CN111394691A

CN111394691A - 掩膜版、掩膜组件以及掩膜组件的制造方法

Info

Publication number: CN111394691A
Application number: CN202010298098.9A
Authority: CN
Inventors: 王亚玲
Original assignee: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Current assignee: Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Priority date: 2020-04-16
Filing date: 2020-04-16
Publication date: 2020-07-10
Anticipated expiration: 2040-04-16
Also published as: CN111394691B

Abstract

本发明涉及一种掩膜版、掩膜组件以及掩膜组件的制造方法，掩膜组件包括掩膜框架；至少两个掩膜版，沿第一方向排布于掩膜框架；其中，相邻的两个掩膜版彼此搭接以在第二方向上具有交叠区域；其中，第一方向平行于掩膜框架，第二方向垂直于掩膜框架，第一方向与第二方向相互垂直。上述掩膜组件，掩膜组件包括沿第一方向排列的至少两个掩膜版，相比于单个大尺寸的掩膜组件，本申请的掩膜版的结构强度较高且相邻掩膜版可相互支撑，因此整体下垂量较低，为大尺寸的显示面板的制造提供了可能性。而且，相邻两个掩膜版之间不存在需要额外遮挡的间隙，因此无需额外设置遮挡掩膜版，从而减少了材料消耗，有效降低了材料断供的风险。

Description

掩膜版、掩膜组件以及掩膜组件的制造方法

技术领域

本发明涉及显示面板制造技术领域，特别是涉及一种掩膜版、掩膜组件以及掩膜组件的制造方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称有机电激光显示或有机发光半导体，具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点，因此广泛应用于手机、电脑、电视等显示终端。

在OLED面板制造中，真空蒸镀用的掩膜组件是至关重要的部件之一。掩膜组件用于控制有机材料沉积在显示基板上的位置，从而在显示基板上形成不同形状的有机图案。

掩膜组件的机械性能较大程度上决定蒸镀的品质，目前，人们对显示面板的显示面积的要求的不断提高，但为了保证蒸镀品质，掩膜组件的面积难以进一步增大。

发明内容

基于此，有必要针对用于蒸镀单个显示基板的掩膜组件的面积难以进一步增大的问题，提供一种可解决上述问题的掩膜版、掩膜组件以及掩膜组件的制造方法。

根据本发明的一个方面，提供一种掩膜组件，所述掩膜组件包括：

掩膜框架；及

至少两个掩膜版，沿第一方向排布于所述掩膜框架；

其中，相邻的两个所述掩膜版彼此搭接以在第二方向上具有交叠区域；

其中，所述第一方向平行于所述掩膜框架，所述第二方向垂直于所述掩膜框架，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

上述掩膜组件，掩膜组件包括沿第一方向排列的至少两个掩膜版，相比于单个大尺寸的掩膜组件，本申请的掩膜版的结构强度较高且相邻掩膜版可相互支撑，因此整体下垂量较低，为大尺寸的显示面板的制造提供了可能性。而且，相邻两个掩膜版之间不存在需要额外遮挡的间隙，因此无需额外设置遮挡掩膜版，从而减少了材料消耗，有效降低了材料断供的风险。

在一个实施例中，所述掩膜版沿所述第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧；

所述掩膜版的所述第一侧具有与相邻的一个所述掩膜版接触的第一支撑面，以及与相邻的另一个所述掩膜版接触的第二支撑面。

在一个实施例中，所述掩膜版包括第一支撑部、第二支撑部以及沿所述第一方向位于所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的主体部；

所述第一支撑面形成于所述第一支撑部，所述第二支撑面形成于所述第二支撑部；

优选地，所述第一支撑部和所述第二支撑部以所述主体部的沿第三方向的中心线对称设置；

其中，所述第三方向同时垂直于所述第一方向和所述第二方向。

所述掩膜版的所述第一侧具有与相邻的一个所述掩膜版接触的第一支撑面，所述掩膜版的所述第二侧具有与相邻的另一个所述掩膜版接触的第二支撑面。

所述第一支撑部和所述第二支撑部在所述第二方向上错位设置；

所述第一支撑面形成于所述第一支撑部，所述第二支撑面形成于所述第二支撑部。

在一个实施例中，至少一所述交叠区域的两个所述掩膜版彼此接触的表面为相互匹配的非平面；

优选地，所述非平面沿所述第二方向的截面轮廓线呈波浪状。

在一个实施例中，所述掩膜版开设有沿所述第二方向贯穿的蒸镀孔；

位于同一所述交叠区域的两个所述掩膜版开设的所述蒸镀孔一一对应连通，对应连通的所述蒸镀孔共同形成蒸镀通道。

根据本发明的另一方面，提供一种掩膜版，所述掩膜版沿一方向具有彼此相对的第一侧和第二侧；

所述掩膜版具有与相邻的一个所述掩膜版接触的第一支撑面，以及与相邻的另一个所述掩膜版接触的第二支撑面；

所述第一支撑面和所述第二支撑面设于所述第一侧和所述第二侧中的任一侧；或者

所述第一支撑面和所述第二支撑面分别设于所述第一侧和所述第二侧。

根据本发明的另一方面，提供一种掩膜组件的制造方法，包括以下步骤：

提供一掩膜框架；

在所述掩膜框架上设置至少两个沿第一方向依次排布的掩膜版；

在一个实施例中，所述掩膜版贯穿开设有蒸镀孔，掩膜组件的制造方法还包括以下步骤：

填充可去除的填充结构于所述蒸镀孔中。

附图说明

图1为本发明一实施例的掩膜组件的结构示意图；

图2为本发明一实施例的掩膜组件的掩膜版的截面示意图；

图3为图2所示的掩膜版中相邻两个掩膜版的截面示意图；

图4为图2所示的掩膜版中相邻两个掩膜版的截面示意图；

图5为本发明一实施例的掩膜版的位于交叠区域内的蒸镀孔的示意图；

图6为本发明另一实施例的掩膜组件的掩膜版的截面示意图；

图7为图6所示的掩膜版中任意两个掩膜版的截面示意图；

图8为本发明一实施例的填充有填充材料的掩膜版的示意图；

图9为本发明一实施例的掩膜组件的制造方法的步骤示意图。

附图标记说明：

100、掩膜组件；20、掩膜框架；21、第一框架；23、第二框架；40、掩膜版；41、上掩膜版；412、上主体部；414、第一上支撑部；416、第二上支撑部；43、下掩膜版；432、下主体部；434、第一下支撑部；436、第二下支撑部；45、掩膜版；452、主体部；454、第一支撑部；456、第二支撑部；47、蒸镀孔；60、填充结构。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

正如背景技术所述，掩膜组件用于控制有机材料沉积在基板上的位置，从而在基板上形成不同形状的有机图案，是显示面板制造中必不可少的重要部件之一。发明人在研究中发现，如果试图生产更大面积的显示面板，那么掩膜组件的尺寸与重量也随之增大，而尺寸过大的掩膜组件在张网后的下垂量也显著增大，掩膜组件上的褶皱也明显增多，从而降低了蒸镀精度。因此，掩膜组件的尺寸限制了具有较佳蒸镀精度和显示效果的显示面板的面积的进一步增大。

为了增大掩膜组件的尺寸，现有的一种设计思路是将多个小尺寸的掩膜版在掩膜框架上依次排列，多个小尺寸的掩膜版共同组成大尺寸的掩膜组件。但是，由于相邻掩膜版之间难免存在间隙，因此需要额外设置遮挡掩膜版对相邻掩膜版之间的间隙进行遮挡，从而导致多个掩膜版无法形成一个整体以蒸镀形成一个大尺寸的显示面板。而且，遮挡掩膜版等结构以Invar36材质(一种具有超低膨胀系数的特殊的低膨胀铁镍合金)为主，但Invar36原材料的来源目前主要掌握在少数企业中而影响供货的持续性，因此掩膜组件中大量使用Invar36材料的现状为显示面板的稳定生产造成了一定隐患。

为了解决上述问题，本申请的掩膜组件100在显著扩大了蒸镀面积的同时有效减少了下垂量，从而保证了较高的蒸镀精度。而且，有效减少了Invar36材料的使用，有效降低了材料断供的风险。

下面，将参照附图详细描述本发明实施例中的掩膜组件100。为便于描述，附图仅示出了与本发明实施例相关的结构。

图1示出了本发明一实施例中的掩膜组件100的结构示意图。

本发明一实施例提供了一种掩膜组件100，包括掩膜框架20及设于掩膜框架20的至少两个掩膜版40。

掩膜框架20大致呈中空的矩形框架结构，掩膜框架20的长度方向为第一方向(即图1中的X方向)，掩膜框架20的厚度方向为第二方向(即图2中的Z方向)，掩膜框架20的宽度方向为第三方向(即图1中的Y方向)。如此，第一方向与第三方向均平行于掩膜框架20，第二方向垂直于掩膜框架20，且第一方向、第二方向以及第三方向两两垂直。

具体地，掩膜框架20包括两条第一框架21与两条第二框架23。其中，两条第一框架21在第一方向上间隔且平行设置，每条第一框架21均沿第三方向延伸；两条第二框架23分别连接于两条第一框架21之间，两条第二框架23在第三方向上间隔且平行设置，且每条第二框架23均沿第一方向延伸。如此，两条第一框架21与两条第二框架23依次交替首尾相接，围合形成大致呈矩形的蒸镀区。可以理解，掩膜框架20的形状不限于此，可根据需要设置为不同形状。具体在下列实施例中，掩膜框架20为长方形框架以围合形成长方形的蒸镀区，在其它一些实施例中，掩膜框架20也可为正方形框架以围合形成正方形的蒸镀区。

每个掩膜版40均呈沿第三方向延伸的条状结构，至少两个掩膜版40沿第一方向依次排布于掩膜框架20，每个掩膜版40在第三方向上的两端分别固接于掩膜框架20的两条第二框架23以覆盖蒸镀区，相邻掩膜版40彼此搭接以在第二方向上具有交叠区域。

如此，掩膜组件100包括沿第一方向排列的至少两个掩膜版40，相比于单个大尺寸的掩膜组件，本申请的掩膜版40的结构强度较高且相邻掩膜版40可相互支撑，因此整体下垂量较低，为大尺寸的显示面板的制造提供了可能性。而且，相邻两个掩膜版40之间不存在需要额外遮挡的间隙，因此无需额外设置遮挡掩膜版，从而减少了材料消耗，有效降低了材料断供的风险。

在一些实施例中，掩膜版40的至少部分区域开设有沿第二方向贯穿其的蒸镀孔47(如图5所示)，蒸镀材料可穿过蒸镀孔47沉积在显示基板上。更进一步地，位于同一交叠区域的两个掩膜版40均开设有沿第二方向贯穿其的蒸镀孔47，且两个掩膜版40开设的蒸镀孔47一一对应连通，相互连通的两个蒸镀孔47共同形成一条完整的蒸镀通道。

如此，交叠区域的存在不会影响蒸镀材料的蒸镀，多个掩膜版40可同时用于蒸镀一较大尺寸的显示基板，该显示基板在第一方向上的尺寸可大于一个掩膜版40在第一方向上的尺寸。需要说明的是，每个掩膜版40对应掩膜框架20的蒸镀区的区域为蒸镀有效区，每个掩膜版40上开设的所有蒸镀孔47均位于蒸镀有效区内。

在一些实施例中，至少一交叠区域的两个掩膜版40彼此接触的表面为相互匹配的非平面。如此，两个掩膜版40的两个非平面相互接触，可降低掩膜版40在第一方向上的移动可能，两个掩膜版40在搭接过程中可通过张网设备对位机构实现精确对位以降低位置偏差，有效提高了安装精度。

具体在一实施例中，每个交叠区域的两个掩膜版40彼此接触的表面沿第二方向的截面轮廓线呈上下起伏的波浪面。可以理解，相邻两个掩膜版40彼此接触的表面的具体形状不限，可根据需要设置为锯齿状等形状。

进一步地，本发明的第一实施例提供的一种掩膜版40，掩膜版40沿第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧，掩膜版40的第一侧具有与相邻的一个掩膜版40接触的第一支撑面，以及与相邻的另一个掩膜版40接触的第二支撑面。

具体地，掩膜版40包括第一支撑部、第二支撑部以及沿第一方向位于第一支撑部和第二支撑部之间的主体部，第一支撑面形成于第一支撑部，第二支撑面形成于第二支撑部。如此，每一交叠区域均由相邻两条掩膜版40的第一支撑部与第二支撑部搭接形成。

图2示出了本发明第一实施例中的掩膜组件的掩膜版的截面示意图；图3示出了图2所示的相邻两个掩膜版的截面示意图；图4示出了图2所示的相邻两个掩膜版的截面示意图；图5示出了本发明一实施例的掩膜版的位于交叠区域内的蒸镀孔的示意图。

如图1、图2及图3所示，掩膜版40(如图1所示)包括上掩膜版41与下掩膜版43。掩膜组件100包括多个上掩膜版41与多个下掩膜版43，上掩膜版41与下掩膜版43沿第一方向交替排列，且任一上掩膜版41在第二方向上支撑于与其相邻的下掩膜版43上。如此，有效减小了掩膜组件100的整体下垂量，同时消除了相邻的上掩膜版41与下掩膜版43之间的缝隙。

具体地，上掩膜版41包括第一上支撑部414、第二上支撑部416以及沿第一方向位于第一上支撑部414和第二上支撑部416之间的上主体部412。第一上支撑部414与第二上支撑部416在第二方向上位于上主体部412一侧。

下掩膜版43包括第一下支撑部434、第二下支撑部436以及沿第一方向位于第一下支撑部434和第二下支撑部436之间的下主体部432。第一下支撑部434与第二下支撑部436在第二方向上位于下主体部432一侧。

如此，一上掩膜版41的第一上支撑部414可支撑于与其相邻的一个下掩膜版43的第二下支撑部436上，一上掩膜版41的第二上支撑部416可支撑于另一个与其相邻的下掩膜版43的第一下支撑部434上。因此，下掩膜版43对上掩膜版41起到支撑作用，上掩膜版41也可对下掩膜版43起到限位作用，且上掩膜版41与下掩膜版43之间在第二方向上不存在间隙。

进一步地，第一上支撑部414和第二上支撑部416以上主体部412的沿第三方向的中心线对称设置，第一下支撑部434和第二下支撑部436以下主体部432的沿第三方向的中心线对称设置。因此，上掩膜版41与下掩膜版43的受力较为均匀，可有效消除应力集中现象而影响蒸镀效果。

在一些实施例中，上掩膜版41的第一上支撑部414与第二上支撑部416在第二方向上的厚度均小于上主体部418的厚度，下掩膜版43的第一下支撑部434与第二下支撑部436在第二方向上的厚度均小于下主体部438的厚度。可选地，上主体部418与下主体部438在第二方向上的厚度相同，同一交叠区域的第一上支撑部414与第二下支撑部436、第二上支撑部416与第一下支撑部434在第二方向上的厚度之和等于上主体部418与下主体部438的厚度。具体在一实施例中，第一上支撑部414与第二上支撑部416在第二方向上的厚度均大致为上主体部412在第二方向上的厚度的二分之一，第一下支撑部434与第二下支撑部436在第二方向上的厚度大致均为下主体部432在第二方向上的厚度的二分之一。

如此，所有上掩膜版41与下掩膜版43共同形成一个厚度相同的整体，掩膜组件100在第二方向上具有相对设置且相互平行的蒸镀面与玻璃面，其中，蒸镀面朝向蒸镀材料源，玻璃面朝向显示基板。

进一步地，上掩膜版41的第一上支撑部414与第二上支撑部416在第一方向上的宽度之和不大于该上掩膜版41在第一方向上的总宽度的一半，下掩膜版43的第一下支撑部434与第二下支撑部436在第一方向上的宽度之和不大于该下掩膜版43在第一方向上的总宽度的一半。

如此，在保证了上掩膜版41与下掩膜版43的结构强度，有效避免上掩膜版41与下掩膜版43在拿取过程中折损的同时，降低了相邻两个上掩膜版41与下掩膜版43的对齐难度。

如图2所示，具体在一实施例中，掩膜组件100包括三个上掩膜版41与两个下掩膜版43。其中，位于第一方向上最左侧(即图2中最左侧)的上掩膜版41的第二上支撑部416搭接于相邻下掩膜版43的第一下支撑部434上；位于第一方向上最右侧(即图2中最右侧)的上掩膜版41的第一上支撑部414搭接于相邻下掩膜版43的第二下支撑部436上；位于第一方向上中间位置(即图2中的中间位置)的上掩膜版41的第一上支撑部414与第二上支撑部416分别搭接于其左右两侧的两个相邻下掩膜版43的第二下支撑部436与第一下支撑部434上。可以理解，上掩膜版41与下掩膜版43的数量不限，可根据需要设置。

可以理解，在一些实施例中，在第一方向上位于左右两侧的上掩膜版41的其中一侧无需与其它下掩膜版43搭接，因此可仅设有一个第一上支撑部414或一个第二上支撑部416。相应的，在其它一些实施例中，在第一方向上位于左右两侧的下掩膜版43的其中一侧无需与其它上掩膜版41搭接，因此也可仅设有一个第一下支撑部434或一个第二下支撑部436。

而在另一些实施例中，在第一方向上位于左右两侧的上掩膜版41依然同时设有第一上支撑部414与第二上支撑部416，第一上支撑部414与第二上支撑部416中的一者可搭接于掩膜框架20的第一框架21上。相应的，在其它一些实施例中，在第一方向上位于左右两侧的下掩膜版43同时设有第一下支撑部434与第二下支撑部436，第一下支撑部434与第二下支撑部436中的一者可搭接于掩膜框架20的第一框架21上。

如图4所示，在一些实施例中，位于同一交叠区域的上掩膜版41与下掩膜版43相互接触且垂直于第二方向的表面为相互匹配的非平面。如此，可降低上掩膜版41与下掩膜版43在第一方向上的移动可能，有效提高安装精度。

如图5所示，第一上支撑部414、第二上支撑部416、第一下支撑部434以及第二下支撑部436均贯穿开设有蒸镀孔47，且位于同一交叠区域的第一上支撑部414与第二下支撑部436开设的蒸镀孔47一一对应连通，相互对应的两个蒸镀孔47连通形成一条完整的蒸镀通道，位于同一交叠区域的第二上支撑部416与第一下支撑部434开设的蒸镀孔47一一对应连通，相互对应的两个蒸镀孔47连通形成一条完整的蒸镀通道，从而使掩膜组件100可用于蒸镀形成一较大尺寸的显示基板。

需要说明的是，在一些实施例中，蒸镀孔47采用湿法刻蚀等方式形成，蒸镀孔47在第三方向上的两端的刻蚀深度不一致，因此上掩膜版41与下掩膜版43分别制造。而在另一些实施例中，蒸镀孔47由电铸或激光刻蚀等方式形成，蒸镀孔47的孔壁沿第三方向竖直延伸，因此上掩膜版41与下掩膜版43的结构实际上完全相同，将上掩膜版41翻转180°即可作为下掩膜版43使用。

在本发明的第二个实施例中，掩膜版40沿第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧，掩膜版40的第一侧具有与相邻的一个掩膜版40接触的第一支撑面，掩膜版40的第二侧具有与相邻的另一个掩膜版40接触的第二支撑面。

图6为本发明第二实施例的掩膜组件的掩膜版的截面示意图；图7为图6所示的掩膜版中任意两个掩膜版的截面示意图。

在一实施例中，掩膜版40包括掩膜版45，每个掩膜版45的形状相同，任一个掩膜版45在第一方向上的一侧可支撑与其相邻的掩膜版45，在第一方向上的另一侧可搭接于与其相邻的掩膜版45上。如此，相邻掩膜版45相互搭接，有效减小了掩膜版45的下垂量，同时消除了相邻两个掩膜版45之间的缝隙。

具体地，掩膜版45包括第一支撑部454、第二支撑部456以及沿第一方向位于第一支撑部454和第二支撑部456之间的主体部452，且第一支撑部454和第二支撑部456在第二方向上错位设置，第一支撑面形成于第一支撑部454，第二支撑面形成于第二支撑部456。

如此，一个掩膜版45的第一支撑部454与第二支撑部456的其中一个搭接于另一掩膜版45上，另一个则用于支撑另一掩膜版45，也就是说，同一个掩膜版45在被其相邻的一个掩膜版45支撑的同时，可支撑与其相邻的另一个掩膜版45，从而可有效降低掩膜版45的下垂量。而且，由于每个掩膜版45的形状完全相同，因此无需加工形状不同的掩膜版45，从而具有较高的生产效率。

如图6所示，具体在一实施例中，掩膜组件100包括五个形状相同的掩膜版45。其中，位于第一方向上的左侧(即图6中的最左侧)的掩膜版45的第二支撑部456搭接于与其相邻的掩膜版45的第一支撑部454上方；位于第一方向上的右侧(即图6中的最右侧)的掩膜版45的第一支撑部454支撑于与其相邻的掩膜版45的第二支撑部456下方；位于第一方向的中间区域(即图6中的中间区域)的掩膜版45的第二支撑部456搭接于与其相邻的掩膜版45的第一支撑部454上方，第一支撑部454支撑于与其相邻的掩膜版45的第二支撑部456下方。可以理解，掩膜版45的数量不限，可根据需要设置。

进一步地，在第一方向上位于左右两侧的掩膜版45的其中一侧与掩膜框架20的短边相邻，因此可仅设有一个第二支撑部456或一个第一支撑部454。在其它一些实施例中，在第一方向上位于左右两侧的掩膜版45依然同时具有第一支撑部454与第二支撑部456，第一支撑部454与第二支撑部456中的一者可搭接于掩膜框架20的第一框架21上。

在一些实施例中，第一支撑部454与第二支撑部456在第二方向上的厚度均小于主体部452的厚度。可选地，第一支撑部454与第二支撑部456在第二方向上的厚度均大致为主体部452在第二方向上的厚度的二分之一。如此，所有掩膜版45共同形成一个厚度相同的整体，掩膜组件100在第二方向上具有相对设置且相互平行的蒸镀面与玻璃面，其中，蒸镀面朝向蒸镀材料源，玻璃面朝向显示基板。

进一步地，第一支撑部454与第二支撑部456在第一方向上的宽度之和不大于掩膜版45在第一方向上的总宽度的一半。如此，在保证了掩膜版45的结构强度，有效避免掩膜版45在拿取过程中折损的同时，降低了相邻两个掩膜版45的对齐难度。

图8为本发明一实施例的填充有填充材料的掩膜版的示意图；图9为本发明一实施例的掩膜组件的制造方法的步骤示意图。

本申请还提供一种掩膜组件100的制造方法，掩膜组件100的制造方法包括以下步骤：

S110：提供一掩膜框架20。

具体地，掩膜框架20大致呈矩形框架结构，形成大致呈矩形的蒸镀区。

S120：在掩膜框架20上设置至少两个沿第一方向排布的掩膜版40。

在本发明的第一实施例中，掩膜组件100包括多个上掩膜版41与多个下掩膜版43，上掩膜版41搭接于相邻的下掩膜版43上，因此可在固定上掩膜版41之前先固定下掩膜版43。

具体地，首先，使用张网设备将多个下掩膜版43同时或依次沿第三方向张拉并对准掩膜框架20，然后将下掩膜版43在第三方向上的两端与掩膜框架20的两个长边进行焊接，以使下掩膜版43固定于掩膜框架20上。之后，将多个上掩膜版41同时或依次沿第一方向张拉并对准掩膜框架20，然后将上掩膜版41在第三方向上的两端与掩膜框架20的两个长边采用焊接等方式进行固接，以使上掩膜版41固定于掩膜框架20上，且上掩膜版41的第一上支撑部414与第二上支撑部416层叠于相邻两个下掩膜版43的第二下支撑部436及第一下支撑部434上。

如此，上掩膜版41与下掩膜版43沿第一方向依次交替，相邻的上掩膜版41与下掩膜版43在第二方向上相互搭接以具有交叠区域。

在本发明的第二实施例中，掩膜组件100包括多个形状相同的掩膜版45，可通过张网设备将多个掩膜版45依次张拉并沿第一方向依次固定在掩膜框架20上。

S130：填充可去除的填充结构60于蒸镀孔47中。

具体地，采用喷墨印刷或涂布装置涂布的方法将聚酰亚胺等材料填充至掩膜版40上开设的蒸镀孔47中形成填充结构60，填充结构60封堵蒸镀孔47以形成遮挡区域，蒸镀材料无法从被填充结构60封堵的蒸镀孔47中穿过，因此该掩膜组件100可用于具有不同蒸镀图案的异形屏幕的制作，也可用于蒸镀形成多个尺寸较小的屏幕。需要说明的是，填充结构60可填充于掩膜版40的蒸镀有效区的任意蒸镀孔47中，而不限于填充位于交叠区域的蒸镀孔47。

可以理解，当用于大尺寸面板的蒸镀时，可无需填充填充材料形成遮挡区域即可直接整体蒸镀。而当更换蒸镀产品的尺寸大小时，只需要用试剂去除填充材料即可，因此该掩膜组件100可进行重复利用，有效降低了生产成本。

上述掩膜组件100及掩膜组件100的制造方法，多个掩膜版40依次搭接，在有效降低了掩膜组件100的下垂量的同时消除了相邻掩膜版40之间的间隙，从而为大尺寸的显示面板的制造创造了可能。而且，由于相邻掩膜版40之间在第二方向上不存在间隙，因此无需额外设置遮挡掩膜版，因此节约了掩膜组件100的材料，有效降低了材料断供风险，且在一定程度上降低了生产成本。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims

1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括：

掩膜框架；及

至少两个掩膜版，沿第一方向排布于所述掩膜框架；

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜版沿所述第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧；

3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜版包括第一支撑部、第二支撑部以及沿所述第一方向位于所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的主体部；

4.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，

所述掩膜版沿所述第二方向具有彼此相对的第一侧和第二侧；

5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜版包括第一支撑部、第二支撑部以及沿所述第一方向位于所述第一支撑部和所述第二支撑部之间的主体部；

6.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，至少一所述交叠区域的两个所述掩膜版彼此接触的表面为相互匹配的非平面；

7.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜版开设有沿所述第二方向贯穿的蒸镀孔；

8.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版沿一方向具有彼此相对的第一侧和第二侧；

9.一种掩膜组件的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一掩膜框架；

10.根据权利要求9所述的掩膜组件的制造方法，其特征在于，所述掩膜版贯穿开设有蒸镀孔，掩膜组件的制造方法还包括以下步骤：

填充可去除的填充结构于所述蒸镀孔中。