CN111074321B - 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法 - Google Patents

一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111074321B
CN111074321B CN201911259139.7A CN201911259139A CN111074321B CN 111074321 B CN111074321 B CN 111074321B CN 201911259139 A CN201911259139 A CN 201911259139A CN 111074321 B CN111074321 B CN 111074321B
Authority
CN
China
Prior art keywords
aluminum alloy
oxide film
alloy template
steps
magnetron sputtering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201911259139.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111074321A (zh
Inventor
李双琪
唐华强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chongqing Xinjiurong Technology Co ltd
Original Assignee
Chongqing Xinjiurong Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chongqing Xinjiurong Technology Co ltd filed Critical Chongqing Xinjiurong Technology Co ltd
Priority to CN201911259139.7A priority Critical patent/CN111074321B/zh
Publication of CN111074321A publication Critical patent/CN111074321A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111074321B publication Critical patent/CN111074321B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/06Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
    • C25D11/10Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing organic acids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • B23K26/382Removing material by boring or cutting by boring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/06Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
    • C25D11/08Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing inorganic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24Chemical after-treatment
    • C25D11/246Chemical after-treatment for sealing layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/04Electrophoretic coating characterised by the process with organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2222/00Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
    • C23C2222/20Use of solutions containing silanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及建筑装备制备技术领域,公开了一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,包括以下步骤,将铝合金模板基材浸入复合酸电解液中复合阳极氧化;利用纳秒激光器对阳极氧化膜层进行激光钻孔;将激光钻孔的铝合金模板置于硅烷偶联剂溶液浸泡5‑8min;对阳极氧化膜进行石墨靶磁控溅射;将石墨靶磁控溅射后的铝合金模板置于水洗液中水洗10‑15min;在含有聚四氟乙烯乳液的溶液中进行电泳复合。本发明通过对铝合金模板表面先阳极氧化,并在氧化膜上进行钻孔、解封,再在阳极氧化膜层上磁控溅射惰性的石墨,最后利用聚四氟乙烯进行封孔,在铝合金表面制备出来的氧化膜耐蚀性、耐磨性和自润滑性均更好,在铝模板建筑施工后混凝土表面光滑美观。

Description

一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法
技术领域
本发明涉及建筑装备制备技术领域,尤其涉及一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法。
背景技术
铝合金模板(简称铝模板)是继木模板、钢模板之后出现的新一代模板系统。铝模板具有效率高、模数化、可反复使用次数高的新型模板和支撑系统,具有重量轻、操作便捷、施工周期短、回收价值高等众多优点。虽然铝模板在建筑施工中具有众多优点,但其还存在一些问题,比如,对应用铝合金模板的混凝土结构在拆模后,混凝土表面会出现一些孔洞,尤其在柱墙表面更为突出,其虽然不会影响混凝土强度,但是这样的混凝土表面观感非常不美观。
经分析,导致该问题的主要原因为:铝合金模板的主要元素为铝(Al),铝属于活性金属,混凝土主要由氢氧化物及硅酸盐组成,为复合强碱性物质,铝遇酸、碱均会发生化学反应,而混凝土凝固时产生的水化热更强化了其反应,生成二氧化碳(CO2)、氢气(H2)等气体及氢氧化铝(Al(OH)3)、碳酸钙(CaCO3)等物质,体现在混凝土表面的现象为混凝土表面出现小气泡。为了解决此问题,目前有厂家通过在铝合金模板出厂前对铝合金模板的表面进行阳极预氧化,使得铝合金模板的表面形成一层抗氧化膜,铝阳极氧化是将铝置于电解质溶液中进行通电处理,利用电解作用使其表面形成氧化铝薄膜的过程,经过阳极氧化处理,铝表面能生成几个微米—几百个微米的氧化膜,如此的氧化膜比起铝合金的天然氧化膜,其耐蚀性、耐磨性和装饰性都有明显的改善和提高。
阳极氧化膜的形成一定程度上可以满足铝合金表面普通环境下的耐磨、自润滑和耐腐蚀,但铝合金模板表面在建筑施工中,直接接触的为复合强碱性的混凝土,普通的阳极氧化膜或者自然氧化形成的氧化膜虽然刚开始还可以抵御混凝土的腐蚀,但时间长了其耐腐蚀性将减弱,还是存在施工后混凝土表面出现小气泡的问题,影响混凝土的美观。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的是提供一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,通过对铝合金模板表面先阳极氧化,并在氧化膜上进行钻孔、解封,再在阳极氧化膜层上磁控溅射惰性的石墨,最后利用聚四氟乙烯进行封孔,在铝合金表面制备出来的氧化膜耐蚀性、耐磨性和自润滑性均更好,在铝模板建筑施工后混凝土表面光滑美观。
本发明通过以下技术手段解决上述技术问题:
一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,包括以下步骤,
S1、将铝合金模板基材浸入复合酸电解液中,于室温、120V的电压下复合阳极氧化0.5-1h,取出用去离子水反复冲洗后干燥,在铝合金模板表面形成阳极氧化膜;
S2、将阳极氧化后的铝合金模板置于去离子水中,利用纳秒激光器对阳极氧化膜层进行激光钻孔,钻孔后用去离子水洗净后干燥;
S3、将激光钻孔的铝合金模板置于硅烷偶联剂溶液浸泡5-8min;
S4、将浸泡后的铝合金模板置于220-280℃的环境中,对阳极氧化膜进行石墨靶磁控溅射;
S5、将石墨靶磁控溅射后的铝合金模板置于水洗液中水洗10-15min,水洗液是浓度为0.5-2.0g/L的氟化氢铵溶液;
S6、水洗完毕后,将铝合金模板放入含有聚四氟乙烯乳液的溶液中进行电泳复合,然后去离子水冲洗,烘干。
进一步,所述复合酸电解液包括2-3mL/L的磷酸、1-2g/L的草酸、0.5-1.2g/L的钨酸钠和1.2-1.8g/L的丙二醇丁醚。
通过复合阳极氧化使铝合金模板表面形成Al2O3的阳极氧化膜,具有一定的耐腐蚀性、自润滑性和耐磨性,然后将阳极氧化膜层进行激光钻孔,后续使用石墨靶磁控溅射工艺对阳极氧化膜层及其孔洞上沉积石墨,石墨作为惰性元素,其具有更高的耐腐蚀和自润滑功能,最后氧化膜层在氟化氢铵的作用下,Al2O3与氟化氢铵产生的氟离子反应生成氟化铝等化学性质稳定的膜层,并且Al2O3还与硅烷进行化学结合以及物理吸附,对形成的阳极氧化膜进行水解解封,最后再在聚四氟乙烯乳液中进行电泳复合封孔,最终形成的氧化膜层表面耐碱性、自润滑性和耐磨性均更强。
进一步,步骤S2中,纳秒激光器的脉宽为12ns,波长为1324nm,功率为80W,重复频率为20kH。如此参数使得纳秒激光器在铝合金模板上钻的微孔的孔径和孔深与更加匹配后续石墨对铝合金表面的吸附,提升铝合金模板的耐磨性。
进一步,所述硅烷偶联剂为质量浓度为20%的乙烯基硅烷。乙烯基硅烷可以大大增加石墨对于铝阳极氧化膜的附着力,并可增加阳极氧化膜的耐盐性和自润滑性。
进一步,步骤S4中,所述石墨靶磁控溅射过程中石墨靶的电流从0.5A匀速的增大到2.5A,磁控溅射时间3-5min。将电流从0.5A逐渐增大到2.5A,石墨镀层对的厚度与沉积速率线性增大,镀层的硬度1.5A是为最大,然后逐渐减小,利于后续在聚四氟乙烯乳液中进行电泳复合的封孔。
进一步,所述石墨靶磁控溅射使用的石墨的粒径为2-4um。该粒径的石墨与纳秒激光器钻的孔径相符,利于石墨在阳极氧化膜上的吸附。
进一步,所述含聚四氟乙烯乳液的溶液中含有质量浓度50-80g/L的聚四氟乙烯和质量浓度为4-6g/L的全氟辛酸。
进一步,步骤S6中,所述电泳复合采用交流电电沉积工艺,铝合金模板为正极,负极采用钛板,电流密度为0.2-0.5A/cm2,沉积时间为10-15min。
进一步,所述水洗液中还含有0.8g/L-1.2g/L的镍化物和1g/L~15g/L的月桂基肌氨酸钠。
进一步,所述镍化物为氨基磺酸镍、醋酸镍、硫酸镍、氟化镍、氢氧化镍和乙酰丙酮镍中的一种或者几种的混合。镍化物与Al2O3与氟化氢铵产生的氢氧根反应可以得到氢氧化镍,氢氧化镍可以渗透进入铝模板表面氧化膜的微孔中,而月桂基肌氨酸钠可以促进了氢氧化镍在表面氧化膜表面的渗透作用,使表面氧化膜的微孔的封堵效果更好。
本发明的有益效果:
(1)本发明先在铝合金模板的表面进行阳极氧化,使得铝合金模板表面形成Al2O3,具有一定的耐腐蚀性、自润滑性和耐磨性,然后将阳极氧化膜层进行激光钻孔,后续使用石墨靶磁控溅射工艺对阳极氧化膜层及其孔洞上沉积石墨,石墨作为惰性元素,其具有更高的耐腐蚀和自润滑功能;
(2)本发明氧化膜层在氟化氢铵的作用下,Al2O3与氟化氢铵产生的氟离子反应生成氟化铝等化学性质稳定的膜层,并且Al2O3还与硅烷进行化学结合以及物理吸附,对形成的阳极氧化膜进行水解解封,最后再在聚四氟乙烯乳液中进行电泳复合封孔,最终形成的氧化膜层表面耐碱性、自润滑性和耐磨性均更强。
附图说明
图1是为进行表面处理的铝合金模板浇筑出的混凝土照片;
图2是使用实施例1的制备方法制备的铝合金模板浇筑出的混凝土照片;
图3是使用实施例2的制备方法制备的铝合金模板浇筑出的混凝土照片。
具体实施方式
以下为根据本方案,进行的如下实施例试验,具体的制备参数见表1所示:
表1、实施例1-实施例5的铝合金模板表面氧化膜制备参数
Figure BDA0002311129020000041
Figure BDA0002311129020000051
实施例1、
一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,包括以下步骤,
S1、将铝合金模板基材浸入含有2.5mL/L的磷酸、1.5g/L的草酸、0.85g/L的钨酸钠和1.5g/L的丙二醇丁醚的混合酸电解液中,于120V的电压下室温高电压复合阳极氧化0.75h,在铝合金模板表面形成阳极氧化膜,然后用去离子水反复冲洗后干燥;
S2、将铝合金模板置于去离子水中,利用纳秒激光器在脉宽为12ns、波长为1324nm、功率为80W、重复频率为20kH条件下对阳极氧化膜层进行激光钻孔,钻孔后用去离子水洗净后干燥;
S3、将激光钻孔的铝合金模板置于硅烷偶联剂溶液浸泡6.5min,硅烷偶联剂为质量浓度为20%的乙烯基硅烷;
S4、将铝合金模板置于220-280℃的环境中,对阳极氧化膜进行石墨靶磁控溅射,石墨靶磁控溅射时石墨靶的电流从0.5A匀速的增大到2.5A,磁控溅射时间4min,溅射的石墨的粒径为3um;
S5、将石墨靶磁控溅射后的铝合金模板置于含有1.25g/L的氟化氢铵溶液、1.0g/L的氨基磺酸镍和8g/L的月桂基肌氨酸钠的水洗液中水洗12.5min;
S6、水洗完毕后,将铝合金模板放入质量浓度65g/L的聚四氟乙烯和质量浓度为5g/L的全氟辛酸的混合溶液中,以铝合金模板作为正极,以钛板作为负极,于电流密度为0.35A/cm2条件下电泳复合12.5min,然后去离子水冲洗,烘干。
实施例2:
实施例2与实施例1相比,其区别仅仅在于,采用表1中实施例2中的参数进行氧化膜层的制备。
实施例3:
实施例3与实施例1相比,其区别仅仅在于,采用表1中实施例3中的参数进行氧化膜层的制备。
实施例4:
实施例4与实施例1相比,其区别仅仅在于,采用表1中实施例4中的参数进行氧化膜层的制备,但在步骤S4中对阳极氧化膜进行石墨靶磁控溅射时石墨靶的电流一直保持1.5A。
实施例5:
实施例5与实施例1相比,其区别仅仅在于,采用表1中实施例5中的参数进行氧化膜层的制备,即水洗液中没有添加氨基磺酸镍和月桂基肌氨酸钠。
根据上述的实施例试验,将所得到的5种铝合金模板表面氧化膜层进行膜层厚度、膜层硬度、摩擦系数和单位时间膜层磨损量测量,
其中氧化膜厚度采用台阶仪进行测量,氧化膜硬度采用维氏显微硬度计进行测量,氧化膜摩擦系数采用摩擦磨损试验机进行测量。
单位时间膜层磨损量的测量为采用泰伯磨石机进行检测,具体检测步骤为:
1、在0.12㎡的铝合金模板表面上放置直径51.9mm的砂轮,并在砂轮上施加1kg的载荷;
2、砂轮转速50r/min进行转动,然后利用差值公式进行计算单位时间膜层磨损量。
最终得到如下表2中的数据:
表2、实施例1-实施例5氧化膜层性能测量表
Figure BDA0002311129020000071
对实施例1和实施例2得到的铝合金模板进行现场的铝合金模板施工,分别得到图2和图3的混凝土表面;使用为进行氧化膜制备的铝合金模板进行现场的铝合金模板施工,得到图1的混凝土表面。从图1中可以看出,混凝土表面具有大量的气孔,非常不美观;从图2中可以看出,本发明方案制备的铝合金模板氧化膜层进行施工的混凝土表面光滑平整,没有孔洞,非常美观;从图3中可以看出,使用实施例2制备的铝合金模板氧化膜层,其虽然较图1更光滑平整,但混凝土表面还是具有少量的微小孔洞。从上述表2的数据及图1、图2和图3的对比可以看出:
本发明先在铝合金模板的表面进行阳极氧化,使得铝合金模板表面形成Al2O3,具有一定的耐腐蚀性、自润滑性和耐磨性,然后将阳极氧化膜层进行激光钻孔,后续使用石墨靶磁控溅射工艺对阳极氧化膜层及其孔洞上沉积石墨,石墨作为惰性元素,其具有更高的耐腐蚀和自润滑功能;且氧化膜层在氟化氢铵的作用下,Al2O3与氟化氢铵产生的氟离子反应生成氟化铝等化学性质稳定的膜层,并且Al2O3还与硅烷进行化学结合以及物理吸附,对形成的阳极氧化膜进行水解解封,最后再在聚四氟乙烯乳液中进行电泳复合封孔,最终形成的氧化膜层表面耐碱性、自润滑性和耐磨性均更强。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。本发明未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。

Claims (9)

1.一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤,
S1、将铝合金模板基材浸入复合酸电解液中,于室温、120V的电压下复合阳极氧化0.5-1h,取出用去离子水反复冲洗后干燥,在铝合金模板表面形成阳极氧化膜;
S2、将阳极氧化后的铝合金模板置于去离子水中,利用纳秒激光器对阳极氧化膜层进行激光钻孔,钻孔后用去离子水洗净后干燥;
S3、将激光钻孔的铝合金模板置于硅烷偶联剂溶液浸泡5-8min;
S4、将浸泡后的铝合金模板置于220-280℃的环境中,对阳极氧化膜进行石墨靶磁控溅射,所述石墨靶磁控溅射过程中石墨靶的电流从0.5A匀速的增大到2.5A,磁控溅射时间3-5min;
S5、将石墨靶磁控溅射后的铝合金模板置于水洗液中水洗10-15min,水洗液是浓度为0.5-2.0g/L的氟化氢铵溶液;
S6、水洗完毕后,将铝合金模板放入含有聚四氟乙烯乳液的溶液中进行电泳复合,然后去离子水冲洗,烘干。
2.根据权利要求1所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:所述复合酸电解液中含有2-3mL/L的磷酸、1-2g/L的草酸、0.5-1.2g/L的钨酸钠和1.2-1.8g/L的丙二醇丁醚。
3.根据权利要求2所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:步骤S2中,所述纳秒激光器的脉宽为12ns,波长为1324nm,功率为80W,重复频率为20kHz 。
4.根据权利要求3所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:所述硅烷偶联剂为质量浓度为20%的乙烯基硅烷。
5.根据权利要求4所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:所述石墨靶磁控溅射使用的石墨的粒径为2-4um。
6.根据权利要求5所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:所述含聚四氟乙烯乳液的溶液中含有质量浓度50-80g/L的聚四氟乙烯和质量浓度为4-6g/L的全氟辛酸。
7.根据权利要求6所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:步骤S6中,所述电泳复合采用交流电电沉积工艺,铝合金模板为正极,负极采用钛板,电流密度为0.2-0.5A/cm2,沉积时间为10-15min。
8.根据权利要求7所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:所述水洗液中还含有0.8g/L-1.2g/L的镍化物和1g/L~15g/L的月桂基肌氨酸钠。
9.根据权利要求8所述的一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法,其特征在于:所述镍化物为氨基磺酸镍、醋酸镍、硫酸镍、氟化镍、氢氧化镍和乙酰丙酮镍中的一种或者几种的混合。
CN201911259139.7A 2019-12-10 2019-12-10 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法 Active CN111074321B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911259139.7A CN111074321B (zh) 2019-12-10 2019-12-10 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911259139.7A CN111074321B (zh) 2019-12-10 2019-12-10 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111074321A CN111074321A (zh) 2020-04-28
CN111074321B true CN111074321B (zh) 2022-01-21

Family

ID=70313624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911259139.7A Active CN111074321B (zh) 2019-12-10 2019-12-10 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111074321B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111809209A (zh) * 2020-07-22 2020-10-23 赤壁富祥盛科技有限公司 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法
CN112609218B (zh) * 2020-11-18 2023-10-17 中国兵器科学研究院宁波分院 一种超疏水微弧氧化复合膜的制备方法
CN113036271B (zh) * 2021-02-04 2022-06-21 厦门大学 一种耐电解液、抗剥离铝塑膜及其制备方法和电池
CN115960524A (zh) * 2022-09-07 2023-04-14 安徽中嘉环保建材科技有限公司 一种覆膜铝模板及其制备方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60121297A (ja) * 1983-12-01 1985-06-28 Nippon Koki Kk アルミニウムまたはアルミニウム合金の光電解模様付け法
US9601747B2 (en) * 2005-05-13 2017-03-21 The University Of Tulsa Nanopatterned substrate serving as both a current collector and template for nanostructured electrode growth
CN101413139B (zh) * 2007-10-18 2010-12-08 比亚迪股份有限公司 一种包括微弧氧化膜的铝合金及其制备方法
CN101665971A (zh) * 2008-09-03 2010-03-10 比亚迪股份有限公司 一种表面具有多色氧化膜的材料及其制备方法
CN106400085B (zh) * 2016-06-21 2019-05-14 武汉风帆电化科技股份有限公司 一种铝及铝合金阳极氧化膜后处理用封孔剂及后处理方法
CN108624935A (zh) * 2017-03-21 2018-10-09 上海铝通化学科技有限公司 一种耐碱性封闭液及铝合金表面氧化膜的封闭工艺
CN107475763B (zh) * 2017-08-15 2019-02-22 重庆新久融科技有限公司 一种具有自润滑膜层的铝合金模板及其加工方法
CN108517549B (zh) * 2018-02-27 2019-10-18 中国计量大学 一种铝合金复合阳极氧化膜的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111074321A (zh) 2020-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111074321B (zh) 一种铝合金模板表面氧化膜的制备方法
CN103014804B (zh) 表面具有军绿色微弧氧化陶瓷膜的铝合金及其制备方法
CN105274519B (zh) 不锈钢的表面处理方法及不锈钢手表外壳
US10309029B2 (en) Method for forming a multi-layer anodic coating
CA1112600A (en) Electrolytically treating aluminium surface in bath of hydroxide or salt with acid
WO2008001717A1 (fr) Depôt d'aluminium obtenu par placage, élément métallique et procédé de fabrication correspondant
CN104593786B (zh) 一种金属表面微孔化处理的方法
CN105441743A (zh) 一种铝基非晶合金复合材料及其制备方法
KR101336443B1 (ko) 고내식성 마그네슘 합금 산화피막의 제조방법
CN103866372A (zh) 不锈钢电化学着色液及着色方法
CN111197176B (zh) 一种铜箔的电化学处理方法及复合铜箔材料
CA1134774A (en) Anodising aluminium
CN105702466B (zh) 一种高介电常数化成铝箔的制备方法
CN103320838B (zh) 一种tc4钛合金表面原位生长黄色陶瓷膜层的方法
JPH11217693A (ja) グレー発色アルミニウム材とその着色体の製造方法
KR100777176B1 (ko) 마그네슘을 주성분으로 하는 금속체의 표면 처리 방법
RU2541246C1 (ru) Способ получения толстослойных износостойких покрытий методом микродугового оксидирования
JP2004068103A (ja) 表面処理アルミニウム材料の製造方法
JP3445154B2 (ja) 着色アルミニウム材の製造方法
RU2516142C2 (ru) Способ модифицирования поверхности титана
RU2496924C1 (ru) Способ модифицирования поверхности титана и его сплавов
RU2409705C1 (ru) Способ изготовления электрода для электрохимических процессов
JP3339400B2 (ja) アルミ材の表面処理方法
Thein Kyaw et al. Study on Anodizing Processes for Formation of Nano Porous Aluminum Oxide Thin Films
JP3344973B2 (ja) アルミニウム材料の着色方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant