CN111072404B - 设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法 - Google Patents

Abstract

一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，包含陶瓷坯体与光触媒涂层，所述光触媒涂层是在创新设计粒径级配并采用磨抛技术嵌铺于烧制后磨抛后的制品表面并在表层成“T”字型平面膜层状态，从而低成本地实现有效且高效、持久地在陶瓷制品表面产生可见光下降解甲醛等有害物质的净化功能作用。

Description

设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷砖领域，特别是指一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法。

背景技术

随着现有天然石材资源的短缺情况下，现代的装饰板材中都采用了仿石效果的陶瓷砖制品，其优异的理化性能与丰富的纹理效果都得到了消费者的认可与信赖；伴随人们生活水平逐步提高，需求有了更进一步提升，尤其在健康，环保等方面的要求越来越高，特别是在装修的选材，施工过程后的家居场所的健康环保的要求上。在陶瓷砖制品而言，其不仅在外观花色和制品本身的装饰性及装修应用上满足人们美好生活的需要，而作为装饰装修材料的经1100℃～1200℃烧制而成的陶瓷制品来说，还希望能够对装修家居环境有更一步的净化辅助功能。

在家居装修环境中，室内装潢包括涂料、胶黏剂、复合材料等等用量的增加，室内空气污染严重，室内环境的净化已越来越受到人们的重视。据调查，新装修的房间内空气中有机挥发物浓度高于室外，甚至高于工业区，其中有许多物质对人体有害甚至致癌，如甲醛，TVOC苯等有机挥发物，为此，各家居行业材料厂家必须要提供无害化产品，并且还能进一步改善环境方面正在进行着努力解决。

针对上述需求，各陶瓷领域相关陶瓷行业厂家也在进行攻关，推出了一系列与新工艺材料相结合的功能性陶瓷制品，有如下基本方向：

1.负离子净化空气原理：空气在特定环境中如打雷闪电会使大气中(O₂、N₂、C0₂、H₂0)中的电子e释放出来，而地球是一个最大的负极，会把正电子吸收，而游离的负电子就会捕捉空气中的氧气或水分子产生空气负离子，又叫负氧离子，其能与空气中的有机物起氧化作用，把甲醛、苯……降解成无害的二氧化碳和水；与荷正电及未荷电的污染物作用，使其聚集成大离子而沉降，尤其对小至0.01微米的微粒与飘尘有明显的沉降去除的效果，因而具有清洁空气的作用；而在这些激发诱导产生负氧离子的材料特性上，有诸如锆石、褐铁矿类的六环石、磁石、氧化钍、铝镁氧化物的尖晶石等材料通过其材本身的放射性，电离出电子，再与氧气或水分子产生负离子。

在现有制作负离子陶瓷砖的技术方案中：

如CN1587186A专利中，其在坯体配方中加进负离子粉来制备，其实质是加入了含有电气石粉或者稀土元素的矿物质材料，主要原理是以钍元素的放射性而电离出负电子，捕捉空气中的氧气或水分子形成空气负离子，但这些诱生负离子的材料本身带有天然的放射性元素，如钍这样才能激发诱导出负离子的产生，若放射性元素量少了其产生的负离子数量少，其对去除甲醛等有害气体效果甚微，量多了则产生的放射性辐射高，对人体健康安全产生隐患，因此需要控制放射性不能超标与负离子浓度要高的相互矛盾关系的使用量，所以仍具有局限性。

2.纳米二氧化钛净化空气原理：通过纳米二氧化钛在光线能量的催化作用下，使负电子诱导产生负氧离子和羟基自由基，把环境中的甲醛、苯、TVOC等有机挥发物氧化分解成无害的二氧化碳和水，从而去除空气中的有害气体，也能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理，因为纳米二氧化钛本身无毒副作用，其还是制作防晒霜的添加剂材料之一，并且纳米二氧化钛光触媒材料已广为成熟和可商业化购买，因此这个材料的稳定性和安全性已逐步得到了业内的认可并成为了市场的主流研究方向。但在如何选择更合适的光触媒材料，比如紫外光照射还是可见光照射下产生催化作用，并达到更低成本又更高效和持久的应用，从而达到净化功能效果的研究，成为了大家的攻关方向，而在陶瓷领域也形成了这种关注和研究的开展。

现有制作含纳米二氧化钛光触媒产生净化功能的陶瓷制品的方式有：

如CN202152318U专利中，提出了将含有纳米二氧化钛制成的光触媒喷淋于于已烧成的陶瓷砖表面，再在一定的设定温度下烘干制得，该方式需要通过增设的温度烘干装置及进行一定的保温时间的能耗才能实现，对现阶段倡导环保及低碳的新时代绿色制造方向不相符，且喷淋于表面黏附持久性差，容易脱落；并且未有揭示是在可见光下可以产生催化作用的光触媒材料。

如CN107311632A专利，提出了将纳米TiO₂掺杂在原料配方中从而制得陶瓷制品，该方式起催化作用的纳米TiO₂不能完全的覆盖在瓷砖表面，因而与光线作用的充分接触的比表面积不足，导致净化空气的功能效果不足，另外该方式采用纳米TiO₂作为配方原料，通过高温烧制的工艺方式应用，其会使纳米TiO₂的晶型都转化为金红石型二氧化钛，而金红石型二氧化钛的光催化率尤其是可见光的催化率低，这样会使得净化效果不明显。

如CN102728298A专利，提出了将纳米TiO₂溶液加入到瓷砖防污液中对瓷砖加压磨抛，该方式是采用10nm～20nm的TiO₂负载于多孔矿物质上再与瓷砖防污液进行混合后再对陶瓷砖进行磨抛，该方式由于是混合型溶液，所揭示的多孔矿物质仅仅是为了负载更细的纳米TiO₂材料的作用，也未揭示TiO₂材料是否经过了敏化剂处理，其起主要催化作用的纳米二氧化钛材料是分散负载于各种多孔矿物质上，再与瓷砖防污液混合，这就会减少了纳米TiO₂的平面铺展开来的总面积，并且并非是TiO₂分子之间在制品表面和孔隙中相互形成分子键结构的结晶态构成，而是通过硅藻土等多孔载体附着在制品孔隙和表面的，这一方面因为起光催化作用的TiO₂的量不足，降低了净化空气能力，另一方面，其通过多孔材料载体附着结构力不足，有机物载体还容易分解，影响持久性。

而亦有常规的直接在已填满陶瓷抛光液的表面再施加光触媒混合液的技术方案，该方式从物理结构上看，就可以得知其是在表面交联成一层平面膜，没有嵌渗于表层微孔内形成“T”字型结构，附着力就不如“T”字型附着力牢固，一层平面的形态结构，就容易脱落且容易被踩踏损坏表面膜层，持久性不高，且其未有提出或揭示通过孔隙大小和纳米材料不同级配粒径控制，使其向下的孔隙中以及平面上共同致密紧固交联，形成如同本发明“T”型的牢固结构，使之更持久的产生效果。而且也未揭示所采用的光触媒材料本身是否经敏化处理以降低其激发能量，以及能在40℃～60℃形成结晶的材料特性要求，所以这类技术方案属上位概念，不够具体。

从现阶段技术手段、环保安全、市场需求来看，由纳米TiO₂材料制成的光触媒混合液具有更广泛的应用前景，但现有技术方法上、材料选择上、使用方式上、材料应用成本的性价比上，都参差不齐，未有提出或明确揭示利用和设计光触媒材料中纳米二氧化钛的粒径大小与常规采用的成本较低的陶瓷抛光液类材料粒径大小以及业内共知的陶瓷制品磨抛后表面会产生50nm以内或最大孔径在十几微米或几十微米的微孔的孔径之间的关系的研究，而采用合适的粒径级配的材料的使用方案；也未有在纳米TiO₂光触媒材料本身的材料选择上研究提出要求，如要求纳米TiO₂材料在40℃～60℃温度时形成结晶，对纳米TiO₂材料进行敏化处理以降低其激活能量，使400～760nm波长的可见光即可对其进行光催化反应，从而在成本上，应用持久性上、应用广谱性上得到一种更合理级配和应用方法的技术方案来实现安全、广谱、高效和持久地应用可见光催化降解有害挥发物功能的光触媒材料，在陶瓷制品表面持久发挥净化功能的创新技术方案。

发明内容

有鉴于现有技术存在上述的不足，本发明创新地提出一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，低成本地实现有效且高效、持久地在陶瓷制品表面产生可见光下降解甲醛等有害物质的净化功能作用。

首先根据陶瓷制品磨抛后表面会形成50nm以内或最大孔径在十几微米或几十微米的微孔的特性，采用特定选取的固含物5～20nm粒径的光触媒混合液与固含物30nm～300nm粒径的常规陶瓷抛光液中纳米材料的粒径范围，创新地进行这种合理的级配设计，而在制作应用上又直接在现有抛光工序中实施，极大的简化了工艺流程，之所以常规抛光液最大粒径选择在300nm以内是为了防止粒径过大因其SiO₂的乳浊而影响制品表面的透感和质感；其次光触媒混合液与陶瓷抛光液在制品表面及孔隙中有效的形成相互一体交联、紧密、高强度、高硬度的“T”字型防护膜层；另外采用常规的陶瓷防污液与较高成本的光触媒混合液进行合理的粒径级配利用，从而极大的节约使用成本的同时又大大提升了催化降解作用的持久性及黏附在表面的牢固性，因此这是本发明具有新颖性、创造性和实用性的目的所在。

本发明所采用的技术手段：

一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品，包含陶瓷坯体与光触媒涂层，其特征在于：所述光触媒涂层嵌铺于烧制后磨抛后的制品表面并在表层成“T”字型平面膜层状态，其嵌渗于制品表面向下至少达0.2～1mm的厚度，其在制品表层呈平面膜层的厚度为0.01～0.15mm；

光触媒涂层之下还设有常规陶瓷抛光液材料并且是与嵌渗于表层内的光触媒材料混合填充于表层微孔中的，其中填充于微孔中的常规陶瓷抛光液材料占60％～80％，光触媒材料占40％～20％。

优选的，所述光触媒涂层铺设于烧制后磨抛后的制品表面并在表层成“T”字型平面膜层状态，其在制品表层呈平面膜层的厚度为0.01～0.1mm。

优选的，所述选择应用的光触媒混合液，PH值在1.8～2.8之间，其溶液中所含固含物占重量百分比为5％～8％，固含物粒径为5nm～20nm，其中的5nm～20nm的锐钛矿型纳米TiO₂占重量百分比为0.5％～2％，且所述纳米TiO₂经过了敏化处理并且在40℃～60℃会形成结晶。

优选的，所述选择应用的陶瓷抛光液，其溶液中含有的固含物粒径为30nm～300nm。

本发明还提供一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的制作方法，包含以下步骤：

(1)、选定预先设计粒径的光触媒混合液与陶瓷抛光液，备用；

(2)、在常规生产抛光线采取合适的磨块，对制品进行磨边、抛光，制得在磨抛后表面产生50nm以内或最大孔径在十几微米或几十微米的微孔的制品，孔深度一般在10微米以内，控制制品表面在磨抛过程温度逐步升到30℃～40℃；

(3)、对步骤(2)的制品采用步骤(1)中的陶瓷抛光液按常规使用量进行常规工艺方式的加压磨抛，使具有30nm～300nm粒径材料的抛光液填充于步骤(2)磨抛后的表面微孔中，其下砖面温度控制在35℃～50℃；

(4)、对上述已经进行陶瓷抛光液加压磨抛处理的陶瓷制品表面淋施步骤(1)中的光触媒混合液，按设定总用量为4～10g/m²进行分配，分别均匀滴落在装载2～8个磨盘的磨抛头下连续进行加压磨抛，砖面温度控制在40℃～60℃，并使得光触媒混合液中的5nm～20nm粒径材料磨压填充进步骤(3)之后的剩余微孔内以及磨抛涂布在制品表面上；

(5)、最后制得按步骤(1)设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品。

优选的，步骤(4)中的光触媒混合液是在3～8组磨抛头加载压力为0.45～0.6MPa下磨抛使用的。

优选的，步骤(3)与步骤(4)中的加压磨抛方式是通过磨抛片在制品上的加压作用下通过高速旋转将陶瓷抛光液和光触媒混合液均匀涂覆并磨压嵌渗于制品表层内和表面的。

优选的，步骤(4)的光触媒混合液总用量为5～8g/m²。

优选的，步骤(4)的光触媒混合液总用量为8～20g/m²。

需要特别注明的是，本发明在光触媒材料的选取上，通过了上千次的试验对比，确定了光触媒材料特性的基本要求是固含物占重量百分比5％～8％，其中的纳米TiO₂材料占重量百分比为0.5％～2％，其他为活性剂，粘合剂，去离子水等，其固含物能够在40℃～60℃范围内形成低温结晶，并且进行了合适的使纳米TiO₂材料的激活能量降低的敏化处理的锐钛矿型纳米材料，这样保证了在自然生活中可见光的作用下激活纳米TiO₂材料产生电子跃迁从而起到诱导与空气中的O₂和H₂O结合形成具有很好氧化能力的超氧自由基(·O₂ ^-)与羟基自由基(·OH)，把甲醛、苯、TVOC等有机挥发物降解成无害的CO₂和H₂O，再加上本发明提出的光触媒的应用是创新的利用了制品表面磨抛后的微孔与合适级配粒径材料填充应用的设计，从而更高效、持久地实现有效发挥效果的作用，从而实现了本发明目的和有益效果。

本发明的设计是环环相扣的，首先是光触媒材料特意筛选为符合40℃～60℃能形成结晶的并且经过了为降低激活能量使可见光可催化反应的敏化处理，其次是按制作方法的磨抛步骤、温度控制进行的，否则会产生光触媒材料的无效浪费，甚至是作用效果不明显，或者是表面附着力不强。

有益效果

1.本发明提出了一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，创新地发现和利用了陶瓷制品表面经磨抛后约50nm以内或最大孔径在十几微米或几十微米的微孔(这是业内共知的，是在烧制过程中的氧化排气时坯体在熔融烧制后表面磨抛打破烧结表面而形成)，采用固含物5nm～20nm粒径的光触媒混合液及固含物30nm～300nm粒径的陶瓷抛光液材料进行的级配设计，先采用含有粒径30nm～300nm的含二氧化硅材料的陶瓷抛光液对制品表面达50nm以内或最大孔径在十几微米或几十微米的微孔进行加压磨抛填充，再将含有5nm～20nm经敏化处理的锐钛矿型二氧化钛材料的光触媒混合液加压磨抛，磨抛温度控制在40℃～60℃，并且磨压渗入到填充抛光液后剩余的不大于30nm的微细孔中与陶瓷抛光液形成相互一体交联、紧密，因为选取能低温结晶型的光触媒材料，其分子键相互的交联在40℃～60℃形成结晶，从而在表面形成高强度、高硬度的致密防护膜层，保证了光触媒材料在制品表面附着的持久性。

2.本发明提出了一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，经过上千次试验对比，确定了5nm～20nm的经敏化处理的锐钛矿型TiO₂的固含量比例在0.5％～2％的光触媒混合液，避免了因含量不匹配而出现的问题，如纳米TiO₂材料如过多则容易出现成团、聚集，以致其活性、分散性、均匀性都降低，过少则因平展面不致密而光催化效果不理想；这种针对制品表面的微孔孔径对陶瓷抛光液与光触媒混合液的纳米材料粒径匹配性填充的创新设计及应用实施，既制得具备可见光催化降解可持久性、效果好的制品功能，同时常规的含有30nm～300nm粒径材料的陶瓷抛光液与较高成本的含有5nm～20nm粒径材料的光触媒混合液进行合理的粒径级配利用，通过大粒径的低成本抛光液填充大孔隙后节约了使用成本，而最关键的是细小粒径的TiO₂材料受加压磨抛压力浸渗于剩下的细小孔隙中形成更密实的孔隙填充效果，使表面更坚固致密，并且在TiO₂低温结晶作用下形成了坚固的交联结构，防污耐污性能更好，硬度耐磨度更高，能以最有限的成本得到最大的效果与高性价比的方案。

3.本发明提出了一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，创新的工艺方式实现了陶瓷抛光液与光触媒混合液在磨抛工序中如同打蜡一样的最简单直接有效的方法，直接在现有抛光工序中实施，其表面成膜更高效，起催化降解作用的纳米二氧化钛不但直接覆盖在制品表面，而且通过合理的级配设计，还填充在了表面内的细小孔隙中形成了“T”字型的覆盖状态，作用效果更为直接迅速，效果明显，坚固耐用。

4.本发明提出了一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，其光触媒涂层中采用了四方晶系中的锐钛矿型二氧化钛作为光催化降解材料，相比金红石型二氧化钛而言，其材料粒径在50纳米以下，具有更强的光催化活性，而且经过产生电荷载体的敏化处理，降低了光触媒的激活所需能量，这使得波长在400nm～760nm波长范围的可见光都可对其起催化反应作用，所以实现了在生活随处可有的自然光或模拟自然光的日光灯下也能起催化反应作用，从而产生将甲醛等有害物质降解成无害的CO₂和H₂O的功能，这比市面上需要紫外光激发才能产生催化反应作用的产品而言，本发明更有市场应用前景，减少了局限性。

以下，借由具体的实施例以更好地说明本发明及其具体方法。

附图简要说明

图1为本发明的一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品任意侧剖面示意图。

附图各标记说明

1：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的坯体层；

2：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的陶瓷抛光液磨抛层；

3：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的光触媒涂层；

4：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品在常规抛光线上经磨边抛光后表面的微型孔隙；

5：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品经过陶瓷抛光液加压磨抛后对微型孔隙进行填充的粒径30nm～300nm的二氧化硅材料固含物；

6：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品经过光触媒混合液加压磨抛后对小于30nm孔径的微型孔隙进行填充的粒径在5nm～20nm的二氧化钛材料固含物；

7：设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品经过光触媒混合液与陶瓷抛光液形成交联一体的致密防护膜层。

具体实施方式

下面结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：

如图1所述，表示本发明的一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法任意侧剖面示意图，1表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的坯体层；2表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的陶瓷抛光液磨抛层；3表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的光触媒涂层；4表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品在常规抛光线上经磨边抛光后表面的微型孔洞；5表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品经过陶瓷抛光液加压磨抛后对微型孔隙进行填充的粒径30nm～300nm的二氧硅材料固含物；6表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品经过光触媒混合液加压磨抛后对小于30nm孔径的微型孔隙进行填充的粒径在5nm～20nm的二氧化钛材料固含物；7表示设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品经过光触媒混合液与陶瓷抛光液形成交联一体的致密防护膜层。

【实施例1】

(1)、选用高岭土、长石、石英等坭沙原料，按常规陶瓷工艺制备坯体瓷质粉料，备用；

选用含有固含物粒径为5nm～20nm的光触媒混合液，PH值在1.8～2.8之间，其溶液中的5nm～20nm的锐钛矿型纳米TiO₂重量百分比为0.5％～2％，且所述纳米TiO₂经过了敏化处理并且在40℃～60℃会形成结晶，备用；

选用含有固含物粒径为30nm～300nm的陶瓷抛光液，其中的固含物二氧化硅重量百分比为30％～60％，备用。

(2)、压制陶瓷制品底坯并对其进行干燥。

(3)、在最高温达1160℃～1190℃的窑炉中烧制而成。

(4)、在常规生产抛光线采取合适的磨块，利用循环环保水对制品进行磨边、抛光，制得表面在磨抛后产生50nm以内或最大孔径在十几微米或几十微米的微孔的制品，控制制品表面在磨抛过程温度逐步升到30℃～40℃。

(5)、对步骤(4)的制品采用步骤(1)中的陶瓷抛光液按常规使用量进行常规工艺方式的加压磨抛，使具有30nm～300nm粒径材料的抛光液填充于步骤(4)磨抛后的表面微孔中，其下砖面温度控制在35℃～50℃。

(6)、对上述已经进行陶瓷抛光液加压磨抛处理的陶瓷制品表面按6g/m²用量淋滴步骤(1)中的光触媒混合液。

(7)、对淋滴了光触媒混合液的制品采用4组磨头，每组磨头共6个磨盘，并控制磨头的加载压力为0.5MPa，通过磨盘加压作用在高速旋转下将光触媒混合液中的5nm～20nm粒径材料磨压填充进已经经过陶瓷抛光液中的30nm～300nm粒径材料填充后的剩余微孔内以及磨抛涂布在制品表面上，并在磨抛过程中砖面温度控制在40℃～60℃，以使光触媒材料形成结晶。

(8)、最后制得一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品。

以上方法中对制品表面温度的控制，是可以通过调节高速旋转磨盘的压力、以及用冷水调节、具有温度的循环水调节等方法来调节。

以上所述，仅是为了说明本发明的较佳优选实施例而已，然而其并非是对本发明的保护范围有任何限制，任何熟悉本项技术的人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或修饰为等同变化的等效实施例，都可以按不同要求和性能实施一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品及其制作方法。可见，凡是未脱离本发明技术方案的内容，尤其是权利要求之内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改，等同变化与修饰，均仍属本发明技术方案的范围内。

Claims (7)

1.一种设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品的制作方法，其特征在于包含以下步骤：

（1）、配置光触媒混合液与常规陶瓷抛光液，备用；所述光触媒混合液，pH值在1.8~2.8之间，其溶液中所含固含物占重量百分比为5%~8%，固含物粒径为5nm~20nm，其中的5nm~20nm的锐钛矿型纳米TiO₂占重量百分比为0.5%~2%，且所述纳米TiO₂经过了敏化处理并且在40℃~60℃会形成结晶；常规陶瓷抛光液，其溶液中含有的固含物粒径为30nm~300nm，其中的固含物二氧化硅重量百分比为30%～60%；

（2）、在常规生产抛光线采取合适的磨块，对制品进行磨边、抛光，制得在磨抛后表面产生微孔的制品，控制制品表面在磨抛过程温度逐步升到30℃~40℃；

（3）、对步骤（2）的制品采用步骤（1）中的陶瓷抛光液按常规使用量进行常规工艺方式的加压磨抛，使具有30nm~300nm粒径材料的抛光液填充于步骤（2）磨抛后的表面微孔中，其下砖面温度控制在35℃~50℃；

（4）、对已经进行陶瓷抛光液加压磨抛处理的陶瓷制品表面淋施步骤（1）中的光触媒混合液，按设定总用量为4~10g/m²进行分配，分别均匀滴落在装载2~8个磨盘的磨抛头下连续进行加压磨抛，砖面温度控制在40℃~60℃，并使得光触媒混合液中的5nm~20nm粒径材料磨压填充进步骤（3）之后的剩余微孔内以及磨抛涂布在制品表面上；

（5）、最后制得光触媒涂层的陶瓷制品。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤（4）中的光触媒混合液是在3~8组磨抛头加载压力为0.45~0.6MPa下磨抛使用的。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤（3）与步骤（4）中的加压磨抛方式是通过磨抛片在制品上的加压作用下通过高速旋转将陶瓷抛光液和光触媒混合液均匀涂覆并磨压嵌渗于制品表层内和表面的。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：步骤（4）的光触媒混合液总用量为5~8g/m²。

5.如权利要求1～4中任一所述的方法制备的设定级配应用的光触媒涂层的陶瓷制品，其特征在于：包含陶瓷坯体与利用光触媒混合液制作成的光触媒涂层，所述光触媒涂层嵌铺于烧制后磨抛后的制品表面并在表层成“T”字型平面膜层状态，其嵌渗于制品表面向下0.2~1mm的厚度，其在制品表层呈平面膜层的厚度为0.01~0.15mm；

光触媒涂层之下还设有常规陶瓷抛光液材料并且是与嵌渗于表层内的光触媒材料混合填充于表层微孔中，其中填充于微孔中的常规陶瓷抛光液材料占质量百分数60%~80%，光触媒材料质量百分数占40%~20%；

所述光触媒混合液含有固含物，其固含物粒径为5nm~20nm；且所述常规陶瓷抛光液中含有固含物，其固含物粒径为30nm~300nm。

6.根据权利要求5所述的制品，其特征在于：所述光触媒涂层铺设于烧制后磨抛后的制品表面并在表层成“T”字型平面膜层状态，其在制品表层呈平面膜层的厚度为0.01~0.1mm。

7.根据权利要求5所述的制品，其特征在于：所述光触媒混合液，pH值在1.8~2.8之间，其溶液中所含固含物占重量百分比为5%~8%，其中的5nm~20nm的锐钛矿型纳米TiO₂占重量百分比为0.5%~2%，且所述纳米TiO₂经过了敏化处理并且在40℃~60℃会形成结晶。

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