CN111349887A - 异形掩模板、其显示屏幕、及其显示屏幕制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法，所述制造方法包括：阳极薄膜层制造步骤、掩模板提供步骤、以及蒸镀步骤。在所述蒸镀步骤中，多个异形掩模板分别用于蒸镀形成金属缓冲薄膜层以及合金薄膜层，在所述金属缓冲薄膜层对应所述异形掩模板的所述遮挡部处形成凹陷部，并在所述合金薄膜层对应所述异形掩模板的所述遮挡部处形成凹陷部。所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域。上述制造方法可提高显示屏幕屏占比并且避免异形切割的良率低落问题。

Description

异形掩模板、其显示屏幕、及其显示屏幕制造方法
技术领域
本发明是有关于一种显示屏幕制造方法，特别是有关于一种异形掩模板、其显示屏幕、及其显示屏幕制造方法。
背景技术
请参照图1及图2，图1为现有技术的有机发光二极管(Organic Light EmittingDiode,OLED)显示屏幕90的俯视图，图2为所述显示屏幕90的局部放大俯视图，所述显示屏幕90的顶部形成有凹槽部91。所述凹槽部91分位于有效显示区900上方，且所述凹槽部91的形状可具体为窄U形、宽U形(刘海形)、水滴形、或是其他类似的形状。上述OLED显示屏幕90安装到手机之上后，凹槽部91分露出摄像头以及扩音喇叭，有效显示区在凹槽部91的左右两侧的区域分别显示手机信号，手机电池电量等信息，具有凹槽部91的OLED显示屏幕90实现提高手机正面的屏占比。上述具有凹槽部91的显示屏幕90因形状特殊而又称为异形显示屏幕90。
为制造上述异形显示屏幕90、90a，需要在蒸镀制程、封装制程移除非显示区域的有机薄膜层、金属薄膜层、薄膜封装层(否则切割形成膜层断面，大气水汽沿断面进入有效区导致屏幕失效)。上述移除方法为在金属掩模板之上对应的位置设置一遮挡部，所述遮挡部的形状和异形切割制程中所切除部分的形状相同。通常。屏幕制造过程中需要在7至10张掩模板的相同位置上均设置遮挡部。
上述具凹槽部91的屏幕等在经历阵列、蒸镀、薄膜封装制程后，执行异形切割制程，以切除在凹槽部91的多余部分，以形成上述具凹槽部91的屏幕。
然而，上述显示屏幕90具有以下缺点：
1.显示屏幕90屏占比不佳：上述具有凹槽部91的异形屏幕，凹槽部91为非显示区域，非显示区域面积大，无法进一步压缩。非显示区域包括：被切除的部分，以及环绕切割边缘的不显示边缘(边缘部分宽度通常0.9-2mm)，被切除部分面积大小受限于摄像头镜头光学探头的外轮廓尺寸。
2.异形切割难度大：相较于直线形切割，凹槽部91等异形凹槽部的切割制程难度大，容易导致切割处破裂或是切割形状不佳。
故，有必要提供一种屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法及其异形掩模板，以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明提供一种异形掩模板、其显示屏幕、及其显示屏幕制造方法，以解决现有技术显示屏幕制造方法的显示屏幕屏占比不佳与异形切割难度大且良率低等技术问题。
本发明主要目的在于提供一种异形掩模板，包括：
边框；以及
遮挡部，连接所述边框，所述遮挡部为U形或水滴形。
在本发明较佳实施例中，所述遮挡部自所述边框向内延伸。
本发明另一目的在于提供一种屏下摄像有机发光显示屏幕，包括依序迭设的衬底层、阳极薄膜层、空穴注入薄膜层、空穴传输薄膜层、发光薄膜层、空穴阻挡薄膜层、电子传输薄膜层、电子注入薄膜层、金属缓冲薄膜层、合金薄膜层、光学补偿层、以及无机缓冲层；
其中，所述阳极薄膜层中形成凹陷部，所述金属缓冲薄膜层形成凹陷部，所述合金薄膜层形成凹陷部，且所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，且所述凹陷区域为U形或水滴形。
所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部均为U形或水滴形。
本发明又一目的在于提供一种屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法，包括：
阳极薄膜层制造步骤，包括提供衬底层，且在所述衬底层上形成阳极薄膜层，其中所述阳极薄膜层中形成凹陷部；
掩模板提供步骤，包括提供多个异形掩模板以及多个常规掩模板，其中各所述异形掩模板包括边框以及连接所述边框的遮挡部，所述遮挡部为水滴形或U形；以及
蒸镀步骤，包括依序在所述阳极薄膜层上蒸镀空穴注入薄膜层、空穴传输薄膜层、发光薄膜层、空穴阻挡薄膜层、电子传输薄膜层、电子注入薄膜层、金属缓冲薄膜层、合金薄膜层、光学补偿层、以及无机缓冲层，其中，所述多个异形掩模板分别用于蒸镀形成所述金属缓冲薄膜层以及所述合金薄膜层，在所述金属缓冲薄膜层对应所述异形掩模板的所述遮挡部处形成凹陷部，并在所述合金薄膜层对应所述异形掩模板的所述遮挡部处形成凹陷部；
其中，所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域。
在本发明较佳实施例中，所述阳极薄膜层的凹陷部对应所述异形掩模板的所述遮挡部。
在本发明较佳实施例中，所述空穴注入薄膜层、所述空穴传输薄膜层、所述发光薄膜层、所述空穴阻挡薄膜层、所述电子传输薄膜层、所述电子注入薄膜层、所述金属缓冲薄膜层、所述合金薄膜层、所述光学补偿层、以及所述无机缓冲层是依序迭设在所述阳极薄膜层上。
在本发明较佳实施例中，所述阳极薄膜层包括透明导电薄膜层和反射薄膜层。
在本发明较佳实施例中，所述遮挡部自所述边框向内延伸。
在本发明较佳实施例中，所述阳极薄膜层的凹陷部对应所述异形掩模板的所述遮挡部；所述空穴注入薄膜层、所述空穴传输薄膜层、所述发光薄膜层、所述空穴阻挡薄膜层、所述电子传输薄膜层、所述电子注入薄膜层、所述金属缓冲薄膜层、所述合金薄膜层、所述光学补偿层、以及所述无机缓冲层是依序迭设在所述阳极薄膜层上；所述阳极薄膜层包括透明导电薄膜层和反射薄膜层；以及所述遮挡部自所述边框向内延伸。
相较于现有技术的显示屏幕，本发明屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法采用异形掩模板来制造所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部，并以所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，使得所述摄像头对应凹陷区域能用于对准屏下摄像头组件的光学镜头，并供所述光学镜头直接透过所述摄像头对应凹陷区域摄取外部光线而达成感光与摄像功能。藉由上述技术手段，本发明屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法能够避免对在制造过程中裁切显示屏幕来制作所述异形凹陷区，进而能够避免过度切割显示屏幕的有效显示区，造成有效显示区缩减而降低所述显示屏幕的屏占比的技术问题。此外，本发明由于避免了以切割制程来制造所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，也避免了异形切割难度大而容易导致切割处破裂或是切割形状不佳的技术问题。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，且配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为现有技术的有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示屏幕的俯视图。
图2为现有技术的显示屏幕的局部放大俯视示意图。
图3为本发明屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法的步骤流程示意图。
图4为本发明一实施例中的异形掩模板的俯视示意图。
图5A为图4中本发明异形掩模板的俯视放大示意图。
图5B为本发明另一实施例中的异形掩模板的俯视放大示意图。
图6为本发明常规掩模板的俯视示意图。
图7为本发明屏下摄像有机发光显示屏幕的侧面局部剖视示意图。
图8为本发明屏下摄像有机发光显示屏幕的俯视示意图。
具体实施方式
请参照图3，本发明提供一种屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法，包括：阳极薄膜层制造步骤S1、掩模板提供步骤S2、以及蒸镀步骤S3。
请参照图7，所述阳极薄膜层制造步骤S1包括提供衬底层1，且在所述衬底层1上形成阳极薄膜层2。在本发明较佳实施例中，所述阳极薄膜层2包括透明导电薄膜层和反射薄膜层，所述透明导电薄膜层通常为氧化铟锡薄膜层，所述反射薄膜层通常为银薄膜层。在所述透明导电薄膜层上形成薄膜晶体管阵列。为了提高图7显示屏幕的右侧部分的透光率，阳极薄膜层2中去除反射薄膜层的一部分材料而形成凹陷部102，所述凹陷部102内的反射薄膜层通的材料被去除。
请参照图4及图6，所述掩模板提供步骤S2包括提供多个异形掩模板50以及多个常规掩模板60。
请参照图4、图5A、及图5B，各所述异形掩模板50可以金属制造，包括边框51、连接所述边框51的遮挡部53、以及位于边框内的图形部(图中未示)。在本发明较佳实施例中，所述遮挡部53具体可为水滴形而包括圆头部531以及连接所述圆头部531与所述边框51的颈部533，如图5A所示。或者，所述遮挡部53可为U形，如图5B所示。在本发明较佳实施例中，所述遮挡部53自所述边框51向内延伸，换言之，所述遮挡部53自所述边框51向所述图形部延伸。所述图形部(图中未示)为已知技术，在本文中不另赘述。
请参照图6，各所述常规掩模板60可以金属制造，包括边框51以及位于边框内的图形部(图中未示)。所述图形部(图中未示)为已知技术，在本文中不另赘述。
所述蒸镀步骤S3包括依序在所述阳极薄膜层2上蒸镀空穴注入薄膜层3、空穴传输薄膜层4、发光薄膜层5、空穴阻挡薄膜层6、电子传输薄膜层7、电子注入薄膜层8、金属缓冲薄膜层9、合金薄膜层10、光学补偿层11、以及无机缓冲层12。
所述多个常规掩模板60分别用于蒸镀形成所述空穴注入薄膜层3、所述空穴传输薄膜层4、所述发光薄膜层5、所述空穴阻挡薄膜层6、所述电子传输薄膜层7、所述电子注入薄膜层8、所述光学补偿层11、以及所述无机缓冲层12，且所述多个异形掩模板50分别用于蒸镀形成所述金属缓冲薄膜层9以及所述合金薄膜层10。
所述金属缓冲薄膜层9对应所述异形掩模板50的所述遮挡部53处形成凹陷部109。所述合金薄膜层10对应所述异形掩模板50的所述遮挡部53处形成凹陷部110。所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，所述摄像头对应凹陷区域用于对准屏下摄像头组件的光学镜头(将于下文进一步详述)。所述凹陷区域为U形或水滴形。于较佳实施例中，所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110均为U形或水滴形。
在本发明较佳实施例中，所述阳极薄膜层2的凹陷部102对应所述异形掩模板50的所述遮挡部53。
在本发明较佳实施例中，所述空穴注入薄膜层3、所述空穴传输薄膜层4、所述发光薄膜层5、所述空穴阻挡薄膜层6、所述电子传输薄膜层7、所述电子注入薄膜层8、所述金属缓冲薄膜层9、所述合金薄膜层10、所述光学补偿层11、以及所述无机缓冲层12是依序迭设在所述阳极薄膜层2上。
本发明另提供一种用于上述屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法的异形掩模板50。
所述异形掩模板50包括边框51、连接所述边框51的遮挡部53、以及位于边框内的图形部(图中未示)。在本发明较佳实施例中，所述遮挡部53可为U形，或者，所述遮挡部53具体可为水滴形而包括圆头部531以及连接所述圆头部531与所述边框51的颈部533。在本发明较佳实施例中，所述遮挡部53自所述边框51向内延伸，换言之，所述遮挡部53自所述边框51向所述图形部延伸。所述图形部(图中未示)为已知技术，在本文中不另赘述。
请参照图7及图8，本发明另提供一种透过上述屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法所制造的屏下摄像有机发光显示屏幕。
所述屏下摄像有机发光显示屏幕包括依序迭设的衬底层1、阳极薄膜层2、空穴注入薄膜层3、空穴传输薄膜层4、发光薄膜层5、空穴阻挡薄膜层6、电子传输薄膜层7、电子注入薄膜层8、金属缓冲薄膜层9、合金薄膜层10、光学补偿层11、以及无机缓冲层12。
所述阳极薄膜层2包括透明导电薄膜层和反射薄膜层，所述透明导电薄膜层通常为氧化铟锡薄膜层，所述反射薄膜层通常为银薄膜层。在所述透明导电薄膜层上形成薄膜晶体管阵列。为了提高图7显示屏幕的右侧部分的透光率，阳极薄膜层2中去除反射薄膜层的一部分材料而形成凹陷部102，所述凹陷部102内的反射薄膜层通的材料被去除。
在本发明较佳实施例中，所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102可为U形或是水滴形。
所述金属缓冲薄膜层9形成凹陷部109，所述凹陷部109内的金属缓冲薄膜层9的材料被去除。所述合金薄膜层10形成凹陷部110，所述凹陷部110内的合金薄膜层10的材料被去除。在本发明较佳实施例中，所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109可为U形或是水滴形。在本发明较佳实施例中，所述合金薄膜层10的所述凹陷部110可为U形或是水滴形。
所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，所述摄像头对应凹陷区域用于对准屏下摄像头组件的光学镜头(将于下文进一步详述)。所述凹陷区域为U形或水滴形。于较佳实施例中，所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110均为U形或水滴形。
透过所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110，可增加显示屏幕未于所述多个凹陷部102、109、110的透光率，进而有利于设置在衬底层1下方的屏下摄像头组件能够获取充分的外部光线。
在本发明较佳实施例中，所述屏下摄像有机发光显示屏幕进一步包括一屏下摄像头组件。所述屏下摄像头组件设置在衬底层1下方，且包括感光元件模块15以及设置在所述感光元件模块上的光学镜头16。所述光学镜头16对准所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110。
相较于现有技术的显示屏幕，本发明屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法采用异形掩模板50来制造所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110，并以所述阳极薄膜层2的所述凹陷部102、所述金属缓冲薄膜层9的所述凹陷部109、以及所述合金薄膜层10的所述凹陷部110相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，使得所述摄像头对应凹陷区域能用于对准屏下摄像头组件的光学镜头，并供所述光学镜头直接透过所述摄像头对应凹陷区域摄取外部光线而达成感光与摄像功能。藉由上述技术手段，本发明屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法能够避免对在制造过程中裁切显示屏幕来制作所述异形凹陷区，进而能够避免过度切割显示屏幕的有效显示区，造成有效显示区缩减而降低所述显示屏幕的屏占比的技术问题。此外，本发明由于避免了以切割制程来制造所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，也避免了异形切割难度大而容易导致切割处破裂或是切割形状不佳的技术问题。

Claims (10)

1.一种异形掩模板，其特征在于所述异形掩模板包括：
边框；以及
遮挡部，连接所述边框，所述遮挡部为U形或水滴形。
2.如权利要求1所述的异形掩模板，其特征在于：所述遮挡部自所述边框向内延伸。
3.一种屏下摄像有机发光显示屏幕，其特征在于所述显示屏幕包括依序迭设的衬底层、阳极薄膜层、空穴注入薄膜层、空穴传输薄膜层、发光薄膜层、空穴阻挡薄膜层、电子传输薄膜层、电子注入薄膜层、金属缓冲薄膜层、合金薄膜层、光学补偿层、以及无机缓冲层；
其中，所述阳极薄膜层中形成凹陷部，所述金属缓冲薄膜层形成凹陷部，所述合金薄膜层形成凹陷部，所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域，且所述凹陷区域为U形或水滴形。
4.如权利要求3所述的屏下摄像有机发光显示屏幕，其特征在于：所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部均为U形或水滴形。
5.一种屏下摄像有机发光显示屏幕制造方法，其特征在于所述制造方法包括：
阳极薄膜层制造步骤，包括提供衬底层，且在所述衬底层上形成阳极薄膜层，其中所述阳极薄膜层中形成凹陷部；
掩模板提供步骤，包括提供多个异形掩模板以及多个常规掩模板，其中各所述异形掩模板包括边框以及连接所述边框的遮挡部，所述遮挡部为水滴形或U形；以及
蒸镀步骤，包括依序在所述阳极薄膜层上蒸镀空穴注入薄膜层、空穴传输薄膜层、发光薄膜层、空穴阻挡薄膜层、电子传输薄膜层、电子注入薄膜层、金属缓冲薄膜层、合金薄膜层、光学补偿层、以及无机缓冲层，其中，所述多个异形掩模板分别用于蒸镀形成所述金属缓冲薄膜层以及所述合金薄膜层，在所述金属缓冲薄膜层对应所述异形掩模板的所述遮挡部处形成凹陷部，并在所述合金薄膜层对应所述异形掩模板的所述遮挡部处形成凹陷部；
其中，所述阳极薄膜层的所述凹陷部、所述金属缓冲薄膜层的所述凹陷部、以及所述合金薄膜层的所述凹陷部相互对准而共同构成所述显示屏幕的摄像头对应凹陷区域。
6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：所述阳极薄膜层的凹陷部对应所述异形掩模板的所述遮挡部。
7.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：所述空穴注入薄膜层、所述空穴传输薄膜层、所述发光薄膜层、所述空穴阻挡薄膜层、所述电子传输薄膜层、所述电子注入薄膜层、所述金属缓冲薄膜层、所述合金薄膜层、所述光学补偿层、以及所述无机缓冲层是依序迭设在所述阳极薄膜层上。
8.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：所述阳极薄膜层包括透明导电薄膜层和反射薄膜层。
9.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：所述遮挡部自所述边框向内延伸。
10.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：
所述阳极薄膜层的凹陷部对应所述异形掩模板的所述遮挡部；
所述空穴注入薄膜层、所述空穴传输薄膜层、所述发光薄膜层、所述空穴阻挡薄膜层、所述电子传输薄膜层、所述电子注入薄膜层、所述金属缓冲薄膜层、所述合金薄膜层、所述光学补偿层、以及所述无机缓冲层是依序迭设在所述阳极薄膜层上；
所述阳极薄膜层包括透明导电薄膜层和反射薄膜层；以及
所述遮挡部自所述边框向内延伸。
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