CN108428725A - 阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；位于衬底基板上的多个发光单元；位于发光单元靠近衬底基板的一侧的感光单元；其中，每个发光单元包括第一电极和发光层，第一电极位于衬底基板和发光层之间，第一电极包括至少一个镂空区和围绕镂空区的非镂空区，感光单元在衬底基板上的垂直投影与第一电极的镂空区在衬底基板上的垂直投影至少部分重合。与现有的阵列基板相比，本发明实施例提供的阵列基板，可以实现提高阵列基板乃至显示面板的指纹识别精度的目的。

Description

阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术，尤其涉及一种阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置。

背景技术

每个人的皮肤纹路在图案、断点和交叉点上各不相同，对个人而言，其皮肤纹路具备唯一性且终生不变。据此，可通过皮肤纹路识别技术验证每个人的真实身份。同时，在个体手指末端表面形成的指纹，由于其纹路特征容易被获取，通常可以把个体同其指纹对应起来，通过将获取的指纹和预先保存的指纹数据进行比较，以验证个体的真实身份，此为指纹识别技术。近年来，得益于电子集成制造技术和算法研究的结合与发展，指纹识别技术中光学指纹识别技术已经开始走入我们的日常生活，成为目前生物检测学中研究最深入，应用最广泛，发展最成熟的技术。

目前，通常将光学指纹识别技术与显示技术相结合，以使显示面板不仅具有显示功能，还能够进行指纹识别，从而丰富了显示面板的功能，同时提高了显示面板的安全性能。然而，在现有的显示面板中，如何克服显示面板的指纹识别精度低的问题，设计出指纹识别精度较高的显示面板是业内面临的重大难题。

发明内容

本发明提供一种阵列基板、阵列基板的制造方法、显示面板及显示装置，以实现提高阵列基板乃至显示面板的指纹识别精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，该阵列基板包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的多个发光单元；

位于所述发光单元靠近所述衬底基板的一侧的感光单元；

其中，每个所述发光单元包括第一电极和发光层，所述第一电极位于所述衬底基板和所述发光层之间，所述第一电极包括至少一个镂空区和围绕所述镂空区的非镂空区，所述感光单元在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的所述镂空区在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

第二方面，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制造方法，该制造方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成多个发光单元；

在所述衬底基板上形成多个感光单元，所述感光单元位于所述发光单元靠近所述衬底基板的一侧；

其中，每个所述发光单元包括第一电极和发光层，所述第一电极位于所述衬底基板和所述发光层之间，所述第一电极包括至少一个镂空区和围绕所述镂空区的非镂空区，所述感光单元在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的所述镂空区在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括第一方面提供的阵列基板。

第四方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括第三方面提供的显示面板。

本发明实施例提供的阵列基板，通过设置第一电极包括至少一个镂空区和围绕镂空区的非镂空区，感光单元在衬底基板上的垂直投影与第一电极的镂空区在衬底基板上的垂直投影至少部分重合，可利用第一电极实现光线筛选的功能，实现提高阵列基板乃至显示面板的指纹识别精度的目的。

附图说明

图1为现有的一种阵列基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；

图3为沿图2中UU’的剖面结构示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种第一电极的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种第一电极的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的又一种第一电极的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图10为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种阵列基板的制造方法的流程示意图；

图14为本发明实施例提供的另一种阵列基板的制造方法的流程示意图；

图15为本发明实施例提供的又一种阵列基板的制造方法的流程示意图；

图16为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1为现有的一种阵列基板的结构示意图。参照图1，阵列基板包括衬底基板00、发光单元01、光线筛选结构02以及感光单元03。发光单元01位于衬底基板00上。感光单元03位于发光单元01和衬底基板00之间。光线筛选结构02位于发光单元01和感光单元03之间，用于对经由触摸主体04反射形成的反射光进行“筛选”。这样设置由于需要在阵列基板中额外增加光线筛选结构02，会增加阵列基板的整体厚度，不利于实现阵列基板的轻薄化。同时，由于阵列基板整体厚度增加使得用于指纹识别的光线传播距离增加，由此导致光线衰减较严重，降低了指纹识别的精度。

针对此问题，本发明实施例提供一种阵列基板，以减少阵列基板的整体厚度，实现阵列基板的轻薄化，进而减少显示面板的整体厚度，实现显示面板的轻薄化；同时，实现提高阵列基板乃至显示面板的指纹识别精度的目的。

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图，图3为沿图2中 UU’的剖面结构示意图。结合图2和图3，阵列基板10包括衬底基板100；位于衬底基板100上的多个发光单元101；位于发光单元101靠近衬底基板100 的一侧的感光单元102；其中，每个发光单元101包括第一电极1012和发光层 1011，第一电极1012位于衬底基板100和发光层1011之间，第一电极1012包括至少一个镂空区103和围绕镂空区103的非镂空区104，感光单元102在衬底基板100上的垂直投影与第一电极1012的镂空区103在衬底基板104上的垂直投影至少部分重合。

需要说明的是，在本发明中，所提及的感光单元102需要配合指纹识别光源(图中未示出)以实现指纹识别功能。指纹识别光源发出的光线经由触摸主体反射后形成反射光入射到感光单元，以进行指纹识别。具体地，指纹识别光源可以为外挂光源，或者将发光单元101复用为指纹识别光源。

下面以发光单元101复用为指纹识别光源为例，结合图3对指纹识别的工作原理进行说明。参见图3，发光单元101出射的光线L2由触摸主体04(如手指)的不同位置反射后形成反射光，反射光入射到感光单元102，感光单元102 接收该反射光(指纹信号光)，产生与该反射光相关的电信号。由于手指上存脊和谷，经由指纹不同位置反射的光线强度不同，最终使得不同感光单元102接收到的光线的强度存在差别。而在不同的光线强度下，感光单元102反馈的电信号不同。因此，可通过各感光单元102反馈的电信号的大小得到触摸主体04的指纹特征，从而实现阵列基板10的指纹识别功能。

但是，经由触摸主体04不同位置反射的光线有可能照射至同一个感光单元 102上，举例来说，经由触摸主体的脊和相邻的谷反射的光线有可能照射至同一感光单元102，这样接收光线的感光单元102就无法检测指纹的脊和谷的准确位置，造成指纹识别过程存在严重的串扰现象，影响感光单元102指纹识别的准确性和精度。

上述技术方案中，通过设置第一电极1012包括至少一个镂空区103和围绕镂空区103的非镂空区104，实质上是将第一电极1012复用为光线筛选结构，以对指纹信号光进行“筛选”。具体的，第一电极1012的镂空区103相当于光线筛选结构的筛选通道。由触摸主体04反射的光线可分为两部分，一部分光线 (如光线L4)的传播方向与垂直于阵列基板10的出光面方向(Y方向)的夹角小于设定阈值，可通过镂空区103照射到感光单元102上，被感光单元102接收；另一部分光线(如光线L5)的传播方向与垂直于陈列基板10的出光面方向(Y方向)的夹角大于设定阈值，其会照射到第一电极1012的非镂空区104，被非镂空区104吸收，不能照射到感光单元102上。这样能够对经由触摸主体 04不同位置反射至同一感光单元102的光线进行选择性地滤除，即可以滤除相对于垂直于阵列基板10的出光面方向的倾斜角度大于第一电极1012的设定阈值的光线，有效避免了经由触摸主体不同位置反射的光线照射至同一感光单元 102造成的串扰现象，提高了指纹识别的准确性和精度。其中，倾斜角度是指光线传播方向与垂直于阵列基板出光面方向的夹角(图3中示例性的以夹角F 示出上述倾斜角度)，设定阈值是指镂空区103允许光线通过的最大倾斜角度的取值(图3中示例性的以角G示出设定阈值)。

相对于额外增设光线筛选结构的方案，此阵列基板结构中，通过设置发光单元101的第一电极1012包括至少一个镂空区103，可利用第一电极1012实现对触摸主体04反射的光线进行选择性吸收，即实现光线筛选结构的功能，从而无需另外设置光线筛选结构，由此减少了阵列基板10的整体厚度，有利于实现阵列基板10的轻薄化。

此外，本申请将指纹识别模块植入显示面板之中，实现了集成光感触控单元(incell)的显示面板技术，使得面板具备屏下指纹识别功能之外，兼具薄型化优势，显示面板更为轻薄，且制备工艺简单，有利于提升显示面板的核心竞争力，为屏下指纹识别技术做出巨大贡献。

继续参见图3，需要说明的是，感光单元102在衬底基板100上的垂直投影与第一电极1012的镂空区103在衬底基板100上的垂直投影可以部分重合 (图3中以102A示出)，也可以完全重合(图3中以102B示出)，本申请对此不作限制。

可选的，图4为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图。参照图4，与图3提供的阵列基板的剖面结构不同的是，图4中感光单元102 在衬底基板100上的垂直投影与第一电极1012的镂空区103在衬底基板100上的垂直投影完全重合。这样设置可以使得通过第一电极1012的镂空区103的反射光尽可能多地被感光单元102接收，从而使得感光单元102接收到的光线强度增加，进而提高了指纹识别的准确性。

需要说明的是，示例性的，图3和图4中第一电极1012包括4个镂空区103。这仅是本申请的一个具体示例，而非对本申请的限制。本发明对镂空区 103的个数不作限定。可选的，第一电极1012包括多个镂空区103。

本领域技术人员可以理解，在第一电极1012的厚度和面积确定的前提下，随着镂空区103的数量的增多，每个镂空区103的面积变小。根据几何关系可知，在第一电极1012厚度一定的前提下，第一电极1012镂空区103的面积越小，设定阈值越小，即可允许通过的光线的倾斜角度越小。因此，设置第一电极1012包括多个镂空区103，可以进一步削弱反射光线之间的串扰，从而提高了指纹识别的准确性。

需要说明的是，本发明实施例对第一电极1012中镂空区103的形状以及第一电极1012的边缘形状不做限定。

示例性的，图5为本发明实施例提供的一种第一电极的结构示意图。参照图5，第一电极1012中镂空区103的形状为方形，且第一电极1012的边缘为凹凸变化的不规则边缘。

示例性的，图6为本发明实施例提供的另一种第一电极的结构示意图。参照图6，第一电极1012中镂空区103的形状为圆形，且第一电极1012的边缘为规则的直线边缘。

示例性的，图7为本发明实施例提供的又一种第一电极的结构示意图。参照图7，第一电极1012中镂空区103的形状为正方形，且第一电极1012的边缘为规则的直线边缘。

可选的，多个镂空区103呈阵列结构排布。示例性地，参见图6-图8，多个镂空区103呈4行4列的阵列结构排布。将镂空区设置为阵列结构，可降低阵列基板的制程中掩模版的制作难度。

可选的，继续参照图7，镂空区103的形状为正方形，由此可进一步降低掩模版的设计和制作难度。

可选的，继续参照图7，正方形的镂空区103的边长A的取值范围为1μm ≤A≤10μm，这样设置，一方面可使得第一电极1012具有较好的关系筛选效果，提高指纹识别的准确性；另一方面可避免因镂空区103的边长过小时，引起干涉效应，从而避免光线干涉对指纹识别准确性的影响。

示例性的，继续参照图3。第一电极1012的厚度B的取值范围为1μm≤B ≤2μm，这样可以使得第一电极1012具有良好的光线筛选作用的同时，实现阵列基板的轻薄化。

图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。参照图8，沿垂直于阵列基板10出光面的方向，即图8中Y方向，发光单元101可以包括第一电极1012、第二电极1013以及位于第一电极1012和第二电极1013之间的发光层1011，示例性的，阵列基板10还可以包括多个薄膜晶体管109，薄膜晶体管109与发光单元101一一对应设置，薄膜晶体管109的漏极1093与对应的发光单元101中的第一电极1012电连接。第一电极1012可以是阳极，第二电极1013可以是阴极。或者，第一电极1012可以是阴极，第二电极1013可以是阳极。在显示时，向第一电极1012和第二电极1013施加驱动电压，以使发光层1011发光。

继续参见图3，可选地，第一电极1012为全反射电极。这样设置可将由发光层1011发出的沿指向衬底基板100的方向传播的光线L1反射，使其由远离衬底基板100的一侧出射，可增加发光单元101出射光的强度，提高包括该阵列基板的显示面板的显示效果。

另外，考虑若第一电极1012不是全反射电极，则由发光层1011发出的指向衬底基板100的光线L1有可能直接穿过第一电极1012而被感光单元102接收。由于该部分光线L1未经触摸主体04反射。相对于指纹信号光而言，其为噪声，会增大感光单元102的基底信号，影响显示面板的指纹识别精度。通过设置第一电极1012为全反射电极，可以降低噪声对指纹信号的干扰，从而提高感光单元102指纹识别的准确性。

可选地，第一电极1012包括层叠设置的透明金属氧化物层和金属层，金属层位于透明金属氧化物层和衬底基板之间，且金属层的折射率大于透明金属氧化物的折射率，这样可以可利用光线在光密介质和光疏介质的界面发生全反射的特性，实现第一电极1012的全反射功能。

可选的，阵列基板还可以包括绝缘层，该绝缘层位于第一电极和感光单元之间。第一电极的镂空区中的垂直于衬底基板的侧面与绝缘层和发光层中的至少一层接触。其中，绝缘层材料可为氮化硅(SiNx)。这样设置可以使得第一电极和感光单元彼此电绝缘，防止二者互相干扰。此外，设置第一电极的镂空区中的垂直于衬底基板的侧面与绝缘层和发光层中的至少一层接触，可以提高阵列基板整体结构的稳定性。

在实际设置时，绝缘层的具体设置方法有多种。

示例性的，图9为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图，参见图9，利用绝缘层105填充第一电极1012的镂空区103，使得第一电极1012 的镂空区103中的垂直于衬底基板100的侧面仅与绝缘层105接触。这样可使阵列基板10中绝缘层105和第一电极1012结合紧密，不易脱落，从而使得阵列基板10的整体结构稳定。

图10为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图。参见图 10，利用发光层1011填充第一电极1012的镂空区103，使得第一电极1012的镂空区103中的垂直于衬底基板100的侧面仅与发光层1011接触。这样可以使得阵列基板10中第一电极1012和发光层1011结合紧密，不易脱落，从而使得阵列基板10的整体结构稳定，此外，这样设置还可以减小发光单元101的色偏，镂空区域的器件不会产生微腔效果，因此光色在各个角度下变化较小，和非镂空区域均衡得到的效果使得色偏降低。

图11为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图。参见图11，利用绝缘层105和发光层1011共同填充第一电极1012的镂空区103，使得第一电极1012的镂空区103中的垂直于衬底基板100的侧面与绝缘层105和发光层1011均接触的结构。这样可以使得阵列基板10中第一电极1012和发光层1011之间不易脱落，以及第一电极1012和绝缘层105之间不易脱落，从而使得阵列基板10的整体结构稳定。

图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图，在上述实施例的基础上，阵列基板10还包括黑矩阵106，黑矩阵106位于第一电极1012 和绝缘层105之间，黑矩阵106在衬底基板100上的垂直投影与第一电极1012 的非镂空区104在衬底基板100上的垂直投影至少部分重合。

其中，黑矩阵106对光线的吸收能力较强，通过在第一电极1012和缓冲层 105之间设置黑矩阵106，可增加对与垂直于阵列基板10的出光面方向的夹角大于设定阈值的光线的吸收，进一步减弱光线之间的串扰，提高指纹识别的准确性。

示例性的，黑矩阵106和第一电极1012的镂空区103中的垂直于衬底基板 100的侧面可仅与绝缘层105接触，也可仅与发光层1011接触，也可与绝缘层 105和发光层1011均接触。本发明对黑矩阵106和第一电极1012相对于绝缘层106和发光层1011的位置不作限定。

可选的，黑矩阵106在衬底基板100上的垂直投影与第一电极1012的非镂空区104在衬底基板100上的垂直投影完全重合，通过黑矩阵106增强倾斜角度大于设定阈值的指纹信号光的吸收，进一步减弱光线之间的串扰，提高指纹识别的准确性。

示例性的，继续参照图12，第一电极1012的厚度C的取值范围为100nm ≤C≤500nm，黑矩阵106的厚度D的取值范围为0.5μm≤D≤2μm，这样设置，一方面可提高阵列基板10的图像显示质量；另一方面，可增强对倾斜角度大于设定阈值的指纹信号光的吸收，可减少甚至消除由触摸主体04反射的光线之间的串扰，从而提高指纹识别的准确性。

在上述各技术方案中，若至少部分发光单元101复用为指纹识别光源，不需要额外设置指纹识别光源，可进一步简化阵列基板10的结构，降低阵列基板 10的厚度以及制作难度。

若设置指纹识别光源为外挂光源，可选地，设置指纹识别光源为用红外光源或准直光源。其中，若设置指纹识别光源为红外光源。红外光源与发光单元 101发出的光线波段不同，可使阵列基板10的图像显示功能和指纹识别功能不会相互影响，在提高阵列基板10的图像显示质量的同时可提高指纹识别的精度。而若指纹识别光源为准直光源。由于准直光源出射的光可平行入射到触摸主体 04表面，各路由光源发出的光线之间串扰较小，可进一步提高指纹识别的准确性。

基于同一构思，本发明实施例还提供了一种阵列基板的制造方法。示例性的，图13为本发明实施例提供的一种阵列基板的制造方法的流程示意图。参照图13，该制造方法包括：

S21、提供衬底基板。

其中，衬底基板可为刚性基板或柔性基板，本发明实施例对衬底基板的材质不作限定。

S22、在衬底基板上形成多个发光单元。

其中，发光单元的发光颜色可以为红色、绿色、蓝色或者黄色，本发明实施例对此不限定。每个发光单元包括第一电极和发光层，第一电极位于衬底基板和发光层之间，第一电极包括至少一个镂空区和围绕镂空区的非镂空区，从而使得第一电极具有光线筛选作用。本发明实施例对第一电极和发光层的材质不作限定。

S23、在衬底基板上形成多个感光单元，感光单元位于发光单元靠近衬底基板的一侧。

其中，感光单元在衬底基板上的垂直投影与第一电极的镂空区在衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

由此，通过设置第一电极包括至少一个镂空区和围绕镂空区的非镂空区，实质上是将第一电极复用为光线筛选结构，以对指纹信号光进行“筛选”。具体的，第一电极的镂空区相当于光线筛选结构的筛选通道。由触摸主体反射的光线可以分为两部分，一部分光线的倾斜角度小于设定阈值，可通过镂空区照射到感光单元，被感光单元接收；另一部分光线的倾斜角度大于设定阈值，这部分光线会照射到第一电极的非镂空区，被非镂空区吸收，不能照射到感光单元上。这样能够对经由触摸主体不同位置反射至同一感光单元的光线进行选择性地滤除，即可以滤除相对于垂直于阵列基板的出光面方向的倾斜角度大于第一电极的设定阈值的光线，有效避免了经由触摸主体不同位置反射的光线照射至同一感光单元造成的串扰现象，提高了指纹识别的准确性和精度。

相对于额外增设光线筛选结构的方案，此阵列基板结构中，通过设置发光单元的第一电极包括至少一个镂空区，可利用第一电极实现对触摸主体04反射的光线进行选择性吸收，即实现光线筛选结构的功能，从而无需另外设置光线筛选结构，由此减少了阵列基板的整体厚度，有利于实现阵列基板的轻薄化。

此外，本申请将指纹识别模块植入显示面板之中，实现了集成光感触控单元(incell)的显示面板技术，使得面板具备屏下指纹识别功能之外，兼具薄型化优势，显示面板更为轻薄，且制备工艺简单，有利于提升显示面板的核心竞争力，为屏下指纹识别技术做出巨大贡献。

在实际制作时，S22和S23的执行时序不限于上述实施例所限定的。

图14为本发明实施例提供的另一种阵列基板的制造方法的流程示意图，结合图9，对图13中步骤S22的进一步细化说明。参照图14，该制造方法可包括：

S31、提供衬底基板。

S321、在衬底基板上形成绝缘层。

其中，绝缘层的材料可以为氮化硅(SiNx)，绝缘层的形式方式可以为物理成膜方式或者化学成膜方式。本发明实施例对绝缘层的材质以及成膜方式不作限定。

S322、在绝缘层背离衬底基板的一侧形成多个与第一电极形状相同的第一凹槽。

其中，可采用湿法刻蚀或者干法刻蚀的方式在绝缘层背离衬底基板的一侧形成第一凹槽；或者，还可以将步骤S321和步骤S322合并为一个步骤，即二者在一个工艺制程中完成，示例性的，可以利用掩膜蒸镀的方式，利用与第一电极形状相同的掩膜版对衬底基板进行掩膜蒸镀，从而形成具有第一凹槽的绝缘层。

S323、在第一凹槽内形成发光单元的第一电极。

其中，第一电极嵌入到第一凹槽内，第一电极中嵌入到第一凹槽内的部分为非镂空区，由非镂空区围成的且露出绝缘层的部分为镂空区。由此，形成具有光线筛选功能的第一电极。

S324、在第一电极上形成发光层，发光层覆盖第一电极的镂空区和非镂空区，第一电极背离衬底基板的表面和发光层电接触。

其中，发光层可为有机发光材料或者无机发光材料通过物理成膜方式或者化学成膜方式形成，发光层的发光颜色可以为红色、绿色、蓝色或者黄色。本发明实施例对发光层的材料及形成方式不作限定。

其中，第一电极背离衬底基板的表面和发光层电接触，形成载流子的传输通道，使载流子可以从第一电极传输到发光层，保证发光单元正常发光。

S33、在衬底基板上形成多个感光单元，感光单元位于发光单元靠近衬底基板的一侧。

本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，除具有上述制造方法具备的有益效果之外，还通过在绝缘层形成第一凹槽，在第一凹槽内形成发光单元的第一电极，将第一电极的非镂空区嵌入到绝缘层，可使阵列基板上膜层结构中绝缘层和第一电极之间不易脱落，从而使得阵列基板的整体结构稳定。

可选的，步骤S323还可以包括：在第一凹槽内形成黑矩阵，黑矩阵嵌入到第一凹槽内，黑矩阵的厚度小于第一凹槽的深度；在第一凹槽内形成发光单元的第一电极，第一电极嵌入到第一凹槽内，并覆盖黑矩阵。

其中，黑矩阵可采用光吸收系数较高的材料通过物理成膜方式或者化学成膜方式形成，本发明实施例对黑矩阵的材质及形成方式不作限定。设定黑矩阵的厚度小于第一凹槽的深度是为了在绝缘层的第一凹槽中保留形成发光单元的第一电极的空间。此步骤中，通过形成黑矩阵，可增加对由触摸主体反射的光线的吸收，从而减弱甚至消除反射光线之间的串扰，进而增加指纹识别的准确性。

其中，可选地，发光单元的第一电极的厚度与黑矩阵的厚度的总和等于绝缘层的第一凹槽的深度；黑矩阵在衬底基板上的垂直投影在第一电极在衬底基板上的垂直投影内。

图15为本发明实施例提供的又一种阵列基板的制造方法的流程示意图，结合图10，对图13中步骤S22的进一步细化说明。参照图15，该制造方法可包括：

S51、提供衬底基板。

S521、在衬底基板上形成绝缘层。

S522、在绝缘层上形成发光单元的第一电极，第一电极的镂空区露出绝缘层。

其中，在步骤S521中形成的绝缘层为平面膜层，其表面无需形成第一凹槽。在平面绝缘层上形成的第一电极包括至少一个镂空区，此镂空区露出绝缘层远离衬底基板的一侧的表面。

S523、在第一电极上形成发光层，发光层覆盖第一电极的非镂空区，并填充第一电极的镂空区。

其中，发光层还与第一电极的非镂空区垂直于衬底基本的侧面接触，增加了发光层与第一电极的接触面积，减少了膜层脱落的可能性，从而使阵列基板的整体结构稳定。

S53、在衬底基板上形成多个感光单元，感光单元位于发光单元靠近衬底基板的一侧。

可选的，步骤S522还可以包括：在绝缘层上形成黑矩阵；在黑矩阵上形成发光单元的第一电极。

其中，在步骤S521中形成的绝缘层为平面膜层，其表面无需形成第一凹槽。在平面绝缘层上形成的黑矩阵包括至少一个镂空区，此镂空区露出绝缘层远离衬底基板的一侧的表面。此步骤中，通过形成黑矩阵，可增加对由触摸主体反射的光线的吸收，从而减弱甚至消除反射光线之间的串扰，进而增加指纹识别的准确性。

其中，第一电极至少包括一个镂空区，且黑矩阵在衬底基本的垂直投影与第一电极在衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，除具有上述制造方法具备的有益效果之外，还通过在绝缘层上形成具有至少一个镂空结构的第一电极，通过发光层覆盖第一电极的非镂空区，并填充第一电极的镂空区，将第一电极的非镂空区嵌入到发光层，可使阵列基板上膜层结构中第一电极和发光层之间不易脱落，从而使得阵列基板的整体结构稳定。

本发明实施例还提供一种显示面板，该显示面板包括上述实施方式提供的阵列基板。

本发明实施例提供的显示面板包括上述实施例中的阵列基板，因此本发明实施例提供的显示面板也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。示例性的，本发明实施例提供的显示面板为有机发光显示面板，有机发光显示面板可以是笔记本电脑、平板电脑、电子纸或显示器等任何具有显示功能的产品或部件，本发明实施例对此不作限定。

本发明实施例还提供一种显示装置，示例性的，图16为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。参照图16，显示装置30包括上述实施方式提供的显示面板20。

本发明实施例提供的显示装置30包括上述实施方式中的显示面板20，显示面板20包括上述实施方式中的阵列基板10，因此本发明实施例提供的显示装置30也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。示例性的，显示装置30可以包括手机、电脑以及智能可穿戴设备等显示装置，本发明实施例对此不作限定。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (18)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的多个发光单元；

位于所述发光单元靠近所述衬底基板的一侧的感光单元；

其中，每个所述发光单元包括第一电极和发光层，所述第一电极位于所述衬底基板和所述发光层之间，所述第一电极包括至少一个镂空区和围绕所述镂空区的非镂空区，所述感光单元在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的所述镂空区在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：

所述第一电极包括多个镂空区。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于：

所述镂空区呈阵列结构排布。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于：

所述镂空区的形状为正方形。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于：

所述镂空区的边长A的取值范围为1μm≤A≤10μm。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极的厚度B的取值范围为1μm≤B≤2μm。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极为全反射电极。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括绝缘层；

所述绝缘层位于所述第一电极和所述感光单元之间；

所述第一电极的所述镂空区中的垂直于所述衬底基板的侧面与所述绝缘层和所述发光层中的至少一层接触。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，还包括黑矩阵；

所述黑矩阵位于所述第一电极和所述绝缘层之间；

所述黑矩阵在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的所述非镂空区在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

10.根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的所述非镂空区在所述衬底基板上的垂直投影完全重合。

11.根据权利要求9所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极的厚度C的取值范围为100nm≤C≤500nm；所述黑矩阵的厚度D的取值范围为0.5μm≤D≤2μm。

12.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成多个发光单元；

在所述衬底基板上形成多个感光单元，所述感光单元位于所述发光单元靠近所述衬底基板的一侧；

其中，每个所述发光单元包括第一电极和发光层，所述第一电极位于所述衬底基板和所述发光层之间，所述第一电极包括至少一个镂空区和围绕所述镂空区的非镂空区，所述感光单元在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的所述镂空区在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

13.根据权利要求12所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成多个发光单元，包括：

在所述衬底基板上形成绝缘层；

在所述绝缘层背离所述衬底基板的一侧形成多个与所述第一电极形状相同的第一凹槽；

在所述第一凹槽内形成所述发光单元的所述第一电极，其中，所述第一电极嵌入到所述第一凹槽内，所述第一电极中嵌入到所述第一凹槽内的部分为非镂空区，由所述非镂空区围成的且露出所述绝缘层的部分为镂空区；

在所述第一电极上形成所述发光层，所述发光层覆盖所述第一电极的所述镂空区和所述非镂空区，所述第一电极背离所述衬底基板的表面与所述发光层电接触。

14.根据权利要求13所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在所述第一凹槽内形成所述发光单元的所述第一电极，包括：

在所述第一凹槽内形成黑矩阵，所述黑矩阵嵌入到所述第一凹槽内，所述黑矩阵的厚度小于所述第一凹槽的深度；

在所述第一凹槽内形成所述发光单元的所述第一电极，所述第一电极嵌入到所述第一凹槽内，并覆盖所述黑矩阵。

15.根据权利要求12所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成多个发光单元，包括：

在所述衬底基板上形成绝缘层；

在所述绝缘层上形成所述发光单元的所述第一电极，所述第一电极的所述镂空区露出所述绝缘层；

在所述第一电极上形成所述发光层，所述发光层覆盖所述第一电极的非镂空区，并填充所述第一电极的所述镂空区。

16.根据权利要求15所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在所述绝缘层上形成所述发光单元的所述第一电极，包括：

在所述绝缘层上形成黑矩阵；

在所述黑矩阵上形成所述发光单元的所述第一电极，所述黑矩阵在所述衬底基板上的垂直投影与所述第一电极的非镂空区在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。

17.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-11任一项所述的阵列基板。

18.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求17所述的显示面板。