CN111354772B - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括显示区、开孔区及隔断区，隔断区位于显示区与开孔区之间。制备方法包括：提供衬底；在衬底上形成至少一个环形支撑部，环形支撑部位于隔断区；形成至少一个隔断结构，隔断结构位于隔断区，隔断结构的至少一侧设有隔断部，每一隔断部对应一个环形支撑部；隔断部包括第一金属膜层及第二金属膜层，第一金属膜层包括位于环形支撑部一侧的第一部及第二部，第二部位于环形支撑部的顶部，第二金属膜层包括位于第一金属膜层背离环形支撑部一侧的第三部及第四部，第四部位于第一金属膜层的顶部；对第一金属膜层进行刻蚀，以使第二金属膜层与环形支撑部之间形成间隙，从而得到隔断环。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，一般通过在显示屏上开孔，在开孔区域内设置摄像头、听筒以及红外感应元件等。

但是开孔的设置会使得显示屏的封装效果变差，空气中的水氧容易通过开孔进入到显示屏内部，可能会造成显示屏失效，影响电子设备的使用寿命。

发明内容

根据本申请实施例的第一方面，提供了一种显示面板的制备方法。所述显示基板包括显示区、开孔区及隔断区，所述隔断区位于所述显示区与所述开孔区之间；所述制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成至少一个环形支撑部，所述环形支撑部位于所述隔断区；

形成至少一个隔断结构，所述隔断结构位于所述隔断区，所述隔断结构的至少一侧设有隔断部，每一所述隔断部对应一个环形支撑部；所述隔断部包括第一金属膜层及第二金属膜层，所述第一金属膜层包括位于所述环形支撑部一侧的第一部、及由所述第一部的顶端延伸出的第二部，所述第二部位于所述环形支撑部的顶部，所述第二金属膜层包括位于所述第一金属膜层背离所述环形支撑部一侧的第三部及由所述第三部的顶端延伸出的第四部，所述第四部位于所述第一金属膜层的顶部；

对所述隔断结构的所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述第二金属膜层与所述环形支撑部之间形成间隙，从而得到隔断环。

在一个实施例中，所述隔断结构还包括环形本体部，所述环形本体部全部覆盖所述第二金属膜层的顶部，所述隔断部形成于所述环形本体部靠近对应的环形支撑部的一侧。

在一个实施例中，所述显示基板还包括位于所述显示区的平坦化层及像素限定层；所述环形本体部与所述平坦化层在同一工艺步骤中形成，或者，所述环形本体部与所述像素限定层在同一工艺步骤中形成。

在一个实施例中，所述隔断结构的相对两侧分别设有隔断部；和/或，

所述隔断区内设有两个或两个以上的隔断环，两个或两个以上的所述隔断环间隔设置。

在一个实施例中，所述显示基板包括位于所述显示区的子像素及用于驱动子像素的像素电路，所述像素电路包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括源电极、漏电极与栅电极；

所述隔断部与所述源电极在同一工艺步骤中形成；和/或，

所述环形支撑部与所述栅电极在同一工艺步骤中形成。

在一个实施例中，所述显示基板包括位于所述显示区的子像素，所述子像素包括第一电极、形成于所述第一电极上的有机发光材料、以及形成于所述有机发光材料上的第二电极，形成所述第一电极的步骤包括：

形成覆盖所述显示区的导电层；

对所述导电层进行刻蚀，以得到多个第一电极；

其中，对所述第一金属膜层的刻蚀与对所述导电层的刻蚀同时进行。

根据本申请实施例的第二方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括显示区、开孔区及隔断区，所述隔断区位于所述显示区与所述开孔区之间；所述显示基板包括：

衬底；

位于所述衬底上的至少一个环形支撑部，所述环形支撑部位于所述隔断区；

位于衬底上的至少一个隔断环，所述隔断环位于所述隔断区，所述隔断环的至少一侧设有第二金属膜层，每一所述第二金属膜层对应一个环形支撑部；所述第二金属膜层包括位于所述环形支撑部一侧的第三部、及与所述第三部的顶端延伸出的第四部，所述第四部位于所述环形支撑部上方；所述第三部及所述第四部分别与所述环形支撑部之间存在间隙；

位于所述隔断环上的有机发光材料、及位于所述有机发光材料上的封装层，所述有机发光材料在所述隔断环处断开，所述封装层至少覆盖所述隔断环的侧部且填充所述第二金属膜层与所述环形支撑部之间的间隙。

在一个实施例中，所述隔断环还包括环形本体部，所述环形本体部全部覆盖所述第二金属膜层的顶部，所述第二金属膜层形成于所述环形本体部靠近与该第二金属膜层对应的环形支撑部的一侧。

在一个实施例中，所述显示基板还包括位于所述显示区的平坦化层及像素限定层；所述环形本体部与所述平坦化层位于同一层，且二者材料相同，或者，所述环形本体部与所述像素限定层位于同一层，且二者材料相同。

在一个实施例中，所述隔断环的相对两侧分别设有第二金属膜层；和/或，

所述隔断区内设有两个或两个以上的隔断环，两个或两个以上的所述隔断环间隔设置。

在一个实施例中，所述显示基板包括位于所述显示区的子像素及用于驱动子像素的像素电路，所述像素电路包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括源电极、漏电极与栅电极；

所述源电极包括第三金属膜层及位于所述第三金属膜层上的第四金属膜层，所述第二金属膜层与所述第四金属膜层位于同一层，且二者材料相同；和/或，

所述环形支撑部与所述栅电极位于同一层，且二者材料相同。

根据本申请实施例的第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示基板。

本申请实施例提供的显示基板及其制备方法、显示装置，隔离区形成有隔离环，隔离环的第二金属膜层与环形支撑部之间形成有间隙，则蒸镀有机发光材料时第二金属膜层与环形支撑部之间的间隙处不会形成有机发光材料，也即是有机发光材料层在隔离环断开，因而空气中的水氧无法通过隔离区的有机发光材料进入到显示区中，有助于改善显示基板的使用寿命。在制备显示基板的过程中，通过形成环形支撑部，可使得第一金属膜层与第二金属膜层一部分形成于环形支撑部的侧部，另一部分形成于环形支撑部的顶部，则将第一金属膜层刻蚀后使得第二金属膜层与环形支撑部之间在水平方向与纵向上均存在间隙，可使得隔断环阻隔水氧的效果更好。

附图说明

图1是本申请实施例提供的一种显示基板的俯视图；

图2是图1所示的显示基板沿直线AA剖开得到的局部剖视图；

图3是本申请实施例提供的一种显示基板的制备方法的流程图；

图4是图1所示的显示基板的第一中间结构的局部剖视图；

图5是图1所示的显示基板的第二中间结构的局部剖视图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施例并不代表与本申请相一致的所有实施例。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。

下面结合附图，对本申请实施例中的显示基板及其制备方法、显示装置进行详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互补充或相互组合。

本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法。参见图1，所述显示基板100包括显示区10与非显示区。非显示区包括开孔区20及隔断区30，所述隔断区30位于所述显示区10与所述开孔区20之间。图1所示的实施例中，开孔区20及隔断区30的形状为圆形，在其他实施例中，开孔区20及隔断区30的形状可为其他形状例如矩形、椭圆形等，图示实施例中，隔断区30为闭合的环形，在其他实施例中隔断区30可以是非闭合的形状。

在一个实施例中，所述显示基板100为AMOLED显示基板，所述显示基板100的显示区10设有多个子像素及用于驱动所述子像素的多个像素电路，多个像素电路与多个子像素可一一对应。

参见图2，子像素包括第一电极11、位于第一电极11上的有机发光材料12及位于有机发光材料12上的第二电极13。其中，第一电极11可以是阳极，第二电极13可以是阴极，每一子像素的第一电极11为一个电极块，多个子像素的第二电极13可为连成一片的面电极。

所述像素电路包括薄膜晶体管14，所述薄膜晶体管14包括有源层141、栅电极142、源电极143及漏电极144。有源层141位于衬底41上。显示基板还可包括栅极绝缘层42、层间介质层43、平坦化层44、像素限定层45及封装层46。栅极绝缘层42位于有源层141与栅电极142之间，层间介质层43位于源电极143的顶部与栅电极142之间，平坦化层44位于第一电极11与源电极143之间，像素限定层45位于第一电极11之上。源电极143与漏电极144的下端部分进入栅极绝缘层42和层间介质层43上开设的通孔中，且源电极143与漏电极144的下端分别与有源层141接触。像素限定层45上开设有与多个子像素一一对应的像素开口，像素开口暴露对应的第一电极11，有机发光材料12设置在像素开口内。第一电极11通过平坦化层44上开设的通孔与漏电极144接触。封装层46位于第二电极13上，覆盖显示区10与隔断区30。

参见图3，所述显示基板的制备方法包括如下步骤110至步骤140，下面将进行详细介绍。

在步骤110中，提供衬底。

在一个实施例中，衬底41可以是柔性衬底，柔性衬底的材料可以是聚酰亚胺等有机材料。在其他实施例中，衬底可以是刚性衬底，刚性衬底的材料例如可以为玻璃、金属、塑料等。

在步骤120中，在所述衬底上形成至少一个环形支撑部，所述环形支撑部位于所述隔断区。

在一个实施例中，参见图2，所述环形支撑部33与所述薄膜晶体管14的栅电极142在同一工艺步骤中形成。如此，环形支撑部33的形成不增加额外的工艺步骤，有助于简化显示基板100的制备工艺复杂度。

在制备时，首先在栅极绝缘层42上形成至少覆盖显示区10与隔断区30的金属层，之后对金属层进行图形化处理，以使在显示区10中形成栅电极142，同时在隔断区30中形成环形支撑部33。

环形支撑部33与薄膜晶体管14的栅电极142在同一工艺步骤中形成时，在步骤120之前，显示基板的制备方法还可包括：在衬底41上形成有源层141，以及在有源层141上形成栅极绝缘层42。

在一个实施例中，环形支撑部33也可与其他膜层同时形成，例如环形支撑部33可与栅极绝缘层42同时形成，或者环形支撑部33可与层间介质层43同时形成。

在步骤130中，形成至少一个环形的隔断结构；所述隔断结构位于所述隔断区，所述隔断结构的至少一侧设有隔断部，每一所述隔断部对应一个环形支撑部；所述隔断部包括第一金属膜层及第二金属膜层，所述第一金属膜层包括位于所述环形支撑部一侧的第一部及由所述第一部的顶端延伸出的第二部，所述第二部位于所述环形支撑部的顶部，所述第二金属膜层包括位于所述第一金属膜层背离所述环形支撑部一侧的第三部及由所述第三部的顶端延伸出的第四部，所述第四部位于所述第一金属膜层的顶部。

通过步骤130可得到如图4所示的第一中间结构。

隔断结构32的至少一侧设有隔断部321指的是，隔断结构32的一侧设有隔断部321，或者，隔断结构32的相对两侧分别设有隔断部321，此时隔断结构32的相对两侧分别形成有一个环形支撑部33。图中仅以隔断结构32的相对两侧分别设有隔断部321为例进行示意，在其他实施例中，隔断结构32可仅有一侧设有隔断部321。隔断结构32的相对两侧分别设有隔断部321时，则后续步骤形成的隔断环31的两侧均可使有机发光材料断开，有助于提升隔断环31阻隔水氧的效果。

隔断部321中，第一金属膜层313的第一部301与第二部302一体成型，第一部301可大致沿纵向延伸，第二部302可大致沿水平方向延伸。第二金属膜层311的第三部303与第四部304一体成型，第三部303可大致沿纵向延伸，第四部304可大致沿水平方向延伸。第二部302与第四部304分别向背离对应的环形支撑部33的方向延伸。

在一个实施例中，所述隔断部321与所述源电极143、漏电极144在同一工艺步骤中形成。如此设置，隔断部321的形成不会增加额外的工艺步骤，有助于简化显示基板100的制备工艺复杂度。

在一个实施例中，隔断部321的第一金属膜层313与环形支撑部33直接接触。在其他实施例中，隔断部321的第一金属膜层313与环形支撑部33之间可设有其他膜层。

在一个实施例中，源电极143与漏电极144分别包括第三金属膜层101及位于第三金属膜层101上的第四金属膜层102。其中第一金属膜层313与第三金属膜层101可同时形成，第二金属膜层311与第四金属膜层102可同时形成。在一个示例性实施例中，第一金属膜层313与第三金属膜层101的材质可以是铝，第二金属膜层311与第四金属膜层102的材质可以是钛。

在另一个实施例中，源电极143与漏电极144可包括两层第四金属膜层102及位于两层第四金属膜层102之间的第三金属膜层101，隔断部321与环形支撑部33之间还可设有一个金属膜层，该金属膜层的材质与第二金属膜层311的材质相同。

在一个实施例中，第一金属膜层313的第二部302可全部覆盖对应的环形支撑部33的顶部，或者第一金属膜层313的第二部302可覆盖对应的环形支撑部33的顶部的一部分。图示实施例中，第一金属膜层313的第二部302覆盖对应的环形支撑部33的顶部的一部分。

在一个实施例中，所述隔断结构32还包括环形本体部312，所述环形本体部312全部覆盖所述第二金属膜层311的顶部，所述隔断部321形成于所述环形本体部312靠近与该隔断部312对应的环形支撑部33的一侧。

通过设置环形本体部312，且环形本体部312全部覆盖第二金属膜层311的顶部，则环形本体部312可增加隔断结构32的纵向高度，从而使后续形成的隔离环31与环形支撑部33之间的高度差增大，进而增大有机发光材料在隔离环31处断开的几率，提升隔离环31阻隔水氧的效果。并且环形本体部312可对第二金属膜层311施加拉应力，防止悬空的第二金属膜层311发生塌陷，提升隔断环31的可靠性。

隔断结构32包括两个隔断部321时，环形本体部312靠近衬底41的部分可形成于两个隔断部321之间，且环形本体部312可与隔断部321的第二金属膜层311直接接触。

在一个实施例中，所述环形本体部312与平坦化层44在同一工艺步骤中形成。如此设置，环形本体部312的形成不会增加额外的工艺步骤，有助于简化显示基板100的制备工艺。

在另一个实施例中，环形本体部312也可与像素限定层45在同一工艺步骤中形成。如此，环形本体部312的形成不会增加额外的工艺步骤，有助于简化显示基板100的制备工艺。

在一个实施例中，隔断结构32的数量可为两个或两个以上，两个或两个以上隔断结构在所述隔断区30间隔排布。图示实施例中，隔断结构32的数量为两个，在其他实施例中，隔断结构32的数量可大于两个，例如可以是三个、四个、五个等。隔断结构32的数量为两个或两个以上时，后续步骤中形成同等数量的隔断环31，可进一步确保有机发光材料在隔断区30断开，更有利于阻挡空气中的水氧通过隔断区30进入到显示区10中，可延长显示面板的使用寿命。

在步骤140中，对所述隔断结构的所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述第二金属膜层与所述环形支撑部33之间形成间隙，从而得到隔断环。

通过步骤140可得到如图5所示的第二中间结构。

在一个实施例中，若第一金属膜层与环形支撑部33直接接触，则第一金属膜层刻蚀后间隙位于第二金属膜层与环形支撑部33之间。若第一金属膜层与环形支撑部33之间存在其他膜层，则第一金属膜层刻蚀后形成的间隙位于第二金属膜层与其他膜层之间，也即是，环形支撑部33不与间隙直接接触。

在一个实施例中，可采用湿刻工艺对第一金属膜层313进行刻蚀。采用湿刻工艺可将第一金属膜层313刻蚀得比较干净，使第二金属膜层311与环形支撑部33之间的间隙较大，进而有助于提升隔断环31阻隔水氧的效果。

在一个实施例中，形成所述第一电极11的步骤包括：形成覆盖所述显示区10的导电层；对所述导电层进行刻蚀，以得到多个电极块。其中，对所述第一金属膜层的刻蚀与对所述导电层的刻蚀同时进行。如此，对第一金属膜层313的刻蚀不会增加额外的工艺步骤，有助于简化显示基板100的制备工艺。

在对第一电极11及第一金属膜层313进行刻蚀时，采用的蚀刻液不与第二金属膜层311反应，从而在完成对第一电极11与第一金属膜层313的刻蚀后，第二金属膜层311的形状几乎不发生变化。

在一个实施例中，若同时对第一电极11及第一金属膜层313进行刻蚀，在步骤140之后，制备方法还可包括：在第一电极11上形成有机发光材料12，在有机发光材料上形成第二电极13；在第二电极13上形成封装层46，封装层46覆盖显示区10与隔断区30。

由于隔断环31的第二金属膜层311与环形支撑部33之间形成间隙，则在蒸镀有机发光材料12时，有机发光材料12在隔断环31处断开，进而空气中的水氧无法通过隔断区30的有机发光材料进入到显示区10中，有助于改善显示面板的使用寿命。

封装层46可以是薄膜封装层，包括交替叠加设置的有机材料及无机材料。可采用化学气相沉积工艺形成封装层46。封装层46会进入到第二金属膜层与环形支撑部33之间的间隙，避免有机发光材料与空气接触，从而可阻止空气中的水氧通过隔断区30的有机发光材料进入到显示区10的有机发光材料中。

在形成封装层46后，显示基板的制备方法还可包括：在开孔区进行开孔。在开孔区开孔后，即可得到图2所示的显示基板。

在一个实施例中，可采用激光的方式进行开孔，将开孔区20的膜层去除。

本申请实施例提供的显示基板的制备方法，隔离区形成有隔离环，隔离环的第二金属膜层与环形支撑部之间形成有间隙，则蒸镀有机发光材料时第二金属膜层与环形支撑部之间的间隙处不会形成有机发光材料，也即是有机发光材料层在隔离环断开，因而空气中的水氧无法通过隔离区的有机发光材料进入到显示区中，有助于改善显示基板的使用寿命。在制备显示基板的过程中，通过形成环形支撑部，可使得第一金属膜层与第二金属膜层一部分形成于环形支撑部的侧部，另一部分形成于环形支撑部的顶部，则将第一金属膜层刻蚀后使得第二金属膜层与环形支撑部之间在水平方向与纵向上均存在间隙，可使得隔断环阻隔水氧的效果更好。

本申请实施例还提供了一种显示基板。参见图1，所述显示基板100包括显示区10、开孔区20及隔断区30，所述隔断区30位于所述显示区10与所述开孔区20之间。

参见图2，所述显示基板100包括衬底41、至少一个环形支撑部33及至少一个隔断环31。环形支撑部33位于衬底41上，且环形支撑部33位于所述隔断区30。隔断环31位于衬底41上，所述隔断环31位于所述隔断区30。所述隔断环31的至少一侧设有第二金属膜层311，每一所述第二金属膜层311对应一个环形支撑部33。所述第二金属膜层311包括位于所述环形支撑部33一侧的第三部303及由所述第三部303的顶部延伸出的第四部304，所述第四部304位于所述环形支撑部33上方。所述第三部303及所述第四部304分别与所述环形支撑部33之间存在间隙。

所述显示基板100还包括位于所述隔断环31与所述环形支撑部33上的有机发光材料12、及位于所述有机发光材料12上的封装层46，所述有机发光材料12在所述隔断环31处断开，所述封装层46至少覆盖所述隔断环31的侧部且填充所述第二金属膜层311与所述环形支撑部33之间的间隙。

所述显示基板100的显示区10设有多个子像素及用于驱动所述子像素的多个像素电路，多个像素电路与多个子像素可一一对应。子像素包括第一电极11、位于第一电极11上的有机发光材料12及位于有机发光材料12上的第二电极13。其中，第一电极11可以是阳极，第二电极13可以是阴极，每一子像素的第一电极11为一个电极块，多个子像素的第二电极13可为连成一片的面电极。

所述像素电路包括薄膜晶体管14，所述薄膜晶体管14包括有源层141、栅电极142、源电极143及漏电极144。有源层141位于衬底41上。显示基板100还可包括栅极绝缘层42、层间介质层43、平坦化层44及像素限定层45。栅极绝缘层42位于有源层141与栅电极142之间，层间介质层43位于源电极143的顶部与栅电极142之间，平坦化层44位于第一电极11与源电极143之间，像素限定层45位于第一电极11之上。源电极143与漏电极144的下端部分进入栅极绝缘层42和层间介质层43上设置的通孔中。像素限定层45上开设有与多个子像素一一对应的像素开口，像素开口暴露对应的第一电极11，有机发光材料设置在像素开口内。第一电极11通过平坦化层44上开设的通孔与漏电极144接触。封装层46位于第二电极13上，覆盖显示区10与隔断区30。

在一个实施例中，所述隔断环31还包括环形本体部312，所述环形本体部312覆盖所述第二金属膜层311的顶部，所述第二金属膜层311形成于所述环形本体部靠近与该第二金属膜层311对应的环形支撑部33的一侧。通过设置环形本体部312，且环形本体部312全部覆盖第二金属膜层311的顶部，可使隔离环31的高度增大，进而增大有机发光材料在隔离环31处断开的几率，提升隔离环31阻隔水氧的效果。

在一个实施例中，环形本体部312的相对两侧分别设有第二金属膜层311。隔离环31包括两个第二金属膜层311时，环形本体部312靠近衬底41的部分可形成于两个第二金属膜层311之间，且环形本体部312可与第二金属膜层311直接接触。

在一个实施例中，所述环形本体部312与所述平坦化层44位于同一层，且二者材料相同，或者，所述环形本体部312与所述像素限定层45位于同一层，且二者材料相同。如此设置，环形本体部312与平坦化层44或像素限定层45可在同一工艺步骤中形成，环形本体部312的制备不会增加额外的工艺步骤，有助于降低显示基板100的制备工艺复杂度。

在一个实施例中，所述源电极143与所述漏电极144包括第三金属膜层101及位于所述第三金属膜层101上的第四金属膜层102，所述第二金属膜层311与所述第四金属膜层102位于同一层，且二者材料相同。如此设置，在形成源电极143与漏电极144的过程中同时形成了第二金属膜层311，则第二金属膜层311的形成不会增加额外的工艺步骤，有助于显示基板100的简化制备工艺。

在一个实施例中，所述环形支撑部33与所述栅电极142位于同一层，且二者材料相同。如此，环形支撑部33与栅电极142可在同一工艺步骤中形成，环形支撑部33的制备不会增加额外的工艺步骤，有助于简化显示基板100的制备工艺。

在一个实施例中，所述隔断区30内设有两个或两个以上的隔断环31，两个或两个以上的所述隔断环31间隔设置。

本申请实施例提供的显示基板，隔离区形成有隔离环，隔离环的第二金属膜层与环形支撑部之间形成有间隙，则蒸镀有机发光材料时第二金属膜层与环形支撑部之间的间隙处不会形成有机发光材料，也即是有机发光材料层在隔离环断开，因而空气中的水氧无法通过隔离区的有机发光材料进入到显示区中，有助于改善显示基板的使用寿命。隔离区形成有环形支撑部，第二金属膜层一部分形成于环形支撑部的侧部，另一部分形成于环形支撑部的顶部，则第二金属膜层与环形支撑部之间在水平方向与纵向上均存在间隙，有助于提升隔断环阻隔水氧的效果。

对于产品实施例而言，由于其基本对应于制备方法的实施例，所以相关细节及有益效果的描述参见制备方法实施例的部分说明即可，不再进行赘述。

本申请实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述任一实施例所述的显示基板100。

在一个实施例中，显示装置为显示面板。显示面板可包括显示基板100及设置在显示基板100上方的偏光片。

在一个实施例中，显示装置可以为电子设备，包括外壳及显示面板，显示面板可嵌入到外壳中。显示面板包括上述的显示基板100。显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

在本申请中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本申请的其它实施方案。本申请旨在涵盖本申请的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本申请的一般性原理并包括本申请未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本申请的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本申请并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本申请的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (12)

1.一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括显示区、开孔区及隔断区，所述隔断区位于所述显示区与所述开孔区之间；其特征在于，所述制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成至少一个环形支撑部，所述环形支撑部位于所述隔断区；

形成至少一个隔断结构，所述隔断结构位于所述隔断区，所述隔断结构的至少一侧设有隔断部，每一所述隔断部对应一个环形支撑部；所述隔断部包括第一金属膜层及第二金属膜层，所述第一金属膜层包括位于所述环形支撑部一侧的第一部、及由所述第一部的顶端延伸出的第二部，所述第二部位于所述环形支撑部的顶部，所述第二金属膜层包括位于所述第一金属膜层背离所述环形支撑部一侧的第三部及由所述第三部的顶端延伸出的第四部，所述第四部位于所述第一金属膜层的顶部；

对所述隔断结构的所述第一金属膜层进行刻蚀，以使所述第二金属膜层的所述第三部及所述第四部分别与所述环形支撑部之间形成间隙，从而得到隔断环。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔断结构还包括环形本体部，所述环形本体部全部覆盖所述第二金属膜层的顶部，所述隔断部形成于所述环形本体部靠近对应的环形支撑部的一侧。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述显示区的平坦化层及像素限定层；所述环形本体部与所述平坦化层在同一工艺步骤中形成，或者，所述环形本体部与所述像素限定层在同一工艺步骤中形成。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔断结构的相对两侧分别设有隔断部；和/或，

所述隔断区内设有两个或两个以上的隔断环，两个或两个以上的所述隔断环间隔设置。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括位于所述显示区的子像素及用于驱动子像素的像素电路，所述像素电路包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括源电极、漏电极与栅电极；

所述隔断部与所述源电极在同一工艺步骤中形成；和/或，

所述环形支撑部与所述栅电极在同一工艺步骤中形成。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括位于所述显示区的子像素，所述子像素包括第一电极、形成于所述第一电极上的有机发光材料、以及形成于所述有机发光材料上的第二电极，形成所述第一电极的步骤包括：

形成覆盖所述显示区的导电层；

对所述导电层进行刻蚀，以得到多个第一电极；

其中，对所述第一金属膜层的刻蚀与对所述导电层的刻蚀同时进行。

7.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括显示区、开孔区及隔断区，所述隔断区位于所述显示区与所述开孔区之间；所述显示基板包括：

衬底；

位于所述衬底上的至少一个环形支撑部，所述环形支撑部位于所述隔断区；

位于衬底上的至少一个隔断环，所述隔断环位于所述隔断区，所述隔断环的至少一侧设有第二金属膜层，每一所述第二金属膜层对应一个环形支撑部；所述第二金属膜层包括位于所述环形支撑部一侧的第三部、及与所述第三部的顶端延伸出的第四部，所述第四部位于所述环形支撑部上方；所述第三部及所述第四部分别与所述环形支撑部之间存在间隙；

位于所述隔断环上的有机发光材料、及位于所述有机发光材料上的封装层，所述有机发光材料在所述隔断环处断开，所述封装层至少覆盖所述隔断环的侧部且填充所述第二金属膜层与所述环形支撑部之间的间隙。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述隔断环还包括环形本体部，所述环形本体部全部覆盖所述第二金属膜层的顶部，所述第二金属膜层形成于所述环形本体部靠近与该第二金属膜层对应的环形支撑部的一侧。

9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述显示区的平坦化层及像素限定层；所述环形本体部与所述平坦化层位于同一层，且二者材料相同，或者，所述环形本体部与所述像素限定层位于同一层，且二者材料相同。

10.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述隔断环的相对两侧分别设有第二金属膜层；和/或，

所述隔断区内设有两个或两个以上的隔断环，两个或两个以上的所述隔断环间隔设置。

11.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括位于所述显示区的子像素及用于驱动子像素的像素电路，所述像素电路包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括源电极、漏电极与栅电极；

所述源电极包括第三金属膜层及位于所述第三金属膜层上的第四金属膜层，所述第二金属膜层与所述第四金属膜层位于同一层，且二者材料相同；和/或，

所述环形支撑部与所述栅电极位于同一层，且二者材料相同。

12.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求7-11任一项所述的显示基板。

Images