构部所占面积会较大,使得将第一金属层210或第三金属层230作为遮光层时,可以设置遮光部221的面积较小,并且,因第一金属层210和第三金属层230均包括信号线(第一金属层210包括栅极线,第三金属层230包括数据线和电源线,其中图1中233可以表示数据线或电源线),使得遮光部221只能设置于相邻信号线之间,并且遮光部221需要与信号线绝缘设置,因此遮光部221与两侧的信号线之间需要形成镂空部223,而因各信号线之间的间距本身不大,因此形成遮光部221时对掩膜版的要求也会较高。而第二金属层220所包括的电路结构部只有电容的第二极板222,因此相对于第一金属层210和第三金属层230来说,第二金属层220中电路结构部所占面积会较小,因此第二金属层220中可以有足够的空间用于形成遮光部221,并且第二金属层220不包括信号线,因此将第二金属层220作为遮光层,只需将遮光部221与电容的第二极板222之间形成镂空部223即可,对掩膜版的要求也会较低,遮光部221的形成更加容易实现。参考图2,镂空部223围绕第二极板222,进而使得第二极板222可以与遮光部221绝缘,使得遮光部221不会影响电容的性能。需要说明的是,图2示意性地示出了显示面板的部分结构示意图,即只示出了一个电容的第二极板222及其周围的遮光部221,对于整体显示面板来说遮光部221可位于显示面板的某一部分区域,也可位于整个显示区,本实施例在此不做具体限定。
继续参考图1,在上述技术方案的基础上,可选的,多个薄膜晶体管包括第一薄膜晶体管T1,第三金属层230的源漏部包括第一部231和第二部232,第一薄膜晶体管T1的第一部231与第一电极层310电连接;
同一第一薄膜晶体管T1的第一部231在基板100上的正交投影和栅极211在基板100上的正交投影之间包括第一区域a1,第一电极层310在基板100上的正交投影覆盖第一区域a1;
同一第一薄膜晶体管T1的第二部232在基板100上的正交投影和栅极211在基板100上的正交投影之间包括第二区域a2,遮光部221在基板100上的正交投影覆盖第二区域a2。
其中,第一薄膜晶体管T1为阵列电路层200的像素电路中直接与发光器件的第一电极(位于第一电极层310)电连接的薄膜晶体管,例如对于图3所示像素电路来说,第一薄膜晶体管T1为驱动晶体管,对于图4所示像素电路来说,第一薄膜晶体管T1为连接在驱动晶体管和发光器件之间的晶体管。第一薄膜晶体管T1的第一部231可以是第一薄膜晶体管T1的源部或漏部,相应的,第一薄膜晶体管T1的第二部232可以是第一薄膜晶体管T1的漏部或源部,示例性的,对于图3和图4所示像素电路中,各薄膜晶体管为P型晶体管时,第一薄膜晶体管T1的第一部231为第一薄膜晶体管T1的漏部,第一薄膜晶体管T1的第二部232为第一晶体管的源部。
具体的,因第一薄膜晶体管T1与第一电极层310电连接,具体可以是第一薄膜晶体管T1与同一像素电路中发光器件的第一电极电连接,第一电极层310在基板100上的正交投影覆盖第一区域a1,可以是发光器件的第一电极在基板100上的正交投影覆盖第一区域a1,第一区域a1为同一第一薄膜晶体管T1的第一部231在基板100上的正交投影和栅极211在基板100上的正交投影之间的区域,即发光器件的第一电极可以起到遮光作用,使得在遮光层中对应于正交投影为第一区域a1所在位置处无需设置遮光部221,有利于减小遮光部221与第一薄膜晶体管T1栅极211之间的寄生电容,进而有利于显示效果的提升。并且,通过设置第一电极层310在基板100上的正交投影覆盖第一区域a1,可以使得显示面板厚度方向上,光线无法透过第一区域a1对应的位置(即第一薄膜晶体管T1的栅极211和第一部231之间的缝隙)到达图像传感元件,进而可以避免光线透过第一薄膜晶体管T1的栅极211和第一部231之间的缝隙到达图像传感元件对指纹识别造成的干扰,提高指纹识别精度。
遮光部221在基板100上的正交投影覆盖第二区域a2,第二区域a2为同一第一薄膜晶体管T1的第二部232在基板100上的正交投影和栅极211在基板100上的正交投影之间的区域,可以使得显示面板厚度方向上,光线无法透过第二区域a2对应的位置(即第一薄膜晶体管T1的栅极211和第二部232之间的缝隙)到达图像传感元件,进而可以避免光线透过第一薄膜晶体管T1的栅极211和第二部232之间的缝隙到达图像传感元件对指纹识别造成的干扰,提高指纹识别精度。
并且,因发光器件的第一电极本身具有一定的面积,上述技术方案中,通过发光器件的第一电极对第一区域a1进行遮光即可,即第一电极层310只需设置发光器件的第一电极,无需设置其他结构,进而使得第一电极层310具有较小的面积,有利于减小发光器件层300的第一电极层310和第二电极层330之间的寄生电容。
图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图,参考图5,可选的,多个薄膜晶体管还包括第二薄膜晶体管T2,第二薄膜晶体管T2与第一薄膜晶体管T1或电容电连接,同一第二薄膜晶体管T2的第一部231在基板100上的正交投影和栅极211在基板100上的正交投影之间包括第三区域a3,同一第二薄膜晶体管T2的第二部232在基板100上的正交投影和栅极211在基板100上的正交投影之间包括第四区域a4,遮光部221在基板100上的正交投影覆盖第三区域a3和第四区域a4。具体的,第二薄膜晶体管T2可以是阵列电路层200中除第一薄膜晶体管T1以外的薄膜晶体管,遮光部221在基板100上的正交投影覆盖第三区域a3和第四区域a4,可以使得显示面板厚度方向上,光线无法透过第三区域a3对应的位置(即第二薄膜晶体管T2的栅极211和第一部231之间的缝隙)和第四区域a4对应的位置(即第二薄膜晶体管T2的栅极211和第而部之间的缝隙)到达图像传感元件,进而可以避免光线透过第二薄膜晶体管T2的栅极211和第一部231之间的缝隙和第二薄膜晶体管T2的栅极211与第二部232之间的缝隙到达图像传感元件对指纹识别造成的干扰,提高指纹识别精度。
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图,参考图6,可选的,电容的第一极板211和第二极板222均包括至少一个过孔224,在垂直于显示面板出光面的方向上,第一极板211的过孔224位置与第二极板222的过孔224位置相对应。
具体的,电容的第一极板211和第二极板222均包括过孔224,且在垂直于显示面板出光面的方向上,第一极板211的过孔224位置与第二极板222的过孔224位置相对应,可以使得经过指纹反射的光线可以透过电容的第二极板222和第一极板211到达图像传感元件,即在设置电容的位置处,同样可以用于指纹识别,进而可以在显示面板中更加灵活地设置指纹识别区域,并且有利于增大指纹识别区域的面积。
需要说明的是,电容的第一极板211和第二极板222上也可不设置过孔224,本实施例在此不做具体限定。
图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图,图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视图,参考图7和图8,可选的,第一电极层310和辅助遮光层在基板100上的正交投影覆盖镂空部235在基板100上的正交投影;阵列电路层200包括多个薄膜晶体管和多个电容;
阵列电路层200包括自基板100一侧向远离基板100方向设置的第一金属层210、第二金属层220和第三金属层230,其中第一金属层210的电路结构部包括薄膜晶体管的栅极211、电容的第一极板211和栅极线,第二金属层220的电路结构部包括电容的第二极板222,第三金属层230的电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部(包括第一部231和第二部232)、信号传输线233;
第一金属层210作为遮光层,第二金属层220和/或第三金属层230作为辅助遮光层;遮光部234设置于相邻两条栅极线之间,且遮光部234与两侧的栅极线之间包括镂空部235;
或者第三金属层230作为遮光层,第一金属层210和/或第二金属层220作为辅助遮光层;遮光部234设置于相邻两条信号传输线233之间,遮光部234与两侧的信号传输线233之间包括镂空部235,其中信号传输线233包括数据线和电源线。
参考图7和图8,图7和图8中示例性的示出了第三金属层230作为遮光层的情况,其中遮光部234可以设置于第三金属层230的相邻信号传输线233之间,将第三金属层230或第一金属层210作为遮光层,则遮光部234与第三金属层230或第一金属层210的电路结构部在同一道光刻工艺中制作,节省工艺步骤的同时,有利于实现显示面板的轻薄化。
需要说明的是,图8仅示意性示出第三金属层的传输信号线233和遮光部234,以及镂空部235和过孔236,未示出其他结构,图8所示显示面板可对应显示面板的部分区域。
继续参考图7,可选的,第一电极层310和辅助遮光层在基板100上的正交投影覆盖镂空部235在基板100上的正交投影;辅助遮光层中至少包括第二金属层220,第二金属层220包括辅助遮光部223,辅助遮光部233、辅助遮光层的电路结构部、以及第一电极层310在基板100上的正交投影覆盖镂空部235在基板100上的正交投影。
仍以第三金属层230作为遮光层为例,则第一金属层210和第二金属层220为辅助遮光层,其中第二金属层220中除包括电容的第二极板222外,还包括辅助遮光部223,该辅助遮光部223、第一金属层210的电路结构部、以及第一电极层310在基板100上的正交投影覆盖镂空部235在基板100上的正交投影,进而使得经过指纹反射的光线无法通过遮光层中遮光部234与电路结构部之间的镂空部235射入图像传感元件,即保证光线只能透过遮光层中的过孔236射入图像传感元件,进而避免光线经过手指反射通过镂空部235达到图像传感元件会给图像传感元件带来光学干扰,有利于提高指纹识别精度。
在上述技术方案的基础上,可选的,在显示面板厚度方向上,遮光部与辅助遮光层的电路结构部、第一电极层均无交叠,进而可以使得遮光部与第一金属层、第三金属层、第一电极层之间的寄生电容大大降低,进而有利于提升显示面板的显示效果。
继续参考图1、图5和图7,可选的,显示面板还包括图像传感元件500,图像传感元件500设置于基板100与阵列电路层200之间;或者图像传感元件500设置于基板100远离阵列电路层200的一侧,在显示面板的厚度的方向上,图像传感元件500至少与一个过孔相对应。
可选的,图像传感元件500设置于基板100与阵列电路层200之间时,图像传感元件500可以在制作显示面板时一并制作,例如首先在基板100上形成图像传感元件500,然后在图像传感元件500远离基板100的一侧制作阵列电路层200。图像传感元件500设置于基板100远离阵列电路层200的一侧时,可采用外挂的图像传感模组,该图像传感模组包括图像传感元件500。在显示面板的厚度的方向上,图像传感元件500至少与一个过孔相对应,可以保证经指纹反射的光线可以经过遮光层过孔射入图像传感元件500,进而通过小孔成像原理实现指纹识别功能。
需要说明的是,本发明上述实施例中对显示面板包括三层金属层进行了说明,显示面板还可以包括更多层金属层,例如四层金属层(可在本发明上述实施例的第三金属层远离第二金属层的一侧设置第三金属层),此时电源线可分两层设置,即设置于第三金属层和第四金属层,例如第三金属层和第四金属层中的电源线并联,进而显小电源线的传输电阻。
还需说明的是,本发明上述任意实施例中,遮光部不仅与同层的电路结构部绝缘设置,与不同层的电路结构部也绝缘设置,示例性的,第二金属层作为遮光层时,第三金属层的源漏部穿过相应绝缘层连接有源层,第三金属层与第二金属层的遮光部同样绝缘设置,进而保证显示面板的显示性能。
还需说明的是,本发明上述任意实施例中,显示面板还包括第一金属层与基板之间的有源层,相邻金属层之间均设置有绝缘层,第一金属层与有源层之间也设置有绝缘层,并且在遮光层远离基板一侧的绝缘层填充遮光层的镂空部。继续参考图1,在阵列电路层与发光器件层之间还包括平坦化层,平坦化层远离基板的一侧包括像素定义层,像素定义层包括多个开口,发光材料层位于开口中。在发光器件层远离基板的一侧还包括封装层,进而防止水氧等进入到发光器件层,有利于对发光器件层进行保护,有利于提高显示面板的使用寿命。其中绝缘层和封装层可以是透光膜层,进而保证经指纹反射的光线可以穿过绝缘层到达图像传感元件。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,图9是本发明实施例提供的一种显示面板制作方法的流程图,参考图9,该显示面板的制作方法包括:
步骤610、在基板一侧形成阵列电路层;
步骤620、在阵列电路层远离基板一侧的形成发光器件层,发光器件层包括自阵列电路层层叠设置的第一电极层、发光层和第二电极层;
其中步骤610包括:
步骤611、在基板一侧形成至少三层金属层,其中金属层包括电路结构部,至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他金属层中的至少一层作为辅助遮光层,遮光层包括遮光部,遮光部与同层的电路结构部绝缘设置形成镂空部;遮光部开设有至少一个过孔,在显示面板的厚度方向上,过孔与辅助遮光层、第一电极层均无交叠;其中同层的遮光部和电路结构部采用同一道光罩形成;
第一电极层和/或辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影。
本实施例提供的显示面板的制作方法,本实施例提供的显示面板,通过将阵列电路层的各金属层中的任一层作为遮光层,同层的遮光部和电路结构部采用同一道光罩形成,进而简化显示面板的制作工艺,有利于降低生产成本。并且,因本实施例的显示面板的制作方法,将显示面板中阵列电路层的任一金属层作为遮光层,进而无需在现有显示面板的基础上额外增加膜层,进而有利于实现显示面板的轻薄化。另外,本实施例的显示面板制作方法制作的显示面板,第一电极层和辅助遮光层在基板上的正交投影覆盖镂空部在基板上的正交投影,进而使得经过手指反射后,无法通过镂空部到达图像传感元件,即经手指反射的光线只能通过与辅助遮光层、第一电极层均无交叠遮光层的过孔到达图像传感元件,进而有利于提高指纹识别精度。
本发明实施例还提供了一种显示装置,图10是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图,参考图10,本发明实施例提供的显示装置10包括本发明上述任意实施例提供的显示面板100。显示装置10可以为图10所示的手机,也可以为电脑、电视机、智能穿戴显示装置等,本发明实施例对此不作特殊限定。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板;
设置于基板一侧的阵列电路层以及设置于所述阵列电路层远离所述基板一侧的发光器件层,所述发光器件层包括自所述阵列电路层一侧层叠设置的第一电极层、发光层和第二电极层;
其中所述阵列电路层包括设置于所述基板一侧的至少三层金属层,其中所述金属层包括电路结构部,所述至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他所述金属层中的至少一层作为辅助遮光层,所述遮光层包括遮光部,所述遮光部与同层的所述电路结构部绝缘设置形成镂空部;所述遮光部开设有至少一个过孔,在所述显示面板的厚度方向上,所述过孔与所述辅助遮光层、所述第一电极层均无交叠;
所述第一电极层和/或所述辅助遮光层在所述基板上的正交投影覆盖所述镂空部在所述基板上的正交投影。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列电路层包括多个薄膜晶体管和多个电容;
所述阵列电路层包括自所述基板一侧向远离所述基板方向设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,其中所述第一金属层的所述电路结构部包括所述薄膜晶体管的栅极、所述电容的第一极板和栅极线,所述第二金属层的所述电路结构部包括所述电容的第二极板,所述第三金属层的所述电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、数据线和电源线,其中所述第二金属层作为所述遮光层,所述镂空部围绕所述第二极板,所述第一金属层和/或所述第三金属层作为所述辅助遮光层。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述多个薄膜晶体管包括第一薄膜晶体管;
所述第三金属层的源漏部包括第一部和第二部,所述第一薄膜晶体管的第一部与所述第一电极层电连接;
同一所述第一薄膜晶体管的第一部在所述基板上的正交投影和所述栅极在所述基板上的正交投影之间包括第一区域,所述第一电极层在所述基板上的正交投影覆盖所述第一区域;
同一所述第一薄膜晶体管的第二部在所述基板上的正交投影和所述栅极在所述基板上的正交投影之间包括第二区域,所述遮光部在所述基板上的正交投影覆盖所述第二区域;
优选的,所述多个薄膜晶体管还包括第二薄膜晶体管,所述第二薄膜晶体管与所述第一薄膜晶体管或所述电容电连接,同一所述第二薄膜晶体管的第一部在所述基板上的正交投影和所述栅极在所述基板上的正交投影之间包括第三区域,同一所述第二薄膜晶体管的第二部在所述基板上的正交投影和所述栅极在所述基板上的正交投影之间包括第四区域,所述遮光部在所述基板上的正交投影覆盖所述第三区域和所述第四区域。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述电容的第一极板和所述第二极板均包括至少一个过孔,在垂直于所述显示面板出光面的方向上,所述第一极板的过孔位置与所述第二极板的过孔位置相对应。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述阵列电路层包括多个薄膜晶体管和多个电容;
所述阵列电路层包括自所述基板一侧向远离所述基板方向设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,其中所述第一金属层的所述电路结构部包括所述薄膜晶体管的栅极、所述电容的第一极板和栅极线,所述第二金属层的所述电路结构部包括所述电容的第二极板,所述第三金属层的所述电路结构部包括薄膜晶体管的源漏部、信号传输线;
所述第一金属层作为所述遮光层,所述第二金属层和/或所述第三金属层作为辅助遮光层;所述遮光部设置于相邻两条所述栅极线之间,且所述遮光部与两侧的栅极线之间包括所述镂空部;
或者所述第三金属层作为遮光层,所述第一金属层和/或所述第二金属层作为辅助遮光层;所述遮光部设置于相邻两条所述信号传输线之间,所述遮光部与两侧的所述信号传输线之间包括所述镂空部,其中所述信号传输线包括数据线和电源线。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一电极层和所述辅助遮光层在所述基板上的正交投影覆盖所述镂空部在所述基板上的正交投影;所述辅助遮光层中至少包括所述第二金属层,所述第二金属层包括辅助遮光部,所述辅助遮光部、所述辅助遮光层的电路结构部、以及所述第一电极层在所述基板上的正交投影覆盖所述镂空部在所述基板上的正交投影。
7.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板,其特征在于,在所述显示面板厚度方向上,所述遮光部与辅助遮光层的电路结构部、所述第一电极层均无交叠。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括图像传感元件,所述图像传感元件设置于所述基板与所述阵列电路层之间;或者所述图像传感元件设置于所述基板远离所述阵列电路层的一侧,在所述显示面板的厚度方向上,所述图像传感元件至少与一个所述过孔相对应。
9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在基板一侧形成阵列电路层;
在所述阵列电路层远离所述基板一侧的形成发光器件层,所述发光器件层包括自所述阵列电路层层叠设置的第一电极层、发光层和第二电极层;
其中在所述基板一侧形成阵列电路层包括:
在所述基板一侧形成至少三层金属层,其中所述金属层包括电路结构部,所述至少三层金属层中的任一层作为遮光层,其他所述金属层中的至少一层作为辅助遮光层,所述遮光层包括遮光部,所述遮光部与同层的所述电路结构部绝缘设置形成镂空部;所述遮光部开设有至少一个过孔,在所述显示面板的厚度方向上,所述过孔与所述辅助遮光层、所述第一电极层均无交叠;其中同层的所述遮光部和所述电路结构部采用同一道光罩形成;
所述第一电极层和/或所述辅助遮光层在所述基板上的正交投影覆盖所述镂空部在所述基板上的正交投影。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的显示面板。
CN202010286369.9A 2020-04-13 2020-04-13 显示面板及其制作方法、显示装置 Active CN111477635B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010286369.9A CN111477635B (zh) 2020-04-13 2020-04-13 显示面板及其制作方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010286369.9A CN111477635B (zh) 2020-04-13 2020-04-13 显示面板及其制作方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111477635A true CN111477635A (zh) 2020-07-31
CN111477635B CN111477635B (zh) 2023-04-18

Family

ID=71751668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010286369.9A Active CN111477635B (zh) 2020-04-13 2020-04-13 显示面板及其制作方法、显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111477635B (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111933677A (zh) * 2020-08-19 2020-11-13 云谷(固安)科技有限公司 阵列基板、显示面板及其装置
CN112002709A (zh) * 2020-08-11 2020-11-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板
CN113469079A (zh) * 2021-07-07 2021-10-01 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN113920934A (zh) * 2021-09-30 2022-01-11 成都京东方光电科技有限公司 显示基板和显示装置
WO2022052686A1 (zh) * 2020-09-14 2022-03-17 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、其制作方法及显示装置
CN114335384A (zh) * 2021-12-29 2022-04-12 武汉天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN114400239A (zh) * 2021-12-21 2022-04-26 昆山国显光电有限公司 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法
CN114566531A (zh) * 2022-02-28 2022-05-31 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
WO2023216026A1 (zh) * 2022-05-07 2023-11-16 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107133613A (zh) * 2017-06-06 2017-09-05 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN108229394A (zh) * 2018-01-03 2018-06-29 上海天马微电子有限公司 显示面板以及显示装置
CN108428725A (zh) * 2018-03-30 2018-08-21 上海天马有机发光显示技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置
US20190325186A1 (en) * 2018-04-20 2019-10-24 Shanghai Tianma AM-OLED Co., Ltd. Display Panel and Display Device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107133613A (zh) * 2017-06-06 2017-09-05 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN108229394A (zh) * 2018-01-03 2018-06-29 上海天马微电子有限公司 显示面板以及显示装置
CN108428725A (zh) * 2018-03-30 2018-08-21 上海天马有机发光显示技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置
US20190325186A1 (en) * 2018-04-20 2019-10-24 Shanghai Tianma AM-OLED Co., Ltd. Display Panel and Display Device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112002709A (zh) * 2020-08-11 2020-11-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板
CN112002709B (zh) * 2020-08-11 2022-09-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板
CN111933677A (zh) * 2020-08-19 2020-11-13 云谷(固安)科技有限公司 阵列基板、显示面板及其装置
WO2022052686A1 (zh) * 2020-09-14 2022-03-17 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、其制作方法及显示装置
CN113469079A (zh) * 2021-07-07 2021-10-01 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN113920934A (zh) * 2021-09-30 2022-01-11 成都京东方光电科技有限公司 显示基板和显示装置
CN114400239A (zh) * 2021-12-21 2022-04-26 昆山国显光电有限公司 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法
CN114335384A (zh) * 2021-12-29 2022-04-12 武汉天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN114335384B (zh) * 2021-12-29 2023-10-03 武汉天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN114566531A (zh) * 2022-02-28 2022-05-31 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
WO2023216026A1 (zh) * 2022-05-07 2023-11-16 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN111477635B (zh) 2023-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111477635B (zh) 显示面板及其制作方法、显示装置
US10565422B2 (en) Display panel and display device
US10978545B2 (en) Display substrate and manufacturing thereof, and display device
US11335867B2 (en) Display panel including a groove between an opening and a display area
KR102381391B1 (ko) 표시 장치
US11956990B2 (en) Display device with metal tip protruding toward groove center
EP4053904B1 (en) Display substrate and manufacturing method therefor, and display device
CN113078199B (zh) 显示基板、显示基板的制备方法及显示模组
KR20200066503A (ko) 표시 패널
US11930671B2 (en) Flexible display panel and manufacturing method thereof, and flexible display apparatus
KR20150075512A (ko) 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조 방법
EP4053905A1 (en) Display substrate and manufacturing method therefor, and display device
CN110890388B (zh) 阵列基板和显示面板
CN113571570A (zh) 显示面板及显示装置
CN111665999A (zh) 显示装置及其自容式触控面板
US12089464B2 (en) Organic light-emitting display substrate having partition grooves and manufacturing method thereof, and organic light-emitting display device
US11653523B2 (en) Display device
EP4006986A1 (en) Display panel and electronic device
US20240114743A1 (en) Display module having increased transmittance and electronic device including the display module
KR20210103017A (ko) 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN114094030B (zh) 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
US20210405845A1 (en) Electronic device
US20230180557A1 (en) Display panel and display device
CN115148774B (zh) 显示面板和显示装置
US12127460B2 (en) Display panel and display device

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant