CN111465722A - 电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置 - Google Patents

电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111465722A
CN111465722A CN201880063208.4A CN201880063208A CN111465722A CN 111465722 A CN111465722 A CN 111465722A CN 201880063208 A CN201880063208 A CN 201880063208A CN 111465722 A CN111465722 A CN 111465722A
Authority
CN
China
Prior art keywords
negative electrode
bracket
electrode plate
electropolished
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201880063208.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111465722B (zh
Inventor
黄在祥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
South Korean Aosenreid Co ltd
Original Assignee
South Korean Aosenreid Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020170125740A external-priority patent/KR101848266B1/ko
Priority claimed from KR1020170125738A external-priority patent/KR101848257B1/ko
Application filed by South Korean Aosenreid Co ltd filed Critical South Korean Aosenreid Co ltd
Publication of CN111465722A publication Critical patent/CN111465722A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111465722B publication Critical patent/CN111465722B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/16Polishing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

实施例涉及电解研磨用电极框架、可变型电极框架及包括其的电解研磨装置。为了达成所述目的,实施例的电极框架作为在内部形成有容纳电解研磨对象物和电解液的容纳空间的电解槽中使用的电极框架,可以包括:负极框架,其与所述电解研磨对象物隔开配置,包括第一方向的第一负极板、第二方向的第二负极板、与所述第一方向及第二方向不同方向的第三方向的第三负极板;及电极结合构件,其配置于所述电解研磨对象物的角部,使所述第一负极板至所述第三负极板连接。所述电极结合构件可以包括与所述第一负极板结合的第一支架、与所述第二负极板结合的第二支架及与所述第三负极板结合的第三支架。在所述负极框架的一侧,可以包括使所述负极框架从所述电解研磨对象物的侧面或底面隔开的隔开构件。

Description

电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其 的电解研磨装置
技术领域
实施例涉及电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置,涉及一种用于提高电解研磨对象物的研磨品质的电解研磨装置。
背景技术
一般而言,电解研磨(Electro polishing)是一种将溶解于电解液的金属制品用作正极(Anode)、将在电解液中不溶性的金属用作负极(Cathode),通过向所述正极与负极之间施加电压,在作为电解研磨对象物的金属制品的表面引起电解来研磨金属制品表面的方法。
为了利用电解研磨来研磨金属,在电解槽中填充电解液,将要研磨的金属安装为正极,将不溶解于电解液的金属安装为负极,然后向正极和负极施加直流。
进行电解研磨后,大量含有从正极溶解的金属离子的高粘度液体层(粘性层)包围正极。在因金属离子而饱和的液体层中,金属不再溶解,形成高正极电位,因而与氧活跃地结合而形成氧化物皮膜。此时,溶解的金属离子主要累积于金属表面的凹陷部分,在凹陷部分,金属离子的移动和扩散小,电气导通不畅,因而金属不溶解。相反,在金属表面的凸出部分,金属离子层形成得薄,因而电流集中,容易使金属表面溶解,整体而言,金属表面变得平滑。
电解研磨通过电解研磨装置实施,以往技术的电解研磨装置的极板以板形状形成,各个负极板组装成既定形态,与电解研磨对象物的研磨面隔开地安装。
如上所述组装的负极板应以不与电解研磨对象物接触的方式安装于电解槽内。可是,负极板只有与电解研磨对象物接近地保持既定距离并配置,才能实现均一研磨,提高电解研磨品质。
但是在以往技术中,实际上无法将负极板以与电解研磨对象物接近地保持既定距离的方式坚固地配置。
另一方面,本件申请的发明人研发了在电解研磨对象物上形成的放出口使用负极托架而在使负极板接近电解研磨对象物一侧的同时均一地固定的发明,并获专利授权(参照韩国授权专利10-1183218号)。
但是,负极板由于需要与电解研磨对象物距离相当近地安装,因而负极板与电解研磨对象物之间的空间非常狭小,特别是电解研磨对象物的角部具有更狭小的空间。
另一方面,作为现在原有行业的技术,为了将负极板在角部相互连接而需要使用各种夹具,在电解研磨对象物角部的狭小空间,负极板的组装相当困难,因此,发生组装时间上升及费用上升的问题。
另外,当在电解研磨对象物的角部空间组装负极板时,连接固定负极板的多个夹具彼此妨碍,因而无法使用多个夹具,因此,存在无法坚固地固定负极板的问题。
另外,为了使负极板固定而使用多个夹具,因此,在电解研磨对象物的狭小的角部,发生夹具与电解研磨对象物接触而引起短路的问题。
另外,以往,原有的多个负极板借助于夹具而独立地固定,此时,负极板在电解研磨过程因氧化等而会处于表面导电率下降的状态,因此,在每当需要时而结合各个负极板的情况下,导电性低下,结果存在电解研磨的效率或品质低下的问题。
又一方面,随着电解研磨对象物的大小及研磨面面积的多样化,预先组装的负极板在使用一次后丢弃,或者完全分离后重新组装、安装。因此,发生新制作或重新组装负极板所需的时间及费用上升的问题。
特别是当电解研磨对象物的形状复杂时,例如,在电解研磨对象物的上侧宽度与下侧宽度较宽而中间区域的宽度相对较窄的情况下,负极板的组装或移动困难,实际上以大致的形态进行电解研磨。
例如,在电解研磨对象物的形状复杂的情况下,作为现在原有行业技术,将负极棒垂挂于电解槽,或以负极网形态形成大网后,将其垂挂于电解槽而大致地进行电解研磨,但却是电解研磨品质或工序效率非常低的状态。
另一方面,以往技术的负极板借助于作为另外的支撑构件的夹具而支撑,但负极板与电解研磨对象物之间的距离非常接近地配置,因而难以在负极板与电解研磨对象物之间的狭小空间安装夹具。即,由于夹具以导电性材质形成,因此,如果夹具与正极的电解研磨对象物接触,则与具有负极的负极板发生电气短路。
发明内容
(要解决的技术问题)
实施例目的是提供一种用于使在电解研磨对象物的角部配置的多个负极板坚固地固定的电解研磨装置。
另外,实施例目的是提供一种用于防止在电解研磨对象物角部配置的多个夹具与电解研磨对象物短路的电解研磨装置。
另外,实施例目的是提供一种能够缩短在电解研磨对象物角部配置的负极框架组装时间的电解研磨装置。
另外,实施例目的是使得导电率优秀、电解研磨的效率及研磨品质优秀。
另外,实施例目的是提供一种用于防止因夹具而发生负极板与电解研磨对象物之间的电气短路的电解研磨装置。
另外,实施例目的是提供一种能够根据电解研磨对象物的大小而扩张或缩小的可变型电极框架、电解研磨用电极框架的固定构件及包括其的电解研磨装置。
另外,实施例目的是提供一种即使在电解研磨对象物形状复杂的情况下也能够有效电解研磨的可变型电极框架、电解研磨用电极框架的固定构件及包括其的电解研磨装置。
另外,实施例另一目的是提供一种用于防止因夹具而发生负极板与电解研磨对象物之间的电气短路的电解研磨装置。
(解决问题的手段)
为了达成所述目的,实施例的电极框架作为在内部形成有容纳电解研磨对象物和电解液的容纳空间的电解槽中使用的电极框架,可以包括:负极框架,其与所述电解研磨对象物隔开配置,包括第一方向的第一负极板、第二方向的第二负极板、与所述第一方向及第二方向不同方向的第三方向的第三负极板;及电极结合构件,其配置于所述电解研磨对象物的角部,使所述第一负极板至所述第三负极板连接。
所述电极结合构件可以包括与所述第一负极板结合的第一支架、与所述第二负极板结合的第二支架及与所述第三负极板结合的第三支架。
在所述负极框架的一侧,可以包括使所述负极框架从所述电解研磨对象物的侧面或底面隔开的隔开构件。
另外,实施例的电极框架可以包括:第一负极板,其向第一方向配置并由多个支架构成;第二负极板,其向与所述第一方向构成既定角度的第二方向配置,由多个支架构成。
所述第一负极板可以包括第一支架和第二支架,所述第一支架在一部分重叠于所述第二支架的状态下,可以向从所述第二支架远离或靠近的方向移动,所述第一支架与所述第二支架的重叠区域可以为变长或变短的可变型。
既定的研磨对象物可以包括互不相同的宽度的第一区域和第二区域,所述可变型的第一负极板可变,以便能够穿过所述研磨对象物的第二区域,穿过所述第二区域的所述第一负极板为可变型,以便与所述研磨对象物的第一区域的面积对应地可变。
实施例的电解研磨装置可以包括所述电极框架。
(发明的效果)
实施例在电解研磨对象物的角部配备电极结合构件,从而具有可以缩短多个负极板的组装时间的效果。
另外,实施例的电极结合构件具有无需多个固定构件也可以使负极板更坚固地固定的效果。
另外,实施例具有的效果,电极结合构件可以在狭小的电解研磨对象物的角部容易地安装,可以防止与电解研磨对象物短路。
另外,实施例的电极结合构件可以在具有90度以上的电解研磨对象物的角部容易地安装,具有可以对电解研磨对象物的角部有效执行电解研磨的效果。
另外,实施例的电极结合构件即使电解研磨对象物的角部不具有顶点,也可以有效安装,因而具有可以对电解研磨对象物的角部有效执行电解研磨的效果。
另外,实施例在导电性优秀的状态下,使负极板预先坚固地固定,准备负极框支架,从而具有导电率优秀、电解研磨效率及研磨品质非常优秀的技术效果。
另外,实施例的夹具还形成绝缘部,从而具有可以在负极框架与电解研磨对象物之间的狭小空间可以容易地安装的效果。
另外,实施例的可变型电极框架以与电解研磨对象物的研磨面对应的大小组装,配置于电解研磨对象物的研磨面,从而具有可以节省新制作或重新组装负极板所需的时间及费用的效果。
另外,实施例可以提供即使在电解研磨对象物形状复杂的情况下也可以有效电解研磨的可变型电极框架及包括其的电解研磨装置。
另外,实施例的可变型电极框架构成得使第一支架在第二支架上滑动结合,具有可以更有效控制可变型电极框架的大小的效果。
另外,实施例将具有互不相同面积并电气连接的多个可变型电极框架及辅助负极板配置于研磨面,从而具有可以对具有互不相同面积的电解研磨对象物的研磨面有效进行电解研磨的效果。
附图说明
图1是显示第一实施例的电解研磨装置的立体图。
图2是显示第一实施例的电解研磨装置的电极结合构件的立体图。
图3是显示第一实施例的电解研磨装置的电极结合构件的分解立体图。
图4a及图4b是显示第一实施例的电解研磨装置的夹具的立体图。
图5是显示第一实施例的电解研磨装置的负极框架的变形例的立体图。
图6是显示第二实施例的电解研磨装置的概略立体图。
图7是显示第二实施例的电解研磨装置的电极结合构件的立体图。
图8是显示第三实施例的电解研磨装置的概略立体图。
图9是显示第四实施例的具备可变型电极框架的电解研磨装置的立体图。
图10是显示图9的可变型负极框架的支撑结构的局部立体图。
图11是以图9的可变型负极框架为中心显示的概略立体图。
图12是显示第四实施例的可变型负极框架的变形例的概略立体图。
图13及图14是显示可变型负极框架的运转的剖面图。
图15是显示第五实施例的具备可变型电极框架的电解研磨装置的立体图。
具体实施方式
下面参照附图,详细说明实施例。
图1是显示第一实施例的电解研磨装置的立体图,图2是显示第一实施例的电解研磨装置的电极结合构件的立体图,图3是显示第一实施例的电解研磨装置的电极结合构件的分解立体图,图4a及图4b是显示第一实施例的电解研磨装置的夹具的立体图,图5是显示第一实施例的电解研磨装置的负极框架的变形例的立体图。
如果参照图1,实施例的电极框架作为在内部形成有容纳电解研磨对象物200和电解液的容纳空间的电解槽100中使用的电极框架,可以包括:负极框架500,其与所述电解研磨对象物200隔开配置,包括第一方向的第一负极板510、第二方向的第二负极板520、与所述第一方向及第二方向不同方向的第三方向的第三负极板530;及电极结合构件400,其配置于所述电解研磨对象物的角部,使所述第一负极板至所述第三板连接。
另外,第一实施例的电解研磨装置可以包括:容纳电解研磨对象物200和电解液的电解槽100;与所述电解研磨对象物200隔开配置的负极框架500;配置于所述电解研磨对象物200的角部并使所述负极框架500连接的电极结合构件400。在实施例中,电极框架可以包括负极框架。
电解槽100可以以在内部配备有容纳空间的箱形状形成。电解槽100可以包括圆筒形、多边箱或环形状,但其形状并不限定。
在电解槽100的内部可以填充有电解液。作为电解液,可以将从由蒸馏水(H2O)、硫酸(H2SO4)类、磷酸(H3PO4)类、铬酸类、硝酸钠(NaNO3)、氯化钠(NaCl)、甘油类构成的组中选择的至少一种物质混合构成,但并不限定于此。
电解液可以在填充于电解槽100的状态下,在结束电解研磨对象物200的电解研磨后更换。不同于此,电解液可以借助于在电解槽100的一侧独立地形成的泵而流入、流出。在电解槽100与泵之间,可以形成有电解液流入管、电解液流出管,可以还包括电解液流量调节部、过滤器。过滤器可以过滤电解液中包含的加工物渣滓及异物质。
在电解槽100的内部可以容纳电解研磨对象物200。电解槽100的大小可以大于电解研磨对象物200地形成。电解研磨对象物200可以为多边形的腔室或圆筒形的箱子。电解研磨对象物200可以是用于OLED制造的腔室。另一方面,在电解研磨对象物200为OLED用腔室或LED用MOCVD腔室等的情况下,也存在其重量为数百kg到数千kg(数吨)的巨大的情形。
另外,电解研磨对象物200也可以是OLED腔室的一部分构成部件。电解研磨对象物200可以为箱形状或上下贯通形成的环形状。电解研磨对象物200并不限定于此,可以将所有金属材质制品指定为电解研磨对象物。电解研磨对象物200浸于电解液内。
电解研磨对象物200由于其重量相当大,因此,例如可以在利用起重机等吊起的状态下,容纳于电解槽100的容纳空间。电解研磨对象物200可以借助于另外的支撑构件,在电解槽100内部与电解研磨对象物200的研磨面隔开地配置。电解研磨对象物200的研磨面可以包括电解研磨对象物的外侧、内侧、底面等。
在电解槽200的外侧还可以配置有整流器。整流器可以向电解研磨对象接入正极(+)的电压,可以向负极框架500接入负极(-)的电压。整流器可以借助于电线等而与电解研磨对象物200电气连接。
负极框架500可以配置于电解研磨对象物200的内部及外部。负极框架500可以与电解研磨对象物200的研磨面隔开既定间隔配置。例如,负极框架500与电解研磨对象物2000按50mm±20mm距离均一地隔开配置,因而电解研磨效率提高,电解研磨品质非常优秀。
负极框架500可以选择性地研磨作为电解研磨对象物200研磨面的内侧、外侧或底面,或者研磨所有面。在本实施例中,为了说明的便利,对负极框架500配置于电解研磨对象物200的内侧的结构进行说明。
负极框架500可以包括格子结构。负极框架500可以为导电率卓越的不锈钢材料,但并不限定于此。负极框架500可以为条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、线网、孔板金属、圆形状的板,但并不限定于此。
负极框架500可以包括沿第一方向配置的第一负极板510、与第一方向不同方向例如构成垂直地配置的第二负极板520、与第一方向和第二方向不同方向例如构成垂直的第三负极板530。第一负极板510、第二负极板520、第三负极板530分别可以为条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、线网、孔板金属、圆形状的板,但并不限定于此。
第一负极板510可以由多个板构成,构成得上下隔开地配置。第二负极板520可以由多个板构成,构成得上下隔开配置。第一负极板510和第二负极板520可以对研磨对象物200的内部侧面进行研磨。
在最下方配置的第一负极板510与第二负极板520之间,可以还配置有多个负极板,以格子结构配置。多个支架可以通过铆钉、螺栓或焊接等组装装置而相互结合。如上所述组装的负极框架500可以对电解研磨对象物200的内部底面有效进行电解研磨。如果电解研磨对象物200的底面不存在,则在最下方配置的第一负极板510与第二负极板520之间的多个负极板可以去除。
第三负极板530可以在第一负极板510与第二负极板520相交区域形成。多个第三负极板530可以与多个第一负极板510交叉配置。多个第三负极板530可以与多个第二负极板520交叉配置。第三负极板530可以沿电解研磨对象物200的纵向配置。
第一负极板510与第二负极板520可以垂直地配置,但并不限定于此。另外,第三负极板530与第一负极板510可以垂直地配置,但并不限定于此。
如上所述的结构的负极框架500应与研磨面隔开配置,使得不与正极的电解研磨对象物200接触.为此,在负极框架500的一侧可以配备有隔开构件700。隔开构件700可以安装得使负极框架500与电解研磨对象物200的侧壁或底部隔开。下面对隔开构件700与负极框架500和电解研磨对象物200的底部隔开的结构进行说明。
隔开构件700可以在第一负极板510上形成多个。隔开构件700可以在第二负极板520上形成多个。隔开构件700可以以绝缘材质形成。隔开构件700可以承受负极框架500的重量,可以以耐酸性强的材质形成。隔开构件700可以包括PVC、橡胶、聚氨酯橡胶、电木中某一者。隔开构件700可以借助于C型夹具600而与第一负极板510结合。隔开构件700可以由在一侧具有棱角部的板形成,但其形状不限定。
上面说明了隔开构件700在第一负极板510及第二负极板520形成的情形,但并不限定于此,也可以安装于第三负极板530的一侧。
上面对负极框架具有固定长度的结构进行了说明,但可以使用使负极框架大小随着电解研磨对象物增大而可变的可变结构的负极框架。其中,负极框架以第一负极板及第二负极板结构为中心进行说明。
如图5所示,负极框架500的第一负极板510可以由多个支架构成,可以构成得其长度能够加长或减小。第二负极板520的结构可以与第一负极板510的结构相同。下面,以第一负极板510的结构为中心进行说明。
第一负极板510可以构成得使多个支架连接。第一负极板510可以一部分重叠地配置,向相互远离或靠近的方向移动。第一负极板510可以由多个支架构成,出于说明的便利,以第一负极板510由第一支架512和与所述第一支架512连接的第二支架514构成的结构为中心进行说明。在第一负极板510中,所述第一支架512可以称为第一负极支架,所述第二支架514可以称为第二负极支架。
第一支架512的一部分区域可以与第二支架514的一部分区域重叠形成。第一支架512与第二支架514的重叠的区域可以借助于C型夹具600而支撑。支撑第一支架512与第二支架514的C型夹具600可以称为第四夹具。
第一支架512与第二支架514可以沿相互远离或靠近的方向移动。C型夹具600可以以第一支架512与第二支架514可以相互移动的程度的力,支撑第一支架512和第二支架514。不同于此,C型夹具600可以在使第一支架512和第二支架514移动后,进一步施加固定力,支撑第一支架512和第二支架514。
第二负极板520可以与第一负极板510相同地包括第一支架522和第二支架524。第二负极板520的第一支架522可以沿从第二支架524远离或靠近的方向移动。
第二负极板520的第一支架532和第二支架524可以一部分重叠地配置。第二负极板520的第一支架522与第二支架524的重叠的区域,可以借助于C型夹具600而支撑。因此,第二负极板530长度可变。
上面说明了第一负极板510和第二负极板520为可变结构的情形,但并不限定于此,第三负极板530可以由多个支架形成,以其长度可变的结构形成。
返回图1,负极框架500与电解研磨对象物200按50mm±20mm间隔配置,因而电解研磨对象物200的角部的空间非常狭小。因此,在电解研磨对象物200的角部,不容易结合多个负极框架500。在本实施例中,为了使多个负极框架500结合于电解研磨对象物200的角部,可以配备有电极结合构件400。
电极结合构件400可以配置于所述第一负极板510、第二负极板520与第三负极板530相交的区域。电极结合构件400可以使第一负极板510、第二负极板520、第三负极板530电气连接。电极结合构件400可以使第一负极板510、第二负极板520、第三负极板530固定。
电极结合构件400可以包括与第一负极板510结合的第一支架410、与第二负极板520结合的第二支架420、与第三负极板530结合的第三支架430。
第一支架410可以以与第一负极板510对应的形状形成。例如,第一支架至第三支架410,420,430可以包括L字形状、条(bar)形状、角形状、棒形状、圆形状,但并不限定于此。第一负极板510可以借助于C型夹具600而在与第一支架410重叠的状态下固定。
第二支架420可以借助于与C型夹具600而与第二负极板520结合,第三支架430可以借助于C型夹具600而与第三负极板530结合。固定所述第一负极板510的C型夹具600可以称为第一夹具,固定所述第二负极板520的C型夹具600可以称为第二夹具,固定所述第三负极板530的C型夹具600可以称为第三夹具。
另一方面,C型夹具600以导电性材质形成,因而安装于负极框架500与电解研磨对象物200之间狭小空间的C型夹具600,会与电解研磨对象物200接触,在负极框架500与电解研磨对象物200之间发生电气短路。
为了防止这种情况,如图4所示,可以在固定负极框架500与电极结合构件400的固定部610的一侧,还形成有绝缘部620。其中,固定部610可以分别配置于第一主体640和第二主体650的一侧。第二主体650可以以C字形状形成,与第一主体640结合。第一主体640可以结合于第二主体650并上下移动。因此,相向配置于第一主体640与第二主体650的固定部510,可以沿相互靠近方向或远离方向移动。
绝缘部620可以在固定部610的一侧形成,与负极框架500和电极结合构件400接触。因此,C型夹具600即使与电解研磨对象物200的一侧接触,也可以防止电解研磨对象物200与负极框架500之间的电气短路。绝缘部620可以包括具有弹性的材质。绝缘部620可以包括PVC、橡胶、聚氨酯橡胶、电木等,但并不限定于此。
另外,C字形状的第二主体650的一部分可以与电解研磨对象物200或负极板的一侧接触。为了防止这种情况,可以在第二主体650的表面还包括绝缘膜650b。第二主体650的内部为了保持刚性而可以由导电性物质650a构成,可以在第二主体650的外侧面涂布形成有绝缘膜650b。
另外,在C型夹具600上,为了使相互结合的框架的固定力最大化,还可以形成有凸起630。凸起630具有可以防止C型夹具600例如从负极框架500打滑、防止C型夹具600从电极结合构件400脱离的效果。
以上是在C型夹具600的固定部610的一侧形成绝缘部620,但也可以以绝缘材质形成固定部620,去除绝缘部620。
如图2及图3所示,可以配置得使第一支架410与第二支架420构成的角度θ23构成90度,但并非限定于此。第三支架430可以配置得与第一支架410及第二支架420构成90度,但并非限定于此。
第一支架410可以包括第一面412和第二面414。第一支架410的第二面414可以从第一支架410的第一面412折弯既定角度形成。在本实施例中,第一支架410的第一面412与第一支架410的第二面414构成的角θ1可以包括90度。
第二支架420可以包括第一面422和第二面424。第二支架420的第二面424可以从第二支架420的第二面424折弯既定角度形成。在本实施例中,第二支架420的第一面422与第二支架420的第二面424构成的角θ2可以包括90度。
第三支架430可以包括第一面432和第二面434。第三支架430的第二面434可以从第三支架434的第一面432折弯既定角度形成。在本实施例中,第三支架430的第一面432与第三支架430的第二面434构成的角θ3可以包括90度。
第一支架410的第一面412可以在第三支架430的第二面434的后方,通过包括铆钉、螺栓或焊接等的组装方式而结合。为此,在第一支架410的第一面412与第三支架430的第二面434,可以形成有相同大小的孔H。
第一支架410的第二面414可以在第二支架420的第二面424的后方,通过包括铆钉、螺栓或焊接等的组装方式而结合。为此,在第一支架410的第二面414与第二支架420的第二面424,可以形成有相同大小的孔H。
第二支架420的第一面422可以在第三支架430的第一面432的前方,通过包括铆钉、螺栓或焊接等的组装方式而结合。为此,在第二支架420的第一面422与第三支架430的第一面432,可以形成有相同大小的孔H。
电极结合构件400将第一支架410在第三支架430的后方结合,将第二支架420在第三支架430的前方结合,从而可以更坚固地组装。另外,电极结合构件400借助于结合构件而结合,从而具有能够提高导电率的效果。
第一实施例的电极结合构件具有可以缩短多个负极板组装所需时间的效果。另外,第一实施例的电极结合构件具有可以使负极板更坚固地固定的效果。另外,第一实施例的电极结合构件容易地安装于狭小的电解研磨对象物的角部,具有可以防止与电解研磨对象物短路的效果。
另外,以往,原有的多个负极板借助于夹具而独立地固定,此时,负极板在电解研磨过程因氧化等而会处于表面导电率下降的状态,因此,在每当需要时而结合各个负极板的情况下,导电性低下,结果存在电解研磨的效率或品质低下的问题。
根据实施例,在导电性优秀的状态下,使负极板预先坚固地固定,准备负极框支架,从而具有导电率优秀、电解研磨效率及研磨品质非常优秀的复合性技术效果。
第一实施例可以限定于电解研磨对象物为四边箱形状的情形。当电解研磨对象物为四边箱形状时,电解研磨对象物的角部可以形成得具有90度。当然,实施例不限定于此,即使电解研磨对象物不是四边箱形状,在电解研磨对象物角部构成90度的情况下也可以应用。
下面说明由电解研磨对象物的角部形状决定的电极结合构件的另一实施例。
图6是显示第二实施例的电解研磨装置的概略立体图,图7是显示第二实施例的电解研磨装置的电极结合构件的立体图。在第二实施例中,对电解研磨对象物的角部为90度以上的情形进行说明。此时,电解研磨对象物可以为多边箱或多边环形状的腔室。
如图6所示,第二实施例的电解研磨装置可以包括:电解槽100,其在内部配备有容纳电解研磨对象物200和电解液的容纳空间;负极框架500,其与所述电解研磨对象物200隔开配置,包括第一方向的第一负极板510、第二方向的第二负极板520、与所述第一方向及第二方向不同方向例如垂直的第三方向的第三负极板530;电极结合构件400,其配置于所述电解研磨对象物200的角部,使所述第一负极板至所述第三板510,320,330连接。
电解槽100可以以在内部配备有容纳空间的箱形状形成。电解槽100可以包括圆筒形或多边箱形状,但其形状不限定。在电解槽100的内部可以填充有电解液。在电解槽100的外侧还可以配置有整流器。整流器可以向电解研磨对象施加正极(+)的电压,可以向负极框架施加负极(-)的电压。
负极框架500可以包括沿第一方向配置的第一负极板510、与第一方向构成垂直地配置的第二负极板520、与第一方向和第二方向构成垂直的第三负极板530。第一负极板510、第二负极板520、第三负极板530分别可以为条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、线网、孔板金属、圆形状的板,但并不限定于此。
第一负极板510可以由多个板构成,构成得上下隔开地配置。第二负极板可以由多个板构成,构成得上下隔开配置。第一负极板510和第二负极板520可以对研磨对象物200的内侧面进行研磨。在最下方配置的第一负极板510与第二负极板520之间,可以还配置有多个负极板,但其也可以省略。
第三负极板530可以在第一负极板510与第二负极板520相交区域形成。第三负极板520可以沿电解研磨对象物200的纵向配置。
第一负极板510与第二负极板520可以垂直地配置,但并不限定于此。另外,第三负极板530与第一负极板510可以垂直地配置,但并不限定于此。
在第二实施例中,为了使在电解研磨对象物200的角部配置的多个负极框架500结合,可以配备有电极结合构件400。其中,电解研磨对象物200可以以多边箱或多边环形状形成。
电极结合构件400可以配置于所述第一负极板510、第二负极板520与第三负极板530相交的区域。电极结合构件400可以包括第一支架410、第二支架420及第三支架430。第一支架410可以与第一负极板510结合。第二支架420可以与第二负极板520结合。第三支架430可以与第三负极板530结合。
第一支架410可以以与第一负极板510对应的形状形成。第一负极板510可以借助于C型夹具600而在与第一支架410重叠的状态下固定。第二支架420可以借助于与C型夹具600而与第二负极板520结合,第三支架430可以借助于C型夹具600而与第三负极板530结合。
如图7所示,第一支架410与第二支架420构成的角度θ23可以超过90度形成。第一支架410与第二支架420之间的角度θ23可以与电解研磨对象物200的角所构成的角度对应。第三支架430可以配置得与第一支架410及第二支架420具有90度。
第一支架410可以包括第一面412和第二面414。第一支架410的第二面424可以从第一支架410的第一面422折弯既定角度形成。在本实施例中,第一支架410的第一面412与第一支架410的第二面424构成的角θ1可以包括90度。
第二支架420可以包括第一面422和第二面424。第二支架420的第二面424可以从第二支架420的第二面424折弯既定角度形成。在本实施例中,第二支架420的第一面422与第二支架420的第二面424构成的角θ2可以包括90度。
第三支架430可以包括第一面432和第二面434。第三支架430的第二面434可以从第三支架430的第二面434折弯既定角度形成。在本实施例中,第三支架430的第一面432与第三支架430的第二面434构成的角θ3可以以90度以上形成。第一支架410结合于第三支架430的第二面434,第二支架420结合于第三支架430的第一面432,因而第一支架410与第二支架420之间的角度θ23可以与第三支架430的第一面432与第二面434构成的角度θ3对应。
第一支架410的第一面412可以在第三支架430的第二面434的后方,通过包括铆钉、螺栓或焊接等的组装方式而结合。第一支架410的第二面414可以在第二支架420的第二面424的后方,通过包括铆钉、螺栓或焊接等的组装方式而结合。第二支架420的第一面422可以在第三支架430的第一面432的前方,通过包括铆钉、螺栓或焊接等的组装方式而结合。
第二实施例的电极结合构件400可以在具有90度以上的电解研磨对象物200的角部容易地安装,具有可以对电解研磨对象物的角部有效地执行电解研磨的效果。
图8是显示第三实施例的电解研磨装置的概略立体图。在第三实施例中,对在电解研磨对象物的角部没有顶点的情形的结构进行说明。此时,电解研磨对象物可以为四边或此外的多边形状的腔室。
如图8所示,第三实施例的电解研磨装置可以包括:电解槽100,其在内部配备有容纳电解研磨对象物200和电解液的容纳空间;负极框架,其与所述电解研磨对象物200隔开配置,包括第一方向的第一负极板510、第二方向的第二负极板520、与所述第一方向及第二方向垂直的第三方向的第三负极板530;电极结合构件400,其配置于所述电解研磨对象物200的角部,使所述第一负极板至所述第三板510,320,330连接。
负极框架500可以包括沿第一方向配置的第一负极板510、与第一方向构成垂直地配置的第二负极板520、与第一方向和第二方向构成垂直的第三负极板530。第一负极板510、第二负极板520、第三负极板530分别可以为条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、线网、孔板金属、圆形状的板,但并不限定于此。
第一负极板510可以由多个板构成,构成得上下隔开地配置。第二负极板520可以由多个板构成,构成得上下隔开配置。第一负极板510和第二负极板520可以对研磨对象物200的内侧面进行研磨。在最下方配置的第一负极板510与第二负极板520之间,可以还配置有多个负极板,但其也可以省略。
第三负极板530可以在第一负极板510与第二负极板520相交区域形成。第三负极板530可以沿电解研磨对象物200的纵向配置。第三负极板530可以包括相互隔开的右侧的第三负极板530a和左侧的第三负极板530b。
电极结合构件400可以配置于所述第一负极板510、第二负极板520、左侧及右侧的第三负极板530a,530b相交的区域。电极结合构件400可以包括第一支架410、第二支架420、左侧的第三支架430a和右侧的第三支架430b。第一支架410可以与第一负极板510结合。第二支架420可以与第二负极板520结合。左侧第三支架430a可以与左侧的第三负极板530a结合。右侧第三支架430b可以与右侧的第三负极板530b结合。在左侧的第三支架430a与右侧的第三支架430b之间,可以还配置有连接构件440。连接构件440可以以金属材质的不锈钢材质形成。连接构件440以杆形状形成,但其形状不限定。
第一支架410可以以与第一负极板510对应的形状形成。第一负极板510可以借助于C型夹具而在与第一支架410重叠的状态下固定。第二支架420可以借助于C型夹具而与第二负极板520结合。左侧第三支架430a可以借助于C型夹具而与左侧的第三负极板530a结合。右侧第三支架430b可以借助于C型夹具而与右侧的第三负极板530b结合。
第一支架410与第二支架420构成的角度可以为90。不同于此,第一支架410与第二支架420构成的角度可以超过90度形成。当电解研磨对象物200为四边箱或环形状的结构物时,第一支架410与第二支架420构成的角度可以为90度,当电解研磨对象物200为多边箱或环形状的结构物时,第一支架410与第二支架420构成的角度可以超过90度。
第三实施例的电极结合构件,即使电解研磨对象物的角部不具有顶点,也能够有效地安装,具有能够对电解研磨对象物的角部有效地执行电解研磨的效果。
实施例在电解研磨对象物的角部配备电极结合构件,从而具有可以缩短多个负极板的组装时间的效果。
另外,实施例的电极结合构件具有无需多个固定构件便能够使负极框架更坚固地固定的效果。
另外,实施例具有的效果,电极结合构件可以在狭小的电解研磨对象物的角部容易地安装,可以防止与电解研磨对象物短路。
另外,实施例的电极结合构件可以在具有90度以上的电解研磨对象物的角部容易地安装,具有可以对电解研磨对象物的角部有效执行电解研磨的效果。
另外,实施例的电极结合构件即使电解研磨对象物的角部不具有顶点,也可以有效安装,因而具有可以对电解研磨对象物的角部有效执行电解研磨的效果。
另外,实施例在导电性优秀的状态下,使负极板预先坚固地固定,准备负极框支架,从而具有导电率优秀、电解研磨效率及研磨品质非常优秀的技术效果。
然后,图9是显示第四实施例的具备可变型电极框架的电解研磨装置的立体图,图10是显示图9的可变型负极框架的支撑结构的局部立体图,图11是以图9的可变型负极框架为中心显示的概略立体图。
在实施例中,可变型电极框架可以包括可变型负极框架,但并非限定于此。
如果参照图9,第四实施例的电解研磨装置可以包括:电解槽100,其在内部配备有容纳电解研磨对象物200和电解液的容纳空间;可变型负极框架300,其配置于所述电解研磨对象物200的研磨面的一侧。
电解槽100可以以在内部配备有容纳空间的箱形状形成。电解槽100可以包括圆筒形、多边箱或环形状,但其形状并不限定。
在电解槽100的内部可以填充有电解液。作为电解液,可以将从由蒸馏水(H2O)、硫酸(H2SO4)类、磷酸(H3PO4)类、铬酸类、硝酸钠(NaNO3)、氯化钠(NaCl)、甘油类构成的组中选择的至少一种物质混合构成,但并不限定于此。
电解液可以在填充于电解槽100的状态下,在结束电解研磨对象物200的电解研磨后更换。不同于此,电解液可以借助于在电解槽100的一侧独立地形成的泵而流入、流出。在电解槽100与泵之间,可以形成有电解液流入管、电解液流出管,可以还包括电解液流量调节部、过滤器。过滤器可以过滤电解液中包含的加工物渣滓及异物质。
在电解槽100的内部可以容纳电解研磨对象物200。电解槽100的大小可以大于电解研磨对象物200地形成。电解研磨对象物可以为多边形或圆筒形的腔室或箱子。电解研磨对象物200可以是用于OLED制造的腔室。
另一方面,在电解研磨对象物为OLED用腔室或LED用MOCVD腔室等的情况下,也存在其重量为数百kg到数千kg(数吨)的巨大的情形。
另外,电解研磨对象物200也可以是OLED腔室的一部分构成部件。
本实施例中的电解研磨对象物200可以是中心区域的宽度较小的结构。电解研磨对象物200可以包括具有第一面积的第一区域210、在所述第一区域210上具有小于所述第一区域210面积的面积的第二区域230、在所述第二区域230上具有大于第二区域230面积的面积的第三区域250。第一区域210与第三区域230的面积可以相同或互不相同地形成。
电解研磨对象物200的形状不限定于此,可以为板、箱形状或上下贯通形成的环形状。另外,电解研磨对象物200可以将所有金属材质的制品指定为电解研磨对象物。
电解研磨对象物200可以浸于电解液内。电解研磨对象物200由于其重量相当大,因此,例如可以在利用起重机等吊起的状态下,容纳于电解槽100的容纳空间。电解研磨对象物200的研磨面可以包括电解研磨对象物200的外侧、内侧、底面等。
在电解槽200的一侧可以还配置有整流器。整流器可以向电解研磨对象施加正极(+)的电压,可以向可变型负极框架300施加负极(-)的电压。整流器可以借助于电线等而与电解研磨对象物200电气连接。
可变型负极框架300可以配置于电解研磨对象物200的内部及外部。可变型负极框架300可以与电解研磨对象物200的研磨面隔开既定间隔配置。例如,可变型负极框架300可以与电解研磨对象物200按50mm±20mm距离隔开配置。可变型负极框架300可以选择性地研磨作为电解研磨对象物200研磨面的内侧、外侧或底面,或者同时研磨所有面。在本实施例中,为了说明的便利,对可变型负极框架300配置于电解研磨对象物200内侧的结构进行说明。
可变型负极框架300应配置于电解研磨对象物200的第一区域210,配置于第一区域210的研磨面。如果电解研磨对象物200的第二区域230不与第一区域210分离,则可变型负极框架300应穿过电解研磨对象物200的第二区域230而配置于第一区域210。
以往,负极板由于其面积已经确定,因而不容易穿过电解研磨对象物200的第二区域230。假如以往以足以穿过电解研磨对象物200的第二区域230的大小形成将负极板,则无法对电解研磨对象物200的第一区域210有效地进行电解研磨。
在本实施例中,为了将负极板配置于电解研磨对象物200的第一区域210,可以配备有可变型负极框架300。在本实施例中,以在电解研磨对象物200的第一区域210配置的可变型负极框架300为中心进行说明。在电解研磨对象物200的第二区域230及第三区域250配置的负极板可以是固定的负极板,不同于此,也可以是可变型电极框架。
可变型负极框架300可以包括格子结构的板形状。可变型负极框架300可以为导电率及耐酸性卓越的铜、铝、不锈钢材料,但并不限定于此。可变型负极框架300可以为条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、圆形状、线网形状、孔板形状的板,可以对其进行组合而构成。
可变型负极框架300可以包括第一负极板310和第二负极板320。
第一负极板310和第二负极板320可以配置得构成格子结构。第一负极板310可以以长杆形状形成。第一负极板310可以由多个板构成,构成得相互隔开配置。第二负极板320可以以长杆形状形成。第二负极板320可以由多个板构成,配置得相互隔开。第一负极板310和第二负极板320可以配置得构成90度,但并不限定于此。
第一负极板310可以由多个支架构成,可以以其长度能够变长或减小的方式构成。第二负极板320的结构可以与第一负极板310的结构相同。下面,以第一负极板310的结构为中心进行说明。
第一负极板310可以构成得使多个支架连接。第一负极板310可以一部分重叠地配置,向相互远离或靠近的方向移动。第一负极板310可以由多个支架构成,出于说明的便利,以第一负极板310由第一支架312和与所述第一支架312连接的第二支架314构成的结构为中心进行说明。
第一支架312可以为L字形状,但并不限定于此。第一支架312的一部分区域可以与第二支架314的一部分区域重叠形成。第一支架312与第二支架314的重叠的区域可以借助于C型夹具600而支撑。
如图10所示,第一支架312可以包括第一面312a和第二面312b。第二面312b可以包括从第一面312a折弯既定角度的形状。第二支架314可以以与第一支架312相同的形状形成。
第一支架312的第一面312a可以与第二支架314的第一面314a重叠配置。第一支架312的第一面312a可以配置于第二支架314的第一面314a上,但并不限定于此。第一支架312的第二面312b可以与第二支架314的第二面314b重叠配置。第一支架312的第二面312b可以配置于第二支架314的第二面314b上,但并不限定于此。
第一支架312的第一面312a与第二支架314的第一面314a的重叠区域可以借助于电解研磨用电极框架的固定构件而固定。在实施例中,电解研磨用电极框架的固定构件可以为夹具。
例如,第一支架312的第一面312a与第二支架314的第一面314a的重叠区域可以借助于C型夹具600而支撑,但并非限定于此。
C型夹具600可以如图4a及图4b所示构成,详细内容采用前面记述的内容。
例如,C型夹具600可以包括第一主体640、第二主体650、分别在所述第一主体640及第二主体650的一侧相向配置的固定部610。固定部610可以分别配置于第一主体640和第二主体650的一侧。第二主体650可以以C字形状形成,与第一主体640结合。第一主体640可以结合于第二主体650并上下移动。因此,相向配置于第一主体640与第二主体650的固定部610,可以沿相互靠近方向或远离方向移动。
固定部610可以在重叠配置的第一支架312的第一面312a一侧和第二支架314的第一面314a另一侧配置,稳定地支撑第一支架312和第二支架312b。C型夹具600可以以耐酸性优秀的不锈钢材料形成。
在实施例中,电解研磨用电极框架的固定构件以固定负极板的功能为中心进行了说明,但电极框架的固定构件的功能并不限定于此。
例如,在实施例中,电解研磨用电极框架的固定构件可以对既定的电极框架的托架与研磨对象构件间进行固定。例如,可以利用实施例的电解研磨用电极框架的固定构件,对研磨对象构件的既定的凸出部与电极框架托架之间进行固定。
另外,实施例的电解研磨用电极框架的固定构件可以对既定电极框架的托架与电极框架之间坚固地进行固定。
实施例中言及的既定电极框架的托架的发明,是本件申请人、本件发明人另外的固有发明概念。
重新返回图9及图10,第一支架312的第一面312a与第二支架314的第一面314a可以向相互远离或靠近的方向移动。C型夹具600可以以第一支架312的第一面312a和第二支架314的第一面314a能够移动的程度的力,支撑第一支架312的第一面312a和第二支架314的第一面314a。不同于此,C型夹具600在使第一支架312的第一面312a和第二支架314的第一面314a移动后,可以进一步施加固定力,支撑第一支架312和第二支架314。
第二负极板320可以与第一负极板310相同地包括第一支架和第二支架。第二负极板320可以杆形状的板形成,但并不限定于此。第二负极板320的第一支架322可以沿从第二支架324远离或靠近的方向移动。
第二负极板320的第一支架322和第二支架324可以一部分重叠地配置。第二负极板320的第一支架322与第二支架324的重叠的区域,可以借助于C型夹具600而支撑。因此,第二负极板320长度可变。
如图11所示,当多个支架的重复区域最小化时,可变型负极框架300可以具有最大面积。其中,可以假定多个支架的长度相同。
第一负极板310的整体长度L11可以与构成第一负极板310的各个支架的长度L1的总和对应。第二负极板320的整体长度L21可以与构成第二负极板320的各个支架的长度L2的总和对应或稍小地形成。其中,除多个支架重复的区域的长度之外,可变型负极框架300的面积可以根据第一负极板310的整体长度L11和第二负极板320的整体长度L21而决定。
相反,当多个支架的重复区域最大化时,可变型负极框架300可以具有最小面积。第一负极板310的整体长度L11可以是构成第一负极板310的一个支架长度L1的2倍。可以假定多个支架的长度相同,多个支架可以包括3个。第一负极板310的整体长度L11会因多个支架的个数而异。同样地,第二负极板320也可以以与第一负极板310相同的方法控制其长度。
返回图9,如上所述的可变型负极框架300在穿过电解研磨对象物200的第二区域230时可变,以便具有可穿过第二区域230的面积。接着,穿过第二区域230的可变型负极框架300可以与电解研磨对象物200的第一区域210的研磨面面积对应地可变。
上面说明了同时控制第一负极板310与第二负极板320长度的情形,但可以根据研磨面的长度和宽度,适宜地变更第一负极板310或第二负极板320的长度。例如,根据电解研磨对象物200的研磨面大小,组装可变型负极框架300,如果将组装的可变型负极框架300配置于电解研磨对象物200的研磨面,则可以防止丢弃以往固定的负极板或重新组装。
如上所述的结构的可变型负极框架300应与研磨面隔开配置,以便不与正极电解研磨对象物200接触。为此,在可变型负极框架300的一侧可以配备有隔开构件700。隔开构件700可以与可变型负极框架300和电解研磨对象物200的侧壁或底部隔开地安装。下面对隔开构件700与可变型负极框架300和电解研磨对象物200的底部隔开的结构进行说明。
隔开构件700可以在第一负极板310上形成多个。隔开构件700可以在第二负极板320上形成多个。隔开构件700可以以绝缘材质形成。隔开构件700可以承受可变型负极框架300的重量,可以以耐酸性强的材质形成。隔开构件700可以包括PVC、橡胶、聚氨酯橡胶、电木中某一者。隔开构件700可以借助于C型夹具600而与第一负极板310结合。隔开构件700可以由在一侧具有棱角部的板形成,但其形状不限定。
第四实施例的可变型负极框架300组装成与电解研磨对象物200的研磨面对应的大小,配置于电解研磨对象物的研磨面,从而具有可以防止丢弃已经使用的负极板或重新组装而导致时间及费用增加的效果。
图12是显示第四实施例的可变型电极框架的变形例的概略立体图,图13及图14是显示可变型电极框架的运转的剖面图。
如果参照图12,可变型负极框架300可以包括第一负极板310和第二负极板320。
第一负极板310和第二负极板320可以配置得构成格子结构。第一负极板310可以由多个板构成,构成得相互隔开配置。第二负极板320可以由多个板构成,配置得相互隔开。第一负极板310和第二负极板320可以配置得构成90度,但并不限定于此。
第一负极板310与第二负极板320分别由多个支架构成,可以构成得使其长度可以增加或减小。第一负极板310和第二负极板320的运转结构相同,因而以第一负极板310为中心进行说明。
第一负极板310可以构成得使多个支架连接。第一负极板310可以包括第一支架312、结合于所述第一支架312的一侧的第二支架314、结合于所述第二支架314的一侧的第三支架316。其中,支架的个数不限定为3个,出于说明的便利,对支架为3个的情形进行说明。
第一支架312可以以具有底部和侧壁部的结构形成。例如,第一支架312可以是上部开放、其剖面为U字形状的结构。第二支架314可以以由底部、侧壁部及顶棚部构成的结构形成。例如,第二支架314可以包括一侧和另一侧贯通形成的多边环形状。第三支架316可以与第一支架312的形状相同地形成。
第一支架312可以插入于第二支架314内并滑动。第一支架312可以与第二支架314一部分或全体重叠地配置。与此相同,第三支架316可以与第二支架314一部分或全体重叠地配置。如果第一支架312、第二支架314及第三支架316的重叠区域达到最小,则第一负极板310的长度可以达到最大。相反,如果第一支架312、第二支架314及第三支架316的重叠区域达到最大,则第一负极板310的长度可以达到最小。
在第一支架312、第二支架314及第三支架316可以配备有用于固定的结合结构,以便第一支架312、第二支架314及第三支架316可以保持固定的状态。
如图13及图14所示,在第一支架312的一侧可以形成有凸出部312a。凸出部312a可以是圆球形状。凸出部312a可以是表面摩擦力小的圆形形状。凸出部312a借助施加于凸出部312a的力而可以容纳到第一支架312的内部。为此,在第一支架312的内部,可以形成有能够容纳凸出部312a的槽。另外,在凸出部312a,可以还连接有弹性构件,例如弹簧构件。弹性构件使凸出部312a保持凸出的状态,如果力施加于凸出部312a,则可以将凸出部312a诱导到第一支架312的内部。第三支架316的结构可以与第一支架相同。
在第二支架314的一侧,可以与第一支架312的凸出部312a及第三支架316的凸出部316a对应地形成有容纳槽314a。容纳槽314a可以以与第三支架316的凸出部316a形状对应的形状形成。容纳槽314a可以在第二支架314的一侧隔开配置多个。容纳槽314a可以具有相同间隔地形成。
如果力沿第一方向施加于第一支架312,则第一支架312的凸出部312a可以结合于在第二支架314的最外廓配置的容纳槽314a。与此相同,如果力沿着与第一方向相反的第二方向施加于第三支架316,则第三支架316的凸出部316a可以结合于在第二支架314的最外廓配置的容纳槽314a。其中,第一支架312与第二支架314重叠的区域可以达到最小。第三支架316与第二支架314重叠的区域可以达到最小。因此,第一负极板310的长度可以达到最大。
如果再次沿第一方向向第一支架312施加力,则第一支架312的凸出部312a可以向第二支架314的内侧移动,结合于在第二支架314的内侧配置的容纳槽314a。第一支架312的凸出部312a可以以球形状形成,因而如果向第一支架312沿第一方向施加力,则在第一支架312的凸出部312a容纳于第一支架312内部的状态下,第一支架312向第二支架314的内侧方向滑动。接着,第一支架312的凸出部312a可以凸出结合于第二支架314的另一容纳槽314a,第一支架312可以稳定地固定于第二支架314。
与此相同,如果向第三支架316沿第二方向施加力,则在第三支架316的凸出部316a容纳到第三支架316内部的状态下,第三支架316可以向第二支架314的内侧方向滑动。接着,第三支架316的凸出部316a可以凸出结合于第二支架314的另一容纳槽314a,第三支架316可以稳定地固定于第二支架314。
如果第一支架312与第二支架314重叠的区域及第三支架316与第二支架314重叠的区域达到最大,则第一负极板310的长度可以达到最小。
第二负极板320也可以与前面说明的第一负极板310支架结合结构相同地调节第二负极板320的长度。因此,可以使可变型负极框架300的面积有效地可变。
上面虽然构成得使第一支架312的凸出部312a向第一支架312的内部移动,但如果以弹性材质形成凸出部312a,则具有无需容纳槽也可以与第二支架314结合的效果。
上面图示了在第一支架312的下部形成第一支架312的凸出部312a的情形,但不限定于此,也可以在第一支架312的侧壁形成。与此对应地,第二支架314的容纳槽314a也可以在所述第二支架314的侧壁形成。
如上所述的可变型负极板300构成得使第一支架在第二支架上滑动结合,具有可以更有效地控制可变型电极框架的大小的效果。
图15是显示第五实施例的具备可变型电极框架的电解研磨装置的立体图。
如果参照图15,第五实施例的电解研磨装置可以包括:电解槽100,其在内部配备有容纳电解研磨对象物200和电解液的容纳空间;可变型负极框架300,其配置于所述电解研磨对象物200的研磨面的一侧。
电解槽100可以以在内部配备有容纳空间的箱形状形成。电解槽100可以包括圆筒形、多边箱或环形状,但其形状并不限定。在电解槽100的内部可以填充有电解液。作为电解液,可以将从由蒸馏水(H2O)、硫酸(H2SO4)类、磷酸(H3PO4)类、铬酸类、硝酸钠(NaNO3)、氯化钠(NaCl)、甘油类构成的组中选择的至少一种物质混合构成,但并不限定于此。
在电解槽100的内部可以容纳电解研磨对象物200。电解槽100的大小可以大于电解研磨对象物200地形成。电解研磨对象物可以为多边形或圆筒形的腔室或箱子。电解研磨对象物200可以是用于OLED制造的腔室。另外,电解研磨对象物200也可以是OLED腔室的一部分构成部件。
在电解槽200的一侧可以还配置有整流器。整流器可以向电解研磨对象施加正极(+)的电压,可以向负极板300施加负极(-)的电压。整流器可以借助于电线等而与电解研磨对象物200电气连接。
可变型负极框架300可以包括格子结构的板形状。可变型负极框架300可以为导电率及耐酸性卓越的铜、铝、不锈钢材料,但并不限定于此。可变型负极框架300可以为条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、圆形状、线网形状、孔板形状的板,可以对其进行组合而构成。
如果参照图9,可变型负极框架300可以包括第一负极板310和第二负极板320。第一负极板310和第二负极板320可以配置得构成格子结构。第一负极板310和第二负极板320可以配置得构成90度,但并不限定于此。第一负极板310与第二负极板320分别由多个支架构成,可以构成得使其长度可以增加或减小。可变型负极框架300的结构可以采用前面说明的第四实施例或变形例的结构。
第五实施例中的电解研磨对象物200可以包括具有互不相同面积的多个区域。电解研磨对象物200可以包括具有第一面积的第一区域210、具有小于第一区域210的面积的第二区域230、具有小于所述第二区域230的面积的第三区域250、具有小于所述第三区域250的面积的第四区域270。
在电解研磨对象物200的第一区域210,可以安装有第一可变型电极框架300a。第一可变型电极框架300a可以调节第一负极板和第二负极板的长度,配置于第一区域210。第一可变型电极框架300a可以与电解研磨对象物200的研磨面隔开地配置。第一可变型电极框架300a可以借助于在电解研磨对象物200形成的放出口或另外的支架而支撑,与电解研磨对象物200的研磨面隔开配置。
在电解研磨对象物200的第二区域230,可以安装有第二可变型电极框架300b。第二可变型电极框架300b可以调节第一负极板和第二负极板的长度,配置于电解研磨对象物200的第二区域230。
在电解研磨对象物200的第三区域250,可以安装有第三可变型电极框架300c。第三可变型电极框架300c可以调节第一负极板和第二负极板的长度,配置于电解研磨对象物200的第三区域250。
在第一可变型电极框架300a与第二可变型电极框架300b之间,可以配置有导电性连接板500。连接板500可以将施加于第一可变型电极框架300a的负极电位传递给第二可变型电极框架300b。连接板500的材质可以与可变型负极框架300的材质相同的形成。连接板500的形状可以以条(bar)形状、L字形状、角形状、棒形状、圆形状、线网形状、孔板形状中某一者形成。
与此相同,可以使连接板500配置于第二可变型电极框架300b与第三可变型电极框架300c之间。另外,在第一可变型电极框架300a与第三可变型电极框架300c之间,可以还形成有连接板500。连接板500可以在可变型负极框架300之间配置多个。
在电解研磨对象物200的第四区域270,可以还配置有辅助负极板600。电解研磨对象物200的第四区域270可以是从电解研磨对象物200的第二区域230凸出的区域。电解研磨对象物200的第四区域270可以包括在电解研磨对象物200上形成的宽度窄的区域或贯通形成的孔。电解研磨对象物200的第四区域270可以以无法配置可变型负极框架300的程度的较小大小形成。
因此,辅助负极板600可以不以四边板状形成,而以杆形状的板形成。辅助负极板600可以与电解研磨对象物200的第四区域270的研磨面隔开地配置。辅助负极板600可以一部分具有曲线地形成,但并不限定于此。辅助负极板600传递负极电位,具有可以对电解研磨对象物200的第四区域270有效地进行电解研磨的效果。
上面是在电解研磨对象物200的第四区域270配置一个辅助负极板600,但也可以配置2个以上辅助负极板600。
第五实施例的电解研磨装置通过配置具有互不相同的面积并电气连接的多个可变型电极框架及辅助负极板,从而具有可以对具有互不相同面积的电解研磨对象物的研磨面有效地进行电解研磨的效果。
(工业实用性)
实施例在电解研磨对象物的角部配备电极结合构件,从而具有可以缩短多个负极板的组装时间的效果。
另外,实施例的电极结合构件具有无需多个固定构件也可以使负极板更坚固地固定的效果。
另外,实施例具有的效果,电极结合构件可以在狭小的电解研磨对象物的角部容易地安装,可以防止与电解研磨对象物短路。
另外,实施例的电极结合构件可以在具有90度以上的电解研磨对象物的角部容易地安装,具有可以对电解研磨对象物的角部有效执行电解研磨的效果。
另外,实施例的电极结合构件即使电解研磨对象物的角部不具有顶点,也可以有效安装,因而具有可以对电解研磨对象物的角部有效执行电解研磨的效果。
另外,实施例在导电性优秀的状态下,使负极板预先坚固地固定,准备负极框支架,从而具有导电率优秀、电解研磨效率及研磨品质非常优秀的技术效果。
另外,实施例的夹具还形成绝缘部,从而具有可以在负极框架与电解研磨对象物之间的狭小空间可以容易地安装的效果。
实施例的可变型电极框架组装成与电解研磨对象物的研磨面对应的大小,配置于电解研磨对象物的研磨面,从而具有可以节省新组装负极板或重新组装所需的时间及费用的效果。
另外,实施例可以提供即使在电解研磨对象物形状复杂的情况下也可以有效电解研磨的可变型电极框架及包括其的电解研磨装置。
另外,实施例的可变型电极框架构成得使第一支架在第二支架上滑动结合,具有可以更有效控制可变型电极框架的大小的效果。
另外,实施例将具有互不相同面积并电气连接的多个可变型电极框架及辅助负极板配置于研磨面,从而具有可以对具有互不相同面积的电解研磨对象物的研磨面有效进行电解研磨的效果。
以上参照附图及实施例进行了说明,但相应技术领域的熟悉从业人员理解,在不超出以下权利要求书记载的实施例的技术思想的范围内,实施例可以多样地修订及变更。

Claims (10)

1.一种电极框架,所述电极框架在内部配备有容纳电解研磨对象物和电解液的容纳空间的电解槽中使用,包括:
负极框架,其与所述电解研磨对象物隔开配置,包括第一方向的第一负极板、第二方向的第二负极板、与所述第一方向及第二方向不同方向的第三方向的第三负极板;及
电极结合构件,其配置于所述电解研磨对象物的角部,使所述第一负极板至所述第三负极板连接;
所述电极结合构件包括与所述第一负极板结合的第一支架、与所述第二负极板结合的第二支架及与所述第三负极板结合的第三支架;
在所述负极框架的一侧包括使所述负极框架从所述电解研磨对象物的侧面或底面隔开的隔开构件。
2.根据权利要求1所述的电极框架,其中,
所述第一支架至所述第三支架分别包括第一面和与所述第一面构成既定角度的第二面,所述第一负极板与所述第一支架的第一面或第二面中至少某一个以上重叠配置,借助于第一夹具而固定;
所述第一支架的第一面在所述第三支架的第二面的后方结合,所述第一支架的第二面在所述第二支架的第二面的后方结合,所述第二支架的第一面在所述第三支架的第一面的前方结合。
3.根据权利要求1所述的电极框架,其中,
所述第一支架与所述第二支架之间的角度与所述电解研磨对象物的角部所构成的角度对应,
所述第一支架与所述第二支架之间的角度根据所述第三支架的第一面与所述第三支架的第二面之间的角度而决定。
4.根据权利要求1所述的电极框架,其中,
所述第三支架包括相互隔开配置的多个支架,在所述第三支架的一侧结合有所述第一支架,在所述第三支架的另一侧结合有第二支架,
在所述第三支架的一侧与第三支架的另一侧之间还连接有连接构件。
5.根据权利要求1所述的电极框架,其中,
所述第一负极板包括第一负极支架和第二负极支架,所述第一负极支架在一部分重叠于所述第二负极支架的状态下,向从所述第二负极支架远离或靠近的方向移动,
所述第一负极支架与所述第二负极支架的重叠区域借助于第四夹具而支撑。
6.一种可变型电极框架,包括:
第一负极板,其沿第一方向配置,由多个支架构成;
第二负极板,其沿与所述第一方向构成既定角度的第二方向配置,由多个支架构成;
所述第一负极板包括第一支架和第二支架,所述第一支架在一部分重叠于所述第二支架的状态下,向从所述第二支架远离或靠近的方向移动,
所述第一支架与所述第二支架的重叠区域为变长或变短的可变型,
既定的研磨对象物包括互不相同的宽度的第一区域和第二区域,
所述可变型的第一负极板可变,以便能够穿过所述研磨对象物的第二区域,穿过所述第二区域的所述第一负极板与所述研磨对象物的第一区域的面积对应地可变。
7.根据权利要求6所述的可变型电极框架,其中,
所述第一支架与所述第二支架的重叠区域借助于夹具而支撑,
所述夹具还包括相向配置的绝缘部,
在所述绝缘部的一面还形成有凸起。
8.根据权利要求6所述的可变型电极框架,其中,
所述第一支架的第一区域沿着所述第二支架的第二区域滑动,在所述第一支架的一侧,配置有从所述第一支架凸出或容纳的凸出部,在所述第二支架的一侧,配置有与所述凸出部对应的多个容纳槽。
9.根据权利要求6所述的可变型电极框架,其中,
既定的电解研磨对象物包括具有互不相同的面积的容纳空间,
所述可变型电极框架以配置于所述电解研磨对象物的互不相同面积的容纳空间的方式具备多个,
所述多个可变型电极框架利用导电性连接板相互连接,
在所述可变型电极框架的一侧,还包括辅助负极板。
10.一种包括权利要求1至9中任意一项的电极框架的电解研磨装置。
CN201880063208.4A 2017-09-28 2018-09-28 电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置 Active CN111465722B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2017-0125740 2017-09-28
KR10-2017-0125738 2017-09-28
KR1020170125740A KR101848266B1 (ko) 2017-09-28 2017-09-28 전해연마용 가변형 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
KR1020170125738A KR101848257B1 (ko) 2017-09-28 2017-09-28 전극 결합부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
PCT/KR2018/011550 WO2019066566A1 (ko) 2017-09-28 2018-09-28 전해연마용 전극 프레임, 전해 연마용 가변형 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111465722A true CN111465722A (zh) 2020-07-28
CN111465722B CN111465722B (zh) 2022-07-12

Family

ID=65903030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880063208.4A Active CN111465722B (zh) 2017-09-28 2018-09-28 电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN111465722B (zh)
TW (1) TWI687557B (zh)
WO (1) WO2019066566A1 (zh)

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH466453A (de) * 1966-08-12 1968-12-15 Hammond Machinery Builders Inc Schleifvorrichtung zur Verwendung in einem elektro-chemischen Schleifverfahren
US4127459A (en) * 1977-09-01 1978-11-28 Jumer John F Method and apparatus for incremental electro-polishing
DE2846726A1 (de) * 1977-10-28 1979-05-03 Sumitomo Electric Industries Verfahren und vorrichtung zum elektrolytischen aetzen
US4272351A (en) * 1978-10-27 1981-06-09 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Apparatus for electrolytic etching
WO1999024206A1 (fr) * 1997-11-10 1999-05-20 Nissin Unyu Kogyo Co., Ltd. Procede et appareil permettant de polir la surface interieure de la partie cylindrique d'une piece cylindrique allongee et piece cylindrique allongee
CA2273409A1 (en) * 1998-06-05 1999-12-05 Nissin Unyu Kogyo Co., Ltd. Electrolytic integrated polishing method for external surface of metallic tubes and photosensitive drum substrate prepared thereby
JP2001014756A (ja) * 1999-06-24 2001-01-19 Aiwa Co Ltd ピンの洗浄装置およびピンの表面処理装置
KR200220232Y1 (ko) * 2000-08-28 2001-04-16 금성제어기주식회사 3축 앵글 브라켓
US20030024826A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-06 Applied Materials, Inc. Electro-chemical polishing apparatus
KR200430129Y1 (ko) * 2006-08-04 2006-11-02 장관섭 대형 아노다이징용 지그
US20070034526A1 (en) * 2005-08-12 2007-02-15 Natsuki Makino Electrolytic processing apparatus and method
KR20080021362A (ko) * 2006-09-04 2008-03-07 (주) 미래이피 파이프 내면의 전해연마 장치 및 방법
DE102009013467A1 (de) * 2009-03-07 2010-09-09 Hübel, Egon, Dipl.-Ing. (FH) Verfahren und Vorrichtung zum elektrochemischen Behandeln von Gut in Behandlungsvorrichtungen
KR101183218B1 (ko) * 2011-08-30 2012-09-14 (주)한국마루이 전해연마 장치
CN203510989U (zh) * 2013-09-30 2014-04-02 陈泽进 电解刻蚀电镀堆积3d打印机
FR3039564A1 (fr) * 2015-07-31 2017-02-03 Silimixt Dispositif de support pour substrat a traiter notamment par voie chimique ou electrochimique
KR101769924B1 (ko) * 2017-04-24 2017-08-21 황재상 전해연마장치
WO2019066584A1 (ko) * 2017-09-28 2019-04-04 주식회사 어썸리드 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
KR20190037065A (ko) * 2018-03-29 2019-04-05 황재상 전극 이격부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6375826B1 (en) * 2000-02-14 2002-04-23 Advanced Cardiovascular Systems, Inc. Electro-polishing fixture and electrolyte solution for polishing stents and method
US20080210571A1 (en) * 2006-08-24 2008-09-04 Extrude Hone Corporation Machine And Method For Electrochemically Polishing Indentations Within An Aluminum Wheel
TWM378231U (en) * 2009-11-19 2010-04-11 Chyuin Tai Entpr Co Ltd Movable separative type anode titanium sapphire
TWM423121U (en) * 2011-10-26 2012-02-21 shi-zhi Chen Conductive plate structure improvement for electroplating bath
TWM455731U (zh) * 2012-03-23 2013-06-21 shi-zhi Chen 電鍍槽用導電板結構改良
WO2016056620A1 (ja) * 2014-10-10 2016-04-14 マルイ鍍金工業株式会社 空洞管の研磨用ロータ
JP6655609B2 (ja) * 2015-04-23 2020-02-26 株式会社カネカ 管状体の電解研磨装置、電解研磨装置用のアノード導電性部材、及び管状体の電解研磨方法
TWI572748B (zh) * 2016-09-20 2017-03-01 翁健名 管件電鍍用架體

Patent Citations (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH466453A (de) * 1966-08-12 1968-12-15 Hammond Machinery Builders Inc Schleifvorrichtung zur Verwendung in einem elektro-chemischen Schleifverfahren
US4127459A (en) * 1977-09-01 1978-11-28 Jumer John F Method and apparatus for incremental electro-polishing
DE2846726A1 (de) * 1977-10-28 1979-05-03 Sumitomo Electric Industries Verfahren und vorrichtung zum elektrolytischen aetzen
US4272351A (en) * 1978-10-27 1981-06-09 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Apparatus for electrolytic etching
WO1999024206A1 (fr) * 1997-11-10 1999-05-20 Nissin Unyu Kogyo Co., Ltd. Procede et appareil permettant de polir la surface interieure de la partie cylindrique d'une piece cylindrique allongee et piece cylindrique allongee
CA2273409A1 (en) * 1998-06-05 1999-12-05 Nissin Unyu Kogyo Co., Ltd. Electrolytic integrated polishing method for external surface of metallic tubes and photosensitive drum substrate prepared thereby
JP2001014756A (ja) * 1999-06-24 2001-01-19 Aiwa Co Ltd ピンの洗浄装置およびピンの表面処理装置
KR200220232Y1 (ko) * 2000-08-28 2001-04-16 금성제어기주식회사 3축 앵글 브라켓
US20030024826A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-06 Applied Materials, Inc. Electro-chemical polishing apparatus
US20070034526A1 (en) * 2005-08-12 2007-02-15 Natsuki Makino Electrolytic processing apparatus and method
KR200430129Y1 (ko) * 2006-08-04 2006-11-02 장관섭 대형 아노다이징용 지그
KR20080021362A (ko) * 2006-09-04 2008-03-07 (주) 미래이피 파이프 내면의 전해연마 장치 및 방법
DE102009013467A1 (de) * 2009-03-07 2010-09-09 Hübel, Egon, Dipl.-Ing. (FH) Verfahren und Vorrichtung zum elektrochemischen Behandeln von Gut in Behandlungsvorrichtungen
KR101183218B1 (ko) * 2011-08-30 2012-09-14 (주)한국마루이 전해연마 장치
CN203510989U (zh) * 2013-09-30 2014-04-02 陈泽进 电解刻蚀电镀堆积3d打印机
FR3039564A1 (fr) * 2015-07-31 2017-02-03 Silimixt Dispositif de support pour substrat a traiter notamment par voie chimique ou electrochimique
KR101769924B1 (ko) * 2017-04-24 2017-08-21 황재상 전해연마장치
CN108723528A (zh) * 2017-04-24 2018-11-02 韩国Marui股份有限公司 电解研磨装置
CN112496479A (zh) * 2017-04-24 2021-03-16 韩国Marui股份有限公司 电解研磨装置
WO2019066584A1 (ko) * 2017-09-28 2019-04-04 주식회사 어썸리드 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
CN111699285A (zh) * 2017-09-28 2020-09-22 南韩商奥森里德股份有限公司 电解研磨用电极框架及包括其的电解研磨装置
KR20190037065A (ko) * 2018-03-29 2019-04-05 황재상 전극 이격부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임

Also Published As

Publication number Publication date
TW201914743A (zh) 2019-04-16
CN111465722B (zh) 2022-07-12
WO2019066566A1 (ko) 2019-04-04
TWI687557B (zh) 2020-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108723528B (zh) 电解研磨装置
KR101183218B1 (ko) 전해연마 장치
KR102311578B1 (ko) 전계 처리 방법 및 전계 처리 장치
KR20160009684A (ko) 전해 처리 방법 및 전해 처리 장치
JPS627275B2 (zh)
CN109312477A (zh) 包括弹性构件的电解槽
CN104254644A (zh) 离子交换膜电解槽
KR102250005B1 (ko) 전해연마용 가변형 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
CN111465722B (zh) 电解研磨用电极框架、电解研磨用可变型电极框架及包括其的电解研磨装置
CN105531399A (zh) 离子交换膜电解槽以及弹性体
KR101848266B1 (ko) 전해연마용 가변형 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
KR101848251B1 (ko) 전극 거치부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
CN111699285A (zh) 电解研磨用电极框架及包括其的电解研磨装置
KR101848264B1 (ko) 전극 이격부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
KR101848257B1 (ko) 전극 결합부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
KR102226831B1 (ko) 전극 이격부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
KR20190037064A (ko) 전극 결합부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임
KR102205852B1 (ko) 전극 거치부재를 구비하는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치
WO2014199440A1 (ja) イオン交換膜電解槽
RU2561556C2 (ru) Инструмент-электрод для электрохимического полирования пространственно-сложных поверхностей
CN220468205U (zh) 一种镀层厚度均匀的遮蔽治具
KR20220065712A (ko) 정밀인가를 위한 원형 정밀 고정장치
JP2018122213A (ja) 電解槽
CN116219516A (zh) 一种阳极氧化装置
JP2537105B2 (ja) 電極間隔可変型電解メッキ装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant