CN111142696B - 一种可弯折触控屏 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种可弯折触控屏，所述触控屏包括功能区以及布线区，所述功能区包括基材，以及层叠于基材表面的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括凹陷结构，所述凹陷结构内部设置有第一金属层，所述第一绝缘层以及第一金属层表面层叠有第二绝缘层，所述第二绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述第二绝缘层凹陷结构内部以及表面分别独立地层叠有第二金属层，所述第二金属层表面层叠有保护层，所述保护层包括凹陷结构；所述布线区包括基材层，以及由基材层表面依次层叠的第一绝缘层、第三金属层以及保护层，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层分别独立地包括凹陷结构。所述触控屏具有优异的可弯折性能。
Description
技术领域
本发明属于显示技术领域，涉及一种触控屏，尤其涉及一种可弯折触控屏。
背景技术
目前，有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)柔性显示设备的开发成为研究热点中的明星。对应的，各组件的耐弯折性能的开发面临着较大的挑战。触控面板作为人机交互的介质，要求其在显示屏实现自由的外形后(如弯折或者卷曲)，触控功能不受到影响。因此，如何释放弯折过程中产生的机械应力就显得尤为重要。
CN 106601133 A公开了一种柔性显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有柔性显示面板中，无机膜层容易因为频繁弯折而产生裂痕甚至断裂的问题。柔性显示面板包括：柔性基底、依次设置在柔性基底上的无机绝缘层、有机绝缘层和源漏极层；柔性显示面板包括弯折区域；无机绝缘层在弯折区域形成凹槽；有机绝缘层至少完全覆盖凹槽的表面，且有机绝缘层的弯折能力大于无机绝缘层。在无机绝缘层的弯折区域形成凹槽，并在弯折区域的凹槽上增加了弯折能力比无机绝缘层强的有机绝缘层，减薄了无机膜层，因而可以防止无机膜层因为频繁弯折而产生裂痕甚至断裂，从而提高器件的信赖性和寿命。
CN 108231800 A公开了一种柔性显示面板及其制备方法、显示装置，涉及柔性显示技术领域，可降低柔性显示面板弯折时信号引出线位于弯折区域内的部分上受到的竖直方向上的应力，避免信号引出线在弯折时发生断裂，提高产品弯折后的良率。该柔性显示面板，包括：柔性衬底基板；所述柔性衬底基板包括：第一表面；所述第一表面划分有弯折区域；所述第一表面在所述弯折区域内具有多个凸起；位于所述第一表面上方且穿过所述弯折区域的信号引出线。用于柔性显示面板及包括该柔性显示面板的显示装置的制备。
发明内容
针对现有技术中存在的技术问题，本发明提供一种可弯折触控屏，所述触控屏具有优异的可弯折性能。
为达上述目的，本发明采用以下技术方案：
本发明提供一种可弯折触控屏，所述触控屏包括功能区以及布线区，所述功能区包括基材，以及层叠于基材表面的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述凹陷结构内部设置有第一金属层，所述第一绝缘层以及第一金属层表面层叠有第二绝缘层，所述第二绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述第二绝缘层包括至少一个贯穿第二绝缘层的通道，所述第二绝缘层凹陷结构内部、通道内部以及表面分别独立地层叠有第二金属层，所述第二金属层表面层叠有保护层，所述保护层包括至少一个凹陷结构，且所述第二绝缘层以及保护层的凹陷结构与所述第一绝缘层的凹陷结构在垂直于触控屏方向位置相同；所述布线区包括基材层，以及由基材层表面依次层叠的第一绝缘层、第三金属层以及保护层，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层分别独立地包括至少一个凹陷结构，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层的凹陷结构在垂直于触控屏方向位置相同。
作为本发明优选的技术方案，所述基材层原料包括PET或CPI；
优选地，所述基材层的厚度不大于50μm，如5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm或50μm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第一绝缘层、第二绝缘层以及第三绝缘层的原料分别独立地包括有机光阻。
作为本发明优选的技术方案，所述第一绝缘层、第二绝缘层以及第三绝缘层的厚度分别独立地不大于1μm，如0.01μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.5μm、0.8μm或1μm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第一绝缘层以及第二绝缘层的凹陷结构的深度分别独立地不大于所述第一绝缘层以及第二绝缘层的厚度。
作为本发明优选的技术方案，所述第一金属层以及第二金属层的原料分别独立的包括ITO、Metal Mesh或AgNW中的任意一种；
优选地，第三金属层的原料包括Ag、Cu、Ti/Al/Ti或Mo/Al/Mo中的任意一种。
作为本发明优选的技术方案，所述第一金属层以及第二金属层的厚度分别独立地不大于200nm，如10nm、20nm、50nm、80nm、100nm、120nm、150nm、180nm或200nm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地，第三金属层的厚度不大于10μm，如1μm、5μm、7μm或10μm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第三金属层的凹陷结构的深度不大于所述第一绝缘层的厚度。
作为本发明优选的技术方案，所述保护层的厚度不大于2μm，如如0.01μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.3μm、0.5μm、0.8μm、1μm、1.2μm、1.5μm、1.8μm或2μm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述保护层的凹陷结构的深度不大于所述保护层的厚度。
与现有技术方案相比，本发明至少具有以下有益效果：
本发明提供一种可弯折触控屏，所述触控并具有凹陷结构，可以实现屏幕的弯折，提高了屏幕的弯曲性能，同时保留了弯折区域的功能性能。
附图说明
图1是本发明提供一种可弯折触触控屏的功能区的结构示意图；
图2是本发明提供一种可弯折触触控屏的布线区的结构示意图。
附图标记：1-基材，2-第一绝缘层，3-第一金属层，4-第二绝缘层，5-第二金属层，6-保护层，7-第三金属层。
下面对本发明进一步详细说明。但下述的实例仅仅是本发明的简易例子，并不代表或限制本发明的权利保护范围，本发明的保护范围以权利要求书为准。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
本发明提供一种可弯折触触控屏，所述触控屏包括功能区以及布线区。所述功能区的制备方法为，在基材表面涂布绝缘材料，通过黄光工艺，在绝缘材料表面形成凹陷结构，形成第一绝缘层，再使用PVD或涂布工艺将导电材料形成于第一绝缘层的凹陷内部，形成第一金属层，使用涂布工艺在第一绝缘层和第一金属层的表面涂布绝缘材料，得到第二绝缘层，通过黄光工艺在第二绝缘层上形成贯穿第二绝缘层的通道，使用PVD或涂布工艺将导电材料形成于第二绝缘层的表面、凹陷内部以及通道内部，且凹陷内部与第二绝缘层表面的导电材料并不连续，得到第二金属层，第二金属层与第一金属层通过第二绝缘层通道相连，再使用涂布工艺在第二金属层涂布绝缘材料得到保护层。
所述布线区的制备方法为，在基材表面涂布绝缘材料，通过黄光工艺，在绝缘材料表面形成凹陷结构，形成第一绝缘层，功能区和布线区第一绝缘层同时制作，使用PVD或镭射工艺将导电材料沉积或涂布于第一绝缘层的凹陷内部，形成第三金属层，再使用涂布工艺在第三金属层涂布绝缘材料得到保护层。本发明中，所述功能区与布线区的基底为同一基底，且功能区与布线区的保护层可以同时制备。
本发明首先黄光工艺在第一绝缘层表面形成凹陷结构，在于绝缘层上方依次设置其他结构，主要采用PVD或涂布工艺，上述工艺可以得到厚度均匀的膜层，即处于凹陷区域的材料厚度与处于表面区域的厚度基本相同，当其厚度小于凹陷结构深度时即可自然得到凹陷结构，因此，在第一绝缘层上方的其他结构也可以得到凹陷结构，凹陷结构的深度与第一绝缘层的凹陷结构的深度以及各层厚度有关。而布线区的凹陷形成原理与功能区相同。
本发明中，凹陷结构的横截面可以为矩形、梯形或弧形等，可以通过黄光工艺的参数进行调整，调整方法为本领域常规操作，于此不再赘述。
为更好地说明本发明，便于理解本发明的技术方案，本发明的典型但非限制性的实施例如下：
本发明具体实施方式部分提供一种可弯折触触控屏，所述触控屏包括功能区以及布线区，所述功能区包括基材，以及层叠于基材表面的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述凹陷结构内部设置有第一金属层，所述第一绝缘层以及第一金属层表面层叠有第二绝缘层，所述第二绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述第二绝缘层包括至少一个贯穿第二绝缘层的通道，所述第二绝缘层凹陷结构内部、通道内部以及表面分别独立地层叠有第二金属层，所述第二金属层表面层叠有保护层，所述保护层包括至少一个凹陷结构，且所述第二绝缘层以及保护层的凹陷结构与所述第一绝缘层的凹陷结构在垂直于触控屏方向位置相同；所述布线区包括基材层，以及由基材层表面依次层叠的第一绝缘层、第三金属层以及保护层，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层分别独立地包括至少一个凹陷结构，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层的凹陷结构在垂直于触控屏方向位置相同。具体结构如图1和图2所示。
实施例1
在基材为CPI(10um)，面内导电材料为比较脆性的ITO，面外布线区用Ti/Al/Ti时，采用本结构可达到弯折半径为2mm，弯折次数为20万次时，其触控功能仍然正常。
实施例2
在基材为PET(50um)，面内导电材为Metal Mesh，面外布线区用Ag时，采用本结构可达到弯折半径为2mm，弯折次数为20万次时，其触控功能仍然正常。
实施例3
在基材为CPI(10um)，面内导电材为AgNW，面外布线区用Ag时，采用本结构可达到弯折半径为1.5mm，弯折次数为30万次时，其触控功能仍然正常。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细结构特征，但本发明并不局限于上述详细结构特征，即不意味着本发明必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。
Claims (10)
1.一种可弯折触控屏，其特征在于，所述触控屏包括功能区以及布线区，所述功能区包括基材，以及层叠于基材表面的第一绝缘层，所述第一绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述凹陷结构内部设置有第一金属层，所述第一绝缘层以及第一金属层表面层叠有第二绝缘层，所述第二绝缘层包括至少一个凹陷结构，所述第二绝缘层包括至少一个贯穿第二绝缘层的通道，所述第二绝缘层凹陷结构内部、通道内部以及表面分别独立地层叠有第二金属层，所述第二金属层表面层叠有保护层，所述保护层包括至少一个凹陷结构，且所述第二绝缘层以及保护层的凹陷结构与所述第一绝缘层的凹陷结构在垂直于触控屏方向位置相同；所述布线区包括基材层，以及由基材层表面依次层叠的第一绝缘层、第三金属层以及保护层，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层分别独立地包括至少一个凹陷结构，所述第一绝缘层、第三金属层以及保护层的凹陷结构在垂直于触控屏方向位置相同。
2.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述基材层原料包括PET或CPI；
优选地，所述基材层的厚度不大于50μm。
3.根据权利要求1或2所述的触控屏，其特征在于，所述第一绝缘层以及第二绝缘层的原料分别独立地包括有机光阻。
4.根据权利要求1-3任一项所述的触控屏，其特征在于，所述第一绝缘层以及第二绝缘层的厚度分别独立地不大于1μm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的触控屏，其特征在于，所述第一绝缘层以及第二绝缘层的凹陷结构的深度分别独立地不大于所述第一绝缘层以及第二绝缘层的厚度。
6.根据权利要求1-5任一项所述的触控屏，其特征在于，所述第一金属层以及第二金属层的原料分别独立的包括ITO、Metal Mesh或AgNW中的任意一种；
优选地，所述第三金属层的原料包括Ag、Cu、Ti/Al/Ti或Mo/Al/Mo中的任意一种。
7.根据权利要求1-6任一项所述的触控屏，其特征在于，所述第一金属层以及第二金属层的厚度分别独立地不大于200nm；
优选地，所述第三金属层的厚度不大于10μm。
8.根据权利要求1-7任一项所述的触控屏，其特征在于，所述第三金属层的凹陷结构的深度不大于所述第一绝缘层的厚度。
9.根据权利要求1-8任一项所述的触控屏，其特征在于，所述保护层的厚度不大于2μm。
10.根据权利要求1-9任一项所述的触控屏，其特征在于，所述保护层的凹陷结构的深度不大于所述保护层的厚度。
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