CN111031650A - 一种硅片静电消除仪 - Google Patents

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杨浩
陶龙忠
杨灼坚
沙泉
段波
唐福云
李宁
周天贤
王枫
李永伟
马海青
孙红彬
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Jiangsu Runyang Yueda Photovoltaic Technology Co Ltd
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Jiangsu Runyang Yueda Photovoltaic Technology Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种硅片静电消除仪,其特征在于:包括承载主体和若干放电嘴,所述承载主体呈条状结构,所述承载主体上表面活动的设置有固定板,所述放电嘴活动的设置在承载主体下表面,且规则的排成两列,所述承载主体的下表面还安装有自平衡传感器,且位于每个所述放电嘴两侧。本消除仪可自动消除硅片表面静电,24小时自动循环工作无故障,工作效率高,应用前景广阔,且不会影响电池硅片表面的外观和电池性能,本身后期维修保养方便、快捷,又不耽误产能。

Description

一种硅片静电消除仪
技术领域
本发明属于太阳能光伏行业领域,尤其涉及一种硅片静电消除仪。
背景技术
在光伏硅片领域中,已经大规模的使用机器人执行传送工作,使得效率大大提升,也降低了员工的劳动强度,目前光伏产业在传送硅片中,使用机械设备加氧化铝真空吸盘的方式吸取硅片,当硅片到达花篮时,机械设备执行放置程序,在此放置过程,硅片与陶瓷吸盘不断的摩擦,由于分布在晶片背面的电荷与分布在吸盘上面的电荷都是异性极化电荷,电池硅片表面产生静电,使得在抓起硅片时产生粘性,现场出现大量的粘片导致硅片掉落,进而影响产线出现大批量的破片报废,统计表示,每天的产量中,直接因硅片带电粘片引起的破片掉片就是几万片数量,直接造成了巨大的经济损失。
发明内容
鉴于以上,本发明提供一种硅片静电消除仪,具有多功能、安装调试作业便利、效率高的效果,且是能直接彻底消除电池硅片静电的专用设备。
具体技术方案如下:
一种硅片静电消除仪,其特征在于:包括承载主体和若干放电嘴,所述承载主体呈条状结构,所述承载主体上表面活动的设置有固定板,所述放电嘴活动的设置在承载主体下表面,且规则的排成两列,所述承载主体的下表面还安装有自平衡传感器,且位于每个所述放电嘴两侧。
进一步,所述固定板通过滑道安装到所述承载主体上表面,可在所述承载主体上表面移动位置。
进一步,所述承载主体长度方向两端设置有安装孔。
进一步,所述承载主体采用航空铝合金材质,且表面抛光。
进一步,所述放电嘴采用铜合金材质。
本发明静电消除仪是专门根据硅片尺寸所制造,使用时安装于运送硅片的机械设备上,仪器开机时自动运行,当消除仪上的自平衡传感器3感应到电池硅片上的电荷时,消除仪放电嘴开始放电,中和硅片表面电荷,硅片表面的静电立刻去除,可24H 工作无故障,工作效率高,应用前景广阔,且不会影响电池硅片表面的外观和电池性能,本身后期维修保养方便、快捷,不耽误产能。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中进一步给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
图1为本发明硅片静电消除仪的结构示意图;
图2为图1中A的放大示意图;
其中,1为承载主体,2为放电嘴,3为自平衡传感器,4为固定板,5为安装孔,6为滑道。
具体实施方式
以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
图1所示,本发明硅片静电消除仪的一种优选实施例示意图。结合图1、2所示,本发明硅片静电消除仪包括承载主体1和若干放电嘴2,承载主体1呈条状结构,采用航空铝合金材质,且表面抛光处理,承载主体1长度方向两端设置有安装孔5,可以与硅片运送设备上的轴销装配,以便在紧固前调整仰角。
优选的,承载主体1上表面活动的设置有固定板4,固定板4通过滑道6安装到承载主体1上表面,可在承载主体1上表面移动位置,在本实施例中,承载主体1上优选装有7个固定板,在其他实施例中固定板4的数量可根据需求确定,每一个固定板4上方都有预留的圆孔,方便将消除仪安装在任何框架上。
优选的,承载主体1下表面活动的设置有放电嘴2,且放电嘴2规则的排成两列,放电嘴2采用铜合金材质,可以杜绝表面氧化,放电嘴2可以从承载主体1上自由拆卸下来,以便快速的更换维护放电体,降低维护时间和成本。
优选的,承载主体1的下表面还安装有自平衡传感器3,且位于每个放电嘴2的两侧,用于检测电池硅片表面的静电,工作时,当自平衡传感器3感应到空气中正负离子不平衡时,输送信号让放电嘴2放电,促使电池硅片范围内正负离子平衡,进而中和电池硅片上电荷,当正负离子平衡后自平衡传感器3给放电嘴2信号停止放电,以实现控制正负离子平衡的效果。
在本实施例中,承载主体1水平横向安装于运送硅片的机械设备上,在其他实施例中也可成竖直方式壁挂于运送硅片的机械设备上,本消除仪安装在运送硅片的机械设备上时,静电消除范围可满足长度3米的石英舟的静电吹扫工艺。
另外需要说明的是,静电消除仪还具有接地保护,可检测接地返回电流,导出静电消除仪本身所带静电,调整静电消除器安装状态以便安全使用。
本发明静电消除仪是专门根据硅片尺寸所制造,使用时安装于运送硅片的机械设备上,仪器开机时自动运行,当消除仪上的自平衡传感器3感应到电池硅片上的电荷时,消除仪放电嘴2开始放电,中和硅片表面电荷,硅片表面的静电立刻去除,并可24小时自动循环工作无故障,工作效率高,应用前景广阔,且不会影响电池硅片表面的外观和电池性能,本身后期维修保养方便、快捷,又不耽误产能。
本领域的技术人员应理解,尽管参照本发明的示意性实施例对本发明的具体实施方式进行了详细的描述,但是本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和实施例,这些改进和实施例将落在本发明原理的精神和范围之内。

Claims (5)

1.一种硅片静电消除仪,其特征在于:包括承载主体和若干放电嘴,所述承载主体呈条状结构,所述承载主体上表面活动的设置有固定板,所述放电嘴活动的设置在承载主体下表面,且规则的排成两列,所述承载主体的下表面还安装有自平衡传感器,且位于每个所述放电嘴两侧。
2.根据权利要求1所述的硅片静电消除仪,其特征在于,所述固定板通过滑道安装到所述承载主体上表面,可在所述承载主体上表面移动位置。
3.根据权利要求1所述的硅片静电消除仪,其特征在于,所述承载主体长度方向两端设置有安装孔。
4.根据权利要求1所述的硅片静电消除仪,其特征在于,所述承载主体采用航空铝合金材质,且表面抛光。
5.根据权利要求1所述的硅片静电消除仪,其特征在于,所述放电嘴采用铜合金材质。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1951159A (zh) * 2004-05-26 2007-04-18 修谷鲁电子机器股份有限公司 静电消除装置
KR20100078028A (ko) * 2008-12-30 2010-07-08 주식회사 동부하이텍 웨이퍼 정전기 제거 장치 및 그 방법
CN202921605U (zh) * 2012-11-21 2013-05-08 英利能源(中国)有限公司 一种静电除尘装置
CN103313497A (zh) * 2012-03-09 2013-09-18 深圳麦逊电子有限公司 Pcb自动测试机静电消除装置及其静电消除方法
JP2014093462A (ja) * 2012-11-06 2014-05-19 Sharp Corp 基板搬送装置
CN206098362U (zh) * 2016-10-31 2017-04-12 中硅索纳(厦门)新能源有限公司 应用于太阳能扩散设备的分片装置
CN211720802U (zh) * 2019-12-28 2020-10-20 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 一种硅片静电消除仪

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1951159A (zh) * 2004-05-26 2007-04-18 修谷鲁电子机器股份有限公司 静电消除装置
KR20100078028A (ko) * 2008-12-30 2010-07-08 주식회사 동부하이텍 웨이퍼 정전기 제거 장치 및 그 방법
CN103313497A (zh) * 2012-03-09 2013-09-18 深圳麦逊电子有限公司 Pcb自动测试机静电消除装置及其静电消除方法
JP2014093462A (ja) * 2012-11-06 2014-05-19 Sharp Corp 基板搬送装置
CN202921605U (zh) * 2012-11-21 2013-05-08 英利能源(中国)有限公司 一种静电除尘装置
CN206098362U (zh) * 2016-10-31 2017-04-12 中硅索纳(厦门)新能源有限公司 应用于太阳能扩散设备的分片装置
CN211720802U (zh) * 2019-12-28 2020-10-20 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 一种硅片静电消除仪

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