CN111223903A - 一种显示面板及其制造方法以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示面板、显示面板的制造方法和显示装置，该显示面板包括：基板；位于所述基板一侧的像素限定层，所述像素限定层包括多个间隔设置的通孔，所述通孔中设置有像素，所述通孔的至少一个侧壁上设有补充部，所述像素材料在所述补充部上的接触角小于25度，所述像素材料在所述像素限定层上的接触角大于60度。本发明实施例提供的一种显示面板，通过设置了像素限定层以及位于通孔的至少一个侧壁上的补充部，满足了喷墨打印的墨水对像素限定层和补充部不同位置处的润湿性不同的需求，从而有效避免像素间短路以及像素间混色等现象的发生，保证显示面板的发光效果。

Description

一种显示面板及其制造方法以及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制造方法以及显示装置。
背景技术
在显示面板过程制备中，由于喷墨打印(IJP，Ink-Jet Printing)技术具有工艺简单、成本低廉以及节省材料等优点，被用来制备RGB三原色像素。喷墨打印将有机发光材料(即喷墨打印中的墨水)直接滴涂到预先制备好的像素限定层所形成的通孔中，待墨水干燥后形成所需像素。现有技术中的喷墨打印方法形成的显示面板存在像素间短路和像素间混色等现象。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板以解决现有技术中像素间短路以及像素间混色的技术问题。
根据本发明的一个方面，本发明一实施例提供的一种显示面板，包括：基板；以及位于所述基板一侧的像素限定层，所述像素限定层包括多个间隔设置的通孔，所述通孔中设置有像素，所述通孔的至少一个侧壁上设有补充部，所述像素材料在所述补充部上的接触角小于25度，所述像素材料在所述像素限定层上的接触角大于60度。
在一个实施例中，所述像素限定层的材料包括负性光刻胶；所述补充部的材料包括正性光刻胶，两种材料廉价易得。
在一个实施例中，所述像素限定层和所述补充部靠近所述基板一侧的横截面积大于所述像素限定层和所述补充部背离所述基板一侧的横截面积。此种设置方式工艺上更容易的制备。
在一个实施例中，所述像素限定层的纵截面形状包括倒梯形，所述补充部的纵截面形状包括三角形。给出了像素限定层和补充部可能的一种实施方式。
在一个实施例中，所述像素限定层和所述补充部的厚度均大于等于0.5μm小于等于10μm。在避免像素混色的基础上减薄整体厚度。
在一个实施例中，所述补充部远离所述基板一侧到所述基板的距离小于等于所述像素限定层远离所述基板一侧到所述基板的距离。此种设置方式有利于避免像素间混色。
根据本发明的另一个方面，本发明一实施例提供的一种显示面板的制造方法，包括：提供基板；以及在所述基板的一侧形成像素限定层，所述像素限定层包括多个间隔设置的通孔；在所述通孔的至少一个侧壁上形成补充部；在所述通孔内制备多个像素；其中，所述像素材料在所述补充部上的接触角小于25度，所述像素材料在所述像素限定层上的接触角大于60度。
在一个实施例中，所述在所述基板的一侧形成像素限定层包括：在所述基板的一侧形成一整面的负性光刻胶膜层；以及对所述负性光刻胶膜层图形化处理形成包括多个间隔设置的通孔的像素限定层；所述在所述通孔的至少一个侧壁上形成补充部包括：在所述像素限定层背离所述基板的一侧填充正性光刻胶形成一整面的正性光刻胶膜层；以及对所述正性光刻胶膜层图形化处理形成在所述通孔至少一个侧壁上的补充部。
在一个实施例中，所述对所述负性光刻胶膜层图形化处理形成包括多个间隔设置的通孔的像素限定层包括：制备第一掩膜版，所述第一掩膜版包括多个第一开口，所述第一开口与所述像素限定层的形状相同；以及使用所述第一掩膜版，光照形成所述像素限定层；所述对所述正性光刻胶膜层图形化处理形成在所述通孔至少一个侧壁上的补充部包括：制备第二掩膜版，所述第二掩膜版包括多个第二开口与多个第三开口，所述第二开口与所述像素限定层的形状相同；所述第三开口与所述通孔的形状相同；以及使用所述第二掩膜版，光照形成所述补充部。
根据本发明的又一个方面，本发明一实施例提供的一种显示装置，包括：前述任一所述的显示面板。
本发明实施例提供的一种显示面板，通过设置了像素限定层以及位于通孔的至少一个侧壁上的补充部，由于像素材料在补充部上的接触角小于25度，像素材料在像素限定层上的接触角大于60度，因此像素材料对补充部的润湿性高，对像素限定层的润湿性低，两者相结合满足了像素材料对通孔的侧壁以及与通孔相连的像素限定层的上壁的润湿性的不同需求。从而有效避免像素间短路以及像素间混色等现象的发生，进而保障显示面板的具有良好显示发光效果。
附图说明
图1所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
图2所示为本发明一实施例提供的一种显示面板中的像素限定层和补充部的结构示意图。
图3所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图。
图4所示为本发明一实施例提供的另一种显示面板的制造方法的流程示意图。
图5所示为本发明一实施例提供的再一种显示面板的制造方法的流程示意图。
具体实施方式
正如背景技术所述，现有技术中存在像素间短路以及像素间混色的技术问题。出现这种问题的原因在于如下。利用喷墨打印技术制备像素时，像素限定层用于限制墨水(像素材料)流动区域。由于墨水具有流动性在通孔中时，不同颜色像素的墨滴容易外溢。如果墨水在像素限定层上壁具有润湿性，则不同颜色像素的墨滴会容易混色。因此需要像素限定层上壁去润湿性。由于墨水滴落在通孔之后会进行烘干，如果墨水在像素限定层侧壁的润湿性低，墨水在通孔的边缘处可能未铺满，未铺满通孔的墨水在干燥过后所成的薄膜无法完全填充通孔，则会造成像素短路。因此需要像素限定层侧壁润湿以保证墨滴可以在通孔中均匀铺满。理想的像素限定层需要侧壁润湿，上壁去润湿。但现有技术中的像素限定层仅使用单一材料，无法实现墨水对像素限定层侧壁润湿、墨水对像素限定层上壁去润湿的效果，容易出现像素间短路以及像素间混色等问题。
为了解决上述问题，发明人研究发现，通过设置像素限定层以及位于通孔的至少一个侧壁上的补充部，由于像素材料在补充部上的接触角小于25度，像素材料在像素限定层上的接触角大于60度，因此补充部的润湿性高，像素限定层的润湿性低，两者相结合满足了墨水对通孔的侧壁以及与通孔相连的像素限定层的上壁的润湿性的不同需求。从而有效避免像素间短路以及像素间混色等现象的发生，进而保障显示面板的具有良好显示发光效果。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图1所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图1所示，包括：基板1；位于基板1一侧的像素限定层2，像素限定层2包括多个间隔设置的通孔3，通孔3中设置有像素4，通孔3的至少一个侧壁上设有补充部5，像素材料在补充部5上的接触角小于25度，像素材料在像素限定层2上的接触角大于60度。
可知的，像素材料即为喷墨打印技术制备像素时所用到的墨水，此处的接触角也是针对墨水而言。
本发明实施例中，通过设置像素限定层2以及位于通孔3的至少一个侧壁上的补充部5，满足通孔3的侧壁以及与通孔3相连的像素限定层2的上壁对润湿性不同的需求。由于像素材料在补充部5上的接触角小于25度，像素材料在像素限定层2上的接触角大于60度，所以使得通孔3的侧壁的润湿性高，与通孔3相连的像素限定层2的上壁的润湿性低，使得墨水在通孔3内能够在边缘处铺满，且在与通孔3相连的像素限定层2的上壁不易外溢，从而有效避免像素4间短路以及像素4间混色等现象的发生，进而保障显示面板的具有良好显示发光效果。
具体而言，润湿，即浸润，液体对固体的润湿是指：固体内部存在毛细管，因为毛细作用液体会吸附在固体表面甚至渗透到固体的内部。去湿润与湿润是两种互斥的现象，去湿润是指液体不会吸附在固体表面和液体更不会渗透到固体的内部。像素限定层2和通孔3的润湿性是指像素限定层2和通孔3对墨滴的吸附能力。
应当理解，基板1可以是包括依次层叠的衬底基板1、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)层以及阴极层的多层机构。当然，该基板1还可以包括平坦化层、钝化层等膜层的多层结构，本发明实施例对基板1的具体结构不做限定。
还应当理解，像素4具体可以包括依次叠加的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、有机材料发光层(EML)、电子传输层(ETL)以及电子注入层(EIL)。像素4只要可以实现显示发光即可，本发明对像素4的具体结构不做限定。像素4显示的颜色可以是红色、黄色以及蓝色中的任何一中颜色，本发明实施例对每个像素4所显示的颜色不做具体限定。
在一个实施例中，像素材料在补充部5上的接触角为0-25度，像素材料在像素限定层2上的接触角为60-180度，在这个范围内，能更加有效避免像素4间短路以及像素4间混色等现象的发生。
在一个实施例中，像素限定层2的材料包括负性光刻胶；补充部5的材料包括正性光刻胶。本发明实施例中，采用去润湿的负性光刻胶作为像素限定层2的材料，采用润湿的正性光刻胶作为补充部5的材料，实现通孔3侧壁对墨水润湿，与通孔3相连的像素限定层2的上壁对墨水去润湿的效果，避免出现像素4间短路以及像素4间混色等现象。
应当理解，负性光刻胶氟元素(F)含量较多，具有较低的表面能，对喷墨打印墨水去润湿。正性光刻胶氟元素(F)含量较低，具有较高的表面能，对喷墨打印墨水去润湿。
图2所示为本发明一实施例提供的一种显示面板中的像素限定层和补充部的结构示意图。如图2所示，像素限定层2和补充部5靠近基板1一侧的横截面积大于像素限定层2和补充部5背离基板1一侧的横截面积，可知的，横截面即为沿平行于基板1的方向上的平面的截面图，如此设置，更有利于墨滴在通孔3中的扩散，避免墨滴不均匀分散造成的干燥后像素4填不满通孔3，有效减少像素4间发生短路的情况。
可知的，通孔3的至少一个侧壁上设有补充部5，可以在通孔3的所有侧壁上设有补充部5，也可以选择部分侧壁设置补充部5。通孔3的横截面可以是四边形、多边形、圆形或多边形，可根据实际需求进行设置，当通孔3的横截面为圆形时，可选择部分侧壁上设有补充部5。
应当理解，像素限定层2和补充部5的纵截面可以是正梯形的，则通孔3的纵截面是倒梯形的，可知的，纵截面即为沿垂直于基板1厚度的方向上的平面的截面图。
在一个实施例中，图如2所示，像素限定层2的纵截面形状包括倒梯形，补充部5的纵截面形状包括三角形。纵截面为倒梯形的像素限定层2与纵截面为三角形的补充部5相结合，是最容易实现，也是最稳定的组合结构，该组合结构互相适配且缝隙较少，既能保证像素限定层2的上壁与补充部5的侧壁润湿性不同，又能避免墨滴进入缝隙造成的有机发光材料浪费。本发明实施例对像素限定层2和补充部5具体配合情况不做限定。
在一个实施例中，通孔3呈阵列排布，像素4设置在通孔3内，即像素4阵列排布，这种设置方式可以使显示面板的显示发光更加均匀。
在一个进一步实施例中，像素限定层2和补充部5的厚度均大于等于0.5μm小于等于10μm。像素限定层2和补充部5太厚会影响整体厚度，像素限定层2和补充部5太薄无法限制墨滴外溢。像素限定层2和补充部5的厚度设置在此范围内，既能有效阻挡墨水外溢，又不会增加整体厚度。
在一个进一步实施例中，补充部5远离基板1的一侧到基板1的距离小于等于像素限定层2远离基板1的一侧到基板1的距离。可知的，当补充部5远离基板1的一侧到基板1的距离等于像素限定层2远离基板1的一侧到基板1的距离时，补充部5远离基板1的一侧的横截面积远小于补充部5靠近基板1的一侧的横截面积，如补充部5的纵截面为正三角形，如此设置可有效避免像素间混色的问题。
根据本发明的另一个方面，图3所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程示意图。如图3所示，制造方法包括如下步骤。
步骤301：提供基板；
步骤302：在基板的一侧形成像素限定层，像素限定层包括多个间隔设置的通孔，在所述通孔的至少一个侧壁上形成补充部；
步骤303：在通孔内制备多个像素。
本发明实施例中，在基板的一侧分别制备像素限定层以及在通孔的至少一个侧壁上形成补充部。由于像素材料在补充部上的接触角小于25度，像素材料在像素限定层上的接触角大于60度，补充部的润湿性高，即通孔的润湿性高，像素限定层的润湿性低，即与通孔相连的像素限定层的上壁的润湿性低，从而有效避免像素间短路以及像素间混色等现象的发生，进而保障显示面板的具有良好显示发光效果。
图4所示为本发明一实施例提供的另一种显示面板的制造方法的流程示意图。如图4所示，步骤302包括：
步骤3021：在基板的一侧形成一整面的负性光刻胶膜层；
具体而言，负性光刻胶对墨水去润湿，可以作为像素限定层的材料，在基板的一侧形成一整面的负性光刻胶膜层。
应当理解，负性光刻膜层可以通过涂布等方式制备，应当理解，只要负性光刻胶形成一整面的膜层即可，本发明实施例对负性光刻胶膜层的具体制备方法不做限定。
步骤3022：对负性光刻胶膜层图形化处理形成包括多个间隔设置的通孔的像素限定层；
具体而言，图形化处理就是处理负性光刻胶膜层以在负性光刻胶膜层图形成需要获得的图案。对负性光刻胶膜层图形化处理形成包括多个间隔设置的通孔的像素限定层。
应当理解，负性光刻胶见光部分被保留，而不见光部分被溶解，可以通过掩膜版与光照对负性光刻胶膜层进行图形化。
步骤3023包括：在像素限定层背离基板的一侧填充正性光刻胶形成一整面的正性光刻胶膜层；
具体而言，在基板上形成像素限定层之后，在像素限定层背离基板的一侧填充正性光刻胶形成一整面的正性光刻胶膜层，像素限定层之间有通孔，而正性光刻胶膜层应该具有突出部，突出部填充通孔，正性光刻胶膜层背离基板的一侧是平整的。
应当理解，正性光刻膜层可以通过涂布等方式制备，应当理解，只要正性光刻胶形成一整面的膜层即可，本发明实施例对正性光刻胶膜层的具体制备方法不做限定。
步骤3024：对正性光刻胶膜层图形化处理形成在所述通孔至少一个侧壁上的补充部。
具体而言，对正性光刻胶膜层图形化处理形成在所述通孔至少一个侧壁上的补充部。
应当理解，正性光刻胶见光部分被溶剂，而不见光部分被保留，可以通过掩膜版与光照对正性光刻胶膜层进行图形化。
本发明实施例中，通过图形化正性光刻胶膜层与负性光刻胶膜层，形成去湿润的像素限定层的以及润湿的补充部。避免出现像素间短路以及像素间混色等现象。
图5所示为本发明一实施例提供的再一种显示面板的制造方法的流程示意图。如图5所示，步骤3022包括：
步骤30221：制备第一掩膜版，第一掩膜版包括多个第一开口，第一开口与像素限定层的形状相同；
应当理解，第一掩膜版只要具有与像素限定层的形状相同的第一开口即可，本发明实施例对制备第一掩膜版的具体方法以及制备第一开口的具体方法不做限定。
步骤30222：使用第一掩膜版，光照形成像素限定层。
具体而言，第一掩膜版开口的部分可以通过光照，其他部分不能通过光照。负性光刻胶见光部分被保留，而不见光部分被溶解。负性光刻胶膜层上与第一开口对应的部分被保留，其余部分被溶解，从而形成像素限定层。
本发明实施例中，通过第一掩膜版上与像素限定层的形状相同的第一开口，利用光照照射第一掩膜版，将负性光刻胶膜层上与像素限定层对应的部分保留。从而形成对墨滴去润湿的像素限定层。
在一个进一步实施例中，如图5所示，步骤3024包括：
步骤30241：制备第二掩膜版，第二掩膜版包括多个第二开口与多个第三开口，第二开口与像素限定层的形状相同；第三开口与通孔的形状相同。
应当理解，第二掩膜版只要具有与像素限定层的形状相同的第二开口和与通孔的形状相同的第三开口即可，本发明实施例对制备第二掩膜版的具体方法以及制备二开口和第三开口的具体方法不做限定。
步骤30242：使用第二掩膜版，光照形成补充部。
具体而言，第二掩膜版开口的部分可以通过光照，其他部分不能通过光照。正性光刻胶见光部分被溶剂，而不见光部分被保留。正性光刻胶膜层上进剩余补充部。从而形成对墨滴润湿的补充部。
本发明实施例中，通过第二掩膜版上与像素限定层的形状相同的第二开口，和第二掩膜版上与通孔的形状相同的第三开口，利用光照将正性光刻胶膜层上与像素限定层以及通孔对应的位置溶解掉，正性光刻胶膜层留下的部分形成补充部。从而形成对墨滴润湿的补充部。
在一个实施例中，第二掩膜版可以在第一掩膜版上继续制备得到，在第一掩膜版上再次开设第三开口即可得到第二掩膜版。如此设置可以节省材料。
根据本发明的另一方面，本发明一实施例提供的一种显示装置，包括：前述任一的显示面板。
本发明实施例中，通过采用上述显示面板构造显示装置，由于显示面板的像素限定层的润湿性低，补充部的润湿性高，从而有效避免像素间短路以及像素间混色等现象的发生，进而保障显示装置的具有良好显示发光效果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；以及
位于所述基板一侧的像素限定层，所述像素限定层包括多个间隔设置的通孔，所述通孔中设置有像素，所述通孔的至少一个侧壁上设有补充部，所述像素材料在所述补充部上的接触角小于25度，所述像素材料在所述像素限定层上的接触角大于60度。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层的材料包括负性光刻胶；所述补充部的材料包括正性光刻胶。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层和所述补充部靠近所述基板一侧的横截面积大于所述像素限定层和所述补充部背离所述基板一侧的横截面积。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层的纵截面形状包括倒梯形，所述补充部的纵截面形状包括三角形。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层和所述补充部的厚度均大于等于0.5μm小于等于10μm。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述补充部远离所述基板一侧到所述基板的距离小于等于所述像素限定层远离所述基板一侧到所述基板的距离。
7.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：
提供基板；以及
在所述基板的一侧形成像素限定层，所述像素限定层包括多个间隔设置的通孔；
在所述通孔的至少一个侧壁上形成补充部；
在所述通孔内制备多个像素；
其中，所述像素材料在所述补充部上的接触角小于25度，所述像素材料在所述像素限定层上的接触角大于60度。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制造方法，其特征在于，
所述在所述基板的一侧形成像素限定层包括：
在所述基板的一侧形成一整面的负性光刻胶膜层；以及
对所述负性光刻胶膜层图形化处理形成包括多个间隔设置的通孔的像素限定层；
所述在所述通孔的至少一个侧壁上形成补充部包括：
在所述像素限定层背离所述基板的一侧填充正性光刻胶形成一整面的正性光刻胶膜层；以及
对所述正性光刻胶膜层图形化处理形成在所述通孔至少一个侧壁上的补充部。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制造方法，其特征在于，
所述对所述负性光刻胶膜层图形化处理形成包括多个间隔设置的通孔的像素限定层包括：
制备第一掩膜版，所述第一掩膜版包括多个第一开口，所述第一开口与所述像素限定层的形状相同；以及
使用所述第一掩膜版，光照形成所述像素限定层；
所述对所述正性光刻胶膜层图形化处理形成在所述通孔至少一个侧壁上的补充部包括：
制备第二掩膜版，所述第二掩膜版包括多个第二开口与多个第三开口，所述第二开口与所述像素限定层的形状相同；所述第三开口与所述通孔的形状相同；以及
使用所述第二掩膜版，光照形成所述补充部。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1-6任一项所述的显示面板。
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