CN111312917A - 显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例公开了一种显示面板及其制造方法。该显示面板包括衬底层、第一挡墙、第一无机层和有机层；其中，所述衬底层包括显示区和非显示区；所述第一挡墙设置于所述衬底层的非显示区，且围绕所述显示区设置，所述第一挡墙表面具有一疏水层；所述第一无机层覆盖所述衬底层，并且暴露所述第一挡墙；所述有机层设置于所述第一无机层上，且位于所述显示区。本方案通过在第一挡墙上设置一疏水层，可以有效的抑制有机层的边缘溢流现象。

Description

显示面板及其制造方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制造方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)对水氧较为敏感，目前常用的OLED封装方式为薄膜封装，即采用有机膜层和无机膜层交替层叠的方式对水氧进行阻隔。其中无机膜层的致密性较好，主要可以用来阻隔水氧，而有机膜层主要可以用来缓解无机膜层的内应力，同时也使封装膜层具有一定的柔韧性。

然而有机膜层目前常采用液态流平成膜，其成膜边缘不易控制。当边缘溢流较多，导致无机膜层无法覆盖时，水氧可以沿有机膜层边缘渗入从而导致封装失效。

发明内容

本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法，可以有效的抑制有机膜层的边缘溢流现象。

第一方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：

衬底层，所述衬底层包括显示区和非显示区；

第一挡墙，所述第一挡墙设置于所述衬底层的非显示区，且围绕所述显示区设置，所述第一挡墙表面具有一疏水层；

第一无机层，所述第一无机层覆盖所述衬底层，并且暴露所述第一挡墙；

有机层，所述有机层设置于所述第一无机层上，且位于所述显示区。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述第一挡墙的材料为有机材料。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述疏水层的材料包括含氟烷基乙烯基二醇类、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟酰卤类或甲基丙烯酸氟烷基酯类中的一种。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述疏水层通过所述第一挡墙与氟气发生自由基反应形成。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述疏水层通过化学气相沉积形成。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述第一挡墙与所述有机层平齐。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述显示面板还包括：

第二挡墙，所述第二挡墙位于所述衬底层和所述第一无机层之间，所述第二挡墙围绕所述第一挡墙设置。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述第二挡墙的材料为有机材料。

在本申请实施例提供的显示面板中，所述显示面板还包括：

第二无机层，所述第二无机层覆盖所述第一无机层、第一挡墙和所述有机层。

第二方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法，包括：

提供一衬底层，所述衬底层包括显示区和非显示区；

在所述衬底层上形成围绕所述显示区的第一挡墙，并对所述第一挡墙进行疏水性处理；

在所述衬底层上形成暴露所述第一挡墙的第一无机层；

在所述第一无机层上形成有机层，所述有机层位于所述显示区。

由上，本申请实施例提供的显示面板包括衬底层、第一挡墙、第一无机层和有机层；所述衬底层包括显示区和非显示区；所述第一挡墙设置于所述衬底层的非显示区，且围绕所述显示区设置，所述第一挡墙表面具有一疏水层；所述第一无机层覆盖所述衬底层，并且暴露所述第一挡墙；所述有机层设置于所述第一无机层上，且位于所述显示区。本方案通过在第一挡墙上设置一疏水层，可以有效的抑制有机层的边缘溢流现象。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中的显示面板的结构示意图。

图2是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。

图3是本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在现有技术中，如图1所示，为了抑制有机层40的边缘溢流，常见在显示区11外围设置挡墙结构20，但挡墙20上的第一无机层30为了使有机层40在显示区11有较好的流平效果常常是有利于有机层40的扩展的。因此在现有技术中，挡墙20的设置仍然不能较好的抑制有机层40的边缘溢流。

对此，本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法，以下将分别进行详细说明。

请参阅图2，图2是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。该显示面板100可以包括衬底层10、第一挡墙20、第一无机层30和有机层40。

衬底层10可以包括显示区11和非显示区12。该衬底层10可以包括基板101和依次层叠设置于该基板101上的柔性衬底102和有机发光结构103。其中，该基板101是用于驱动发光结构103发光的阵列基板。该基板101可以是透明的、半透明的或不透明的。柔性衬底102可以由柔性材料构成，比如聚酰亚胺(Polyimide，PI)。该柔性衬底102可以增加显示面板100的耐弯折性。发光结构103可以实现该显示面板100的画面显示。可以理解的是，发光结构103位于显示区11。

第一挡墙20设置于衬底层10的非显示区12。并且，该第一挡墙20围绕衬底层10的显示区11设置。需要说明的是，在该第一挡墙20的表面具有一疏水层201。

在一些实施例中，该第一挡墙20的材料可以是有机材料。此时，可以对该第一挡墙20进行氟化处理。

具体的，可以通入氟气，使得该第一挡墙20与氟气发生自由基反应，以在该第一挡墙20的表面形成含氟离子材料的疏水层201。比如，氟烷基乙烯基二醇类、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟酰卤类或甲基丙烯酸氟烷基酯类等疏水材料中的一种。

在一些实施例中，该疏水层201可以是在形成第一挡墙20之后，通过化学气相沉积形成含氟离子材料层，然后再对含氟离子材料层进行蚀刻形成的。

第一无机层30覆盖衬底层10。并且，该第一无机层30暴露第一挡墙20。可以理解的是，该第一无机层30覆盖发光结构103。该第一无机层30可以保护发光结构103，以避免发光结构103受到外界的水汽或氧气的影响。

该第一无机层30的材料可以由疏水性较好的材料构成，比如氧化铝Al2O3、氮化铝AlN、氮氧化铝AlON、硅碳氮化物SiCN、氧化镁MgO、氧化钙CaO、氧化钨WOx、二氧化钛TiO2、氮化钛TiNx、氮化钛ZrO2、氮化锆ZrNx、氧化锌ZnO、五氧化二钽Ta2O5、二氧化铪HfO2、氮化铪HfNx、三氧化二铟In2O3、氧化铈CeOx或二氧化锆ZrO2等。

有机层40设置于第一无机层30上。并且，该有机层40位于衬底层10的显示区11。可以理解的是，该有机层40与第一挡墙20平齐。该有机层40主要可以起缓冲作用，用于减小第一无机层30与第二无机层60之间的应力。

可以理解的是，由于第一无机层30常常是有利于有机层40的扩展的。因此，可以在衬底层10上形成暴露第一挡墙20的第一无机层30。此时，可以直接由具有疏水层201的第一挡墙20与有机层40相接触。

具体的，有机层40具有一定的流动性，具有疏水层201的第一挡墙20可以将有机层40限定在挡墙20围绕的显示区域11内，避免有机层40蔓延而增大非显示区12的宽度。该第一挡墙20可以更好的避免水汽和氧气进入显示面板100内部，避免显示面板100被水汽或氧气腐蚀。

在一些实施例中，该显示面板100还可以包括第二挡墙50。该第二挡墙50可以设置于衬底层10和第一无机层30之间，并且围绕第一挡墙20设置。

具体的，该第二挡墙50可以用于支撑制作无机层41所用的掩膜版。并且，若在工艺过程中有机层40溢出了第一挡墙20围绕的显示区11，该第二挡墙50还可以起到进一步的阻挡作用，防止有机层40外延，有利于显示面板100的窄边框。

在一些实施例中，该第二挡墙50的材料可以为有机材料。比如有机硅材料，由于有机硅材料弹性模量小，弯折性能良好，显示面板100弯折时不易产生裂纹，可以提高显示面板100的耐弯折性能。并且有机硅材料含硅和氧，与无机膜层的粘附性较好，显示面板100弯折时，避免了无机膜层与第二挡墙50分离，进一步增强了该显示面板100的侧向阻水能力和耐弯折性能。

在一些实施例中，该显示面板100还可以包括第二无机层60。该第二无机层60覆盖所述第一无机层30、第一挡墙20和有机层40。该第二无机层60可以更好的避免水汽和氧气进入显示面板100内部，避免显示面板100被水汽或氧气腐蚀。

该第二无机层60的材料可以由疏水性较好的材料构成，比如氧化铝Al2O3、氮化铝AlN、氮氧化铝AlON、硅碳氮化物SiCN、氧化镁MgO、氧化钙CaO、氧化钨WOx、二氧化钛TiO2、氮化钛TiNx、氮化钛ZrO2、氮化锆ZrNx、氧化锌ZnO、五氧化二钽Ta2O5、二氧化铪HfO2、氮化铪HfNx、三氧化二铟In2O3、氧化铈CeOx或二氧化锆ZrO2等。

请参阅图3，本申请实施例还提供了一种显示面板的制造方法。该显示面板100的制造方法的具体流程可以如下：

301、提供一衬底层10，衬底层10包括显示区11和非显示区12。

302、在衬底层10上形成围绕显示区11的第一挡墙20，并对第一挡墙20进行疏水性处理。

303、在衬底层10上形成暴露所述第一挡墙20的第一无机层30。

304、在第一无机层30上形成有机层40，有机层40位于显示区11。

在一些实施例中，第一挡墙20的材料可以是有机材料。此时，可以该第一挡墙20进行氟化处理，以在该第一挡墙20的表面形成含氟离子材料的疏水层201。比如，氟烷基乙烯基二醇类、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟酰卤类或甲基丙烯酸氟烷基酯类等疏水材料中的一种。

具体的，可以通入氟气，使得该第一挡墙20与氟气发生自由基反应，以在该第一挡墙20的表面形成含氟离子材料的疏水层201。比如，氟烷基乙烯基二醇类、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟酰卤类或甲基丙烯酸氟烷基酯类等疏水材料中的一种。

在一些实施例中，该疏水层201可以是在形成第一挡墙20之后，通过化学气相沉积形成含氟离子材料层，然后再对含氟离子材料层进行蚀刻形成的。

由上可知，本申请实施例提供的显示面板100包括衬底层10、第一挡墙20、第一无机层30和有机层40；衬底层10包括显示区11和非显示区12；第一挡墙20设置于所述衬底层的非显示区，且围绕所述显示区设置，所述第一挡墙表面具有一疏水层；所述第一无机层覆盖所述衬底层，并且暴露所述第一挡墙；所述有机层设置于所述第一无机层上，且位于所述显示区。本方案通过在第一挡墙上设置一疏水层，可以有效的抑制有机层的边缘溢流现象。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制造方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底层，所述衬底层包括显示区和非显示区；

第一挡墙，所述第一挡墙设置于所述衬底层的非显示区，且围绕所述显示区设置，所述第一挡墙表面具有一疏水层；

第一无机层，所述第一无机层覆盖所述衬底层，并且暴露所述第一挡墙；

有机层，所述有机层设置于所述第一无机层上，且位于所述显示区。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一挡墙的材料为有机材料。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述疏水层的材料包括含氟烷基乙烯基二醇类、含氟烷基乙烯基二醇类、含氟酰卤类或甲基丙烯酸氟烷基酯类中的一种。

4.如权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述疏水层通过所述第一挡墙与氟气发生自由基反应形成。

5.如权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述疏水层通过化学气相沉积形成。

6.如权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一挡墙与所述有机层平齐。

7.如权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

第二挡墙，所述第二挡墙位于所述衬底层和所述第一无机层之间，所述第二挡墙围绕所述第一挡墙设置。

8.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第二挡墙的材料为有机材料。

9.如权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

第二无机层，所述第二无机层覆盖所述第一无机层、第一挡墙和所述有机层。

10.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一衬底层，所述衬底层包括显示区和非显示区；

在所述衬底层上形成围绕所述显示区的第一挡墙，并对所述第一挡墙进行疏水性处理；

在所述衬底层上形成暴露所述第一挡墙的第一无机层；

在所述第一无机层上形成有机层，所述有机层位于所述显示区。

Images