CN111025705A - 托盘及具有该托盘的机台 - Google Patents

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    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus

Abstract

本发明提供一种托盘及具有该托盘的机台，所述托盘包括一基座、多个第一支撑柱以及多个第二支撑柱，其中所述多个第一支撑柱以及所述多个第二支撑柱设置于所述基座上，所述多个第一支撑柱沿所述基座的中心线排列设置，所述多个第二支撑柱分散设置于除了所述基座的中心线的周围。本发明藉由减少基板与托盘的支撑结构的接触面积，从而防止显示面板生产过程中的良率损失。

Description

托盘及具有该托盘的机台
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种防止静电产生的托盘及具有该托盘的机台。
背景技术
在显示面板制程设备中托盘(Tray)作为基板(如薄膜晶体管阵列基板)的转移机构，在机台中用来将基板转移到工作台上，进行例如沉积、曝光和蚀刻显影等制程。然而在显示面板检测时有高达约10％的暗点产生，且暗点的分布位置与托盘的支撑结构所产生的静电呈正相关，严重影响显示面板的良率。
因此，为了防止静电产生造成基板的损害，有必要提供一种托盘及具有该托盘的机台，以解决现有技术存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种托盘及具有该托盘的机台，以防止静电产生造成基板的短路及损害。为实现上述目的，本发明第一方面提供一种托盘，包括:
一基座；
多个第一支撑柱，设置于所述基座上；以及
多个第二支撑柱，设置于所述基座上；
其中所述多个第一支撑柱沿所述基座的中心线排列设置，所述多个第二支撑柱分散设置于除了所述基座的中心线的周围。
可选地，所述多个第一支撑柱为抗静电材质，所述多个第二支撑柱为非导电材质。
可选地，所述多个第一支撑柱以及所述多个第二支撑柱均为抗静电材质。
进一步地，所述多个第一支撑柱以等间距沿所述基座的中心线排列设置。
可选地，所述多个第一支撑柱至少排列两排。
进一步地，所述多个第一支撑柱的高度由两侧往中心递减。
进一步地，所述多个第二支撑柱的高度由外圈往内圈递减。
进一步地，所述多个第一支撑柱的直径为5毫米至15毫米。
进一步地，所述多个第一支撑柱的直径为5毫米至25毫米。
本发明第二方面提供一种机台，其包括上述的托盘。
本发明通过减少基板与托盘的支撑结构的接触面积，减少基板从托盘卸载时可能产生静电，避免静电破坏基板上的半导体元件，从而防止液晶面板生产过程中的良率损失。另一方面，托盘的支撑结构可使用抗静电材质，进一步减少静电产生。
附图说明
图1为本发明实施例的托盘示意图。
图2为本发明实施例的基板从托盘的第一支撑柱剥离的示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并对本发明作进一步地详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，本发明说明书所使用的词语“实施例”意指用作实例、示例或例证，并不用于限定本发明。
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的实施例。本发明所提到的方向用语，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
请参照图1，图1为本发明实施例的托盘(Tray)10示意图。本发明实施例提供一种托盘10，其包括有一基座12、多个第一支撑柱14以及多个第二支撑柱16，其中所述多个第一支撑柱14以及所述多个第二支撑柱16设置于所述基座12上。于一实施例中，第一支撑柱14为具有抗静电材质的支撑柱，第二支撑柱16为非导电材质的支撑柱，例如使用具有高阻抗静电剂覆盖于所述多个第一支撑柱14上，使用塑胶材质作为所述多个第二支撑柱16的材料。可以理解的是，本发明并未对抗静电材质以及非导电材质的材料作具体的限制。
在本实施例中，所述多个第一支撑柱14沿所述基座12的中心线排列设置成一列，用以支撑基板的中心处。另外，所述多个第二支撑柱16则分散设置于除了所述基座12的中心线的周围，具体地为分散设置在第一支撑柱14所在之处之外的部份，用以支撑基板周围处。在本实施例中，所述多个第一支撑柱14与所述多个第二支撑柱16为圆柱状，其还可以为方柱或是三角柱等形状。
请配合图1，参照图2，在本实施例中，为了避免所述多个第一支撑柱14以及基板之间的张力造成基板不易剥离的问题，所述多个第一支撑柱14的高度由基板两侧往中心处逐渐降低，即两侧的第一支撑柱14的高度大于中心处的第一支撑柱14的高度。具体地，所述多个第一支撑柱14的高度为5毫米至15毫米，两侧的第一支撑柱14的高度优选地为10毫米，中心处的第一支撑柱14的高度优选地为5毫米。于另一实施例中，所述多个第一支撑柱14的高度也可以一致性排列。另外，所述多个第一支撑柱14的直径为5毫米至15毫米，若所述多个第一支撑柱14的直径太大，则在基板剥离时容易产生静电，若所述多个第一支撑柱14的直径太小，则可能会产生尖端放电造成对基板的损害，因此本发明的所述多个第一支撑柱14的直径优选地为10毫米。
在本实施例中，所述多个第二支撑柱16的高度为由外圈往内圈处逐渐降低，其目的同样为避免基板不易剥离的问题。具体地，所述多个第二支撑柱14的高度为5毫米至15毫米，外圈的第二支撑柱16的高度优选地为10毫米，内圈的第二支撑柱16的高度优选地为5毫米。于另一实施例中，所述多个第二支撑柱16的高度也可以一致性排列。另外，所述多个第二支撑柱16的直径为5毫米至25毫米，为了增加对基板的支撑，所述多个第二支撑柱16可以具有部份直径较大的支撑柱，例如位于中间圈的第二支撑柱16的直径为20毫米，其余的第二支撑柱16的直径为10毫米。
可以理解的是，当所述多个第一支撑柱14与所述多个第二支撑柱16具有相同的高度时，基板会因为其与支撑柱之间的张力而不易剥离，会有基板破裂的疑虑。
在本实施例中，所述多个第一支撑柱14以等间距排列。于另一实施例中，所述多个第一支撑柱14排成至少两排，以强化中心位置的支撑。多个第一支撑柱14与多个第二支撑柱16的数量可以根据需求在不脱离本发明的精神下修改。
在本实施例中，基板可以为薄膜晶体管阵列基板。
在本实施例中，所述托盘10可以应用于各种需要防止基板产生静电的机台，例如曝光机台。为了方便说明，以下以曝光机台为例来作说明。
在本实施例中，托盘10为一基板的转移机构，当基板需要进行曝光时，于机台装载/卸载(Load/Unload)平台中的基板会经由托盘10托起，将基板转移至曝光平台(stage)进行曝光制程。当曝光结束后，位于曝光平台的基板会再次被托盘10托起，并且转移至装载/卸载平台，以进行后续站点的制程。
结合图2所示，图2为本发明实施例的基板18从托盘10的多个第一支撑柱14剥离的示意图。可以理解的是，当基板18在被托盘10托起转移时，基板18会沿着方向11从托盘10的所述多个第一支撑柱14中剥离。本发明通过将现有技术中的中心支撑板以第一支撑柱14取代，减少基板18与托盘的支撑结构之间的接触面积。进一步地，第一支撑柱14为具有抗静电材质的支撑柱，因此得以大幅度地降低基板18在转移过程中静电的产生。
在本实施例中，为了有效率地防止静电产生，将现有技术中的中心支撑板以具有抗静电材质的第一支撑柱14取代，其余的部份则是使用非导电材质的第二支撑柱16作为支撑。然而，在另一实施例中，第二支撑柱16也可以为具有抗静电材质的支撑柱，达到更好的抗静电效果。
现有技术中，在点亮测试(Light On Inspection,LOI)时，基板上容易有暗点产生，本发明发明人了解到暗点的分布位置与托盘的支撑结构所产生的静电呈正相关，因而提出一种托盘及具有该托盘的机台，以解决此技术问题。
本发明藉由第一支撑柱减少了基板与托盘的支撑结构的接触面积，减少基板从托盘卸载时可能产生静电，避免静电破坏基板上的半导体元件，有效地防止基板在转移剥离时所产生的静电，击穿基板中的线路而造成短路，从而防止面板生产过程中的良率损失。另一方面，托盘的支撑结构可使用抗静电材质，进一步减少静电产生。
虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种托盘，其特征在于，包括：
一基座；
多个第一支撑柱，设置于所述基座上；以及
多个第二支撑柱，设置于所述基座上；
其中所述多个第一支撑柱沿所述基座的中心线排列设置，所述多个第二支撑柱分散设置于除了所述基座的中心线的周围。
2.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱为抗静电材质，所述多个第二支撑柱为非导电材质。
3.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱以及所述多个第二支撑柱均为抗静电材质。
4.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱以等间距沿所述基座的中心线排列设置。
5.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱至少排列两排。
6.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱的高度由两侧往中心递减。
7.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第二支撑柱的高度由外圈往内圈递减。
8.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱的直径为5毫米至15毫米。
9.根据权利要求1所述的托盘，其特征在于：所述多个第一支撑柱的直径为5毫米至25毫米。
10.一种机台，其特征在于：包括权利要求1-9任一项所述的托盘。
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