CN111168564A - 研磨清洁的改良装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种研磨清洁的改良装置，其系包括有一载台及研磨组件，载台系具有一平面用于承载一产品，研磨组件系设置于产品之上方，并具有一转轴，转轴之一端系设置有一无尘布，当转轴旋转时，系通过无尘布对该产品进行研磨清洁，本发明所揭露之载台系同时设计有一正压区与一负压区，其中，正压区系对应设置于产品之外轮廓，负压区系对应设置于载台之中心区域，以真空吸附产品。本发明系藉由在产品之外轮廓附近形成有一气墙，并且通过所形成之气墙，达到阻绝清洁过程中无尘布内溶剂的渗入，并避免该溶剂污染产品，有效提升产品的清洁良率。

Description

研磨清洁的改良装置

技术领域

本发明系有关于一种研磨清洁装置，特别是一种设计有正负压一体之承载平台结构的研磨清洁改良装置。

背景技术

一般而言，现有技术在研磨清洁过程中，产品依靠载台真空吸附而进行清洁时，含溶剂的无尘布在产品与研磨对象的挤压下，常会导致溶剂的渗出，并且在载台真空吸附的情况下，使得溶剂会沿着产品的非清洁面，而吸附到载台中的真空腔(vacuum cavity)，在产品取片载台转正压时，溶剂从真空腔吹到产品的非清洁面，进而造成对产品的污染，而大大地影响到产品的可靠度(reliability)、品质(quality)甚至功能(function)。

举例来说，一现有技术有揭露一种玻璃基板支撑平台和玻璃基板宏观检查装置，其中，玻璃基板支撑平台包括框架，并排设置在所述框架上的多根横梁、以及连接在所述横梁上的多个吸盘。另有一现有技术揭露一种无接触输运与定位平台装置及控制方法，该装置包括运输平台、位于运输平台下方的固定平台、以及位于固定平台下方的基座。其中，所述的固定平台通过固定平台支撑与基座连接，并且在运输平台上设有若干个凹槽。值得注意的是，上述目前已知的这些现有技术，皆系仅仅教示出习见常用的真空吸盘，其系仅是以常见的吸嘴来替代真空孔，藉此达到减少产品接触面积的目的。甚或，现有技术是利用非接触式的运输平台，依靠正压支撑产品移载。然而，以实际的应用层面看来，这些现有的技术方案皆对提升实际产品的可靠度、品质、或功能等良率方面并无有效且显著的贡献。

是以，有鉴于此，本发明人系有感于上述缺失之可改善，且依据多年来从事此方面之相关经验，悉心观察且研究之，并配合学理之运用，而提出一种设计新颖且有效改善上述缺失之本发明，其系揭露一种具有正负压一体之承载平台结构的研磨清洁改良装置，其具体之架构及实施方式将详述于下。

发明内容

为解决习知技术存在的问题，本发明之一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，其系针对现行的研磨清洁装置设计作一改良，相较于习知结构，此种新颖的研磨清洁改良装置系有助于提供较佳的产品清洁质量并有效提升其产品良率。

本发明之又一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，其系藉由在承载产品的平台上同时形成一正压区与一负压区，以在邻近产品之外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中无尘布内的溶剂之渗入，由此避免该溶剂污染产品，达到有效提升产品的清洁良率之目的。

本发明之再一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，利用此种研磨清洁的改良装置，仅需通过此正负压一体的载台设计，一方面可利用其中心区域的负压区吸附产品，同时开启正压，以在产品的外轮廓附近形成气墙，目前已知本发明可广泛应用于大部分的研磨清洁相关产业，具有极高的产业应用性。

鉴于以上，本发明系揭露一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率。此种研磨清洁的改良装置包括有：一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及一研磨组件，其系设置于产品之上方，以透过所述的研磨组件对该产品进行清洁，其中，载台系同时设计有一正压区与一负压区，所述的正压区系对应设置于该产品之外轮廓，负压区系对应设置于该载台之中心区域。

详细而言，本发明所揭露之研磨组件系具有一转轴，该转轴之一端系设置有一无尘布，因此，当转轴旋转时，研磨组件便可通过所述的无尘布接触产品，以对产品进行研磨清洁。其中，无尘布中系溶有清洁该产品用的溶剂。

缘此，本发明主要系藉由在其载台设计有对应产品外轮廓的正压区，以在产品之外轮廓附近形成所述的气墙，并且通过该气墙阻绝清洁过程中无尘布内的溶剂渗入并污染该产品。

根据本发明之一实施例，其中，所述的正压区系邻近成形于产品之侧边，且落在其外轮廓之内。

正压区系可包含有复数个正压孔，以通过该些正压孔开启正压。

举例而言，正压区的范围例如可为一环型槽。

另一方面而言，根据本发明之一实施例，其中，所述的负压区系可包含复数个真空孔，并通过该些真空孔开启负压，并吸附产品。

是以，藉由此等新颖的创新设计，本发明所揭露之研磨清洁的改良装置，自然可利用其正压区所形成的气墙，阻绝溶剂的渗入与污染，由此解决先前技术中所存在的缺失，并提升产品的清洁质量及其良率。

更进一步而言，所述的正压区系连接有一第一气压源，此第一气压源可包含有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制正压的开关与大小。其中，此第一气压源与所述的正压区之间系具有至少一进气软管，以透过该进气软管提供正压。

同样地，所述的负压区亦可选择性地连接至一第二气压源，此第二气压源可包含有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制负压的开关与大小。其中，所述的第二气压源与负压区之间可具有至少一出气软管，以透过该出气软管提供负压。

以下，本发明系藉由具体实施例配合所附的附图详加说明，当可使本领域之人士更容易了解本发明之目的、技术内容、特点及其所达成之功效。

附图说明

图1系为根据本发明一实施例研磨清洁的改良装置之结构示意图。

图2系为根据本发明一实施例之正负压一体的载台结构之侧视图。

图3系为根据本发明一实施例之正负压一体的载台结构之上视图。

图4系为根据本发明第3图所示之载台用以承载产品后之示意图。

图5系为根据本发明一实施例具有正压孔及真空孔之正负压一体的载台结构之示意图。

附图标记：

10 载台

12 平面

20 产品

22 正压区

24 负压区

30 研磨组件

31 转轴

33 无尘布

44 真空孔

55 正压孔

具体实施方式

以上有关于本发明的内容说明，与以下的实施方式系用以示范与解释本发明的精神与原理，并且提供本发明的专利申请范围更进一步的解释。有关本发明的特征、实作与功效，兹配合附图作较佳实施例详细说明如下。

为了有效解决先前技术所提，由于现有技术在产品的研磨清洁过程中，多因清洁溶剂的渗出而造成产品的污染；促使本发明遂针对此目标提出一种较佳的改良设计，其系为一种研磨清洁的改良装置。其中，为了能更佳地理解本发明所述之技术内容，首先，请先参阅图1 所示结构，其系为根据本发明一实施例研磨清洁的改良装置之结构示意图，如图所示，此研磨清洁的改良装置系包括一载台10，该载台10系具有一平面12，可用于承载一产品20，一研磨组件30系设置于产品20之上方，研磨组件30具有一转轴31，转轴31之一端系设置有一无尘布33，无尘布33中系溶有用以清洁产品20用的一溶剂(solvent)。因此，当转轴31 开始旋转时，研磨组件30便可通过该溶有溶剂的无尘布33接触于该产品20，并对产品20进行研磨清洁。

为了避免溶剂在研磨清洁过程中对产品造成污染，本发明系设计载台10系为一种具有正负压一体的改良结构，请一并参阅图2至图4所示结构之示意图，其中，图2系为根据本发明一实施例之正负压一体的载台结构之侧视图，图3系为根据本发明一实施例之正负压一体的载台结构之上视图，图4系为根据图3所示之载台用以承载产品后之示意图；本发明系根据该等图示据此进行详细之说明，其系揭露如下。

首先，如该些附图所绘制，本发明所揭露之载台10系同时具有一正压区22与一负压区 24，该正压区22系对应设置于产品20之外轮廓，并且，正压区22系邻近成形于产品20之侧边，且落在其产品外轮廓(如图4中较粗实线所示区域)之内。负压区24则系对应设置于该载台10之中心区域。

其中，图5系为根据本发明实施例具有正压孔及真空孔之正负压一体的载台结构之示意图。请配合参见本发明图3、图4及图5所示，其中，正压区22的设置范围例如可为一环型槽(groove)，并且如图5所示，该正压区22的环形槽内亦可包含有复数个正压孔55，以经由这些正压孔55提供正压。在本发明之一实施例中，一般而言，正压区22系连接一第一气压源，且第一气压源与该正压区22之间系具有至少一进气软管，以透过该进气软管提供正压。除此之外，此第一气压源中更可包含有至少一电磁阀或调压阀，以利用此电磁阀或调压阀控制正压气源的开关与正压数值的大小。

藉由此设计，本发明所设计的正压区22便可在产品20之外轮廓附近形成有一气墙，并藉由此气墙阻绝清洁过程中溶剂渗入并污染产品的问题发生。

另一方面而言，如图5所示，载台10中系同时设计有负压区24，并在该负压区24中提供有复数个真空孔44，以通过该些真空孔44开启负压，并吸附住产品20。根据本发明之实施例，一般而言，负压区24系连接一第二气压源，且第二气压源与该负压区24之间系具有至少一出气软管，以透过该出气软管提供负压以完成吸附产品20。除此之外，此第二气压源中亦可选择性地包含有至少一电磁阀或调压阀，以利用此电磁阀或调压阀控制负压气源的开关与负压数值的大小。

职故，本发明便可利用此正负压一体的载台设计，在产品的外轮廓附近形成气墙，消弭在真空下溶剂渗入产品的缺失产生，当产品放置到载台上时，载台一方面可利用其中心区域的负压区吸附产品，同时开启正压，以在产品的外轮廓附近形成气墙，达到避免溶剂渗入并影响产品的优化功效，惟值得在此说明的是，本发明前述所举，正压区设计为一环型槽之实施态样，乃为根据本发明技术思想之一示性例，而并非用以限制本发明之技术范畴。换言之，根据本发明所教示之技术方案，本领域具通常知识者当可在其实际实施层面上自行变化其正压区之设计形状、范围、甚或长宽尺寸，而皆应隶属于本发明之发明范围。本发明在前述段落中所列举出之示性例，其目的是为了善加解释本发明主要之技术特征，而使本领域人员可理解并据以实施之，唯本发明当不以该示性例为限。

鉴于以上所述，可明显观之，相较于习知技术，本发明所揭露之新颖的研磨清洁的改良装置系可有效解决先前技术中常发生溶剂渗入而产生产品损耗或腐蚀现象等缺失，可大幅度且有效率的提升产品的清洁良率。根据本发明所教示之技术方案，其系藉由在载台上对应产品外轮廓的区域形成正压区，以形成气墙，并通过该气墙的优化设计，实现本发明较优化之发明功效。

Claims (11)

1.一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率，其特征在于，该改良装置系包括：

一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及

一研磨组件，其系设置于该产品之上方，以透过该研磨组件对该产品进行清洁，其中，该载台系具有一正压区与一负压区，该正压区系对应设置于该产品之外轮廓，该负压区系对应设置于该载台之中心区域，以在该产品之该外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中一溶剂渗入并污染该产品。

2.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系包括复数个正压孔，以通过该些正压孔开启正压。

3.如权利要求2所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系邻近成形于该产品之侧边，且落在该外轮廓之内。

4.如权利要求2所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区的范围系为一环型槽。

5.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该负压区系包括复数个真空孔，以通过该些真空孔开启负压，并吸附该产品。

6.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系连接一第一气压源，该第一气压源具有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制正压的开关与大小。

7.如权利要求6所述之研磨清洁的改良装置，其中，该第一气压源与该正压区之间系具有至少一进气软管，以透过该进气软管提供正压。

8.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该负压区系连接一第二气压源，该第二气压源具有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制负压的开关与大小。

9.如权利要求8所述之研磨清洁的改良装置，其中，该第二气压源与该负压区之间系具有至少一出气软管，以透过该出气软管提供负压。

10.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该研磨组件系具有一转轴，该转轴之一端系设置有一无尘布，当该转轴旋转时，系通过该无尘布接触该产品，以对该产品进行研磨清洁。

11.如权利要求10所述之研磨清洁的改良装置，其中，该无尘布中系溶有清洁该产品用的该溶剂。

Images