CN110993672A - 一种显示基板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板及其制备方法和显示装置。该显示基板包括基底，设置在基底上的像素界定层和发光单元，还包括设置在像素界定层和发光单元背离基底侧的触控电极；发光单元位于像素界定层所界定的区域内，发光单元包括依次远离基底设置的阳极、发光功能层和阴极；触控电极包括驱动电极、感应电极以及驱动电极与感应电极空间交叉形成的桥点，桥点位于像素界定层所在区域，桥点和阴极在基底上的正投影覆盖显示基板的整个显示区域，且桥点和阴极能对发光功能层发出的光线进行镜面反射。该显示基板能实现镜面显示，且相对于现有的镜面显示屏，无须再额外设置镜面反射层，简化了生产工艺并降低了生产成本。

Description

一种显示基板及其制备方法和显示装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法和显示装置。

背景技术

镜面显示屏是一种既有镜面反射功能，又有正常显示功能的显示屏。通常来说，可以在面板下方涂覆一层金属膜，利用金属膜的反射来实现镜面效果。

但是金属膜等镜面反射层需要额外单独制作，生产工艺复杂且制备成本高。

发明内容

本发明针对现有镜面显示屏的镜面反射层需要额外单独制作，生产工艺复杂且制备成本高的问题，提供一种显示基板及其制备方法和显示装置。该显示基板，通过使触控电极的桥点和发光单元的阴极对发光功能层发出的光线进行镜面反射，使该显示基板能实现镜面显示，相对于现有的镜面显示屏，该显示基板通过使其中固有的桥点和阴极作为镜面反射层，无须再额外设置镜面反射层，简化了生产工艺并降低了生产成本。

本发明提供一种显示基板，包括基底，设置在所述基底上的像素界定层和发光单元，还包括设置在所述像素界定层和所述发光单元背离所述基底侧的触控电极；所述发光单元位于所述像素界定层所界定的区域内，所述发光单元包括依次远离所述基底设置的阳极、发光功能层和阴极；所述触控电极包括驱动电极、感应电极以及所述驱动电极与所述感应电极空间交叉形成的桥点，所述桥点位于所述像素界定层所在区域，所述桥点和所述阴极在所述基底上的正投影覆盖所述显示基板的整个显示区域，且所述桥点和所述阴极能对所述发光功能层发出的光线进行镜面反射。

可选地，所述桥点和所述阴极对所述发光功能层发出光线的反射率范围均为90％-98％。

可选地，所述桥点采用铝合金、金、铜、钼、银、银钼合金中的任意一种材料；

所述阴极采用铝合金、金、铜、钼、银、银钼合金中的任意一种材料。

可选地，所述阴极背离所述基底的一侧还设置有平坦化层，所述平坦化层在对应所述像素界定层的位置设置有凹陷，所述桥点设置于所述凹陷中，且所述桥点的反射面和所述阴极的反射面位于同一平面上。

可选地，所述像素界定层采用黑矩阵光阻胶材料。

可选地，所述桥点在所述基底上的正投影面积大于或等于所述像素界定层在所述基底上的正投影面积。

可选地，所述桥点的表面电阻＜24ohm/sq。

本发明还提供一种上述显示基板的制备方法，包括：在基底上先后形成像素界定层和发光单元，然后形成触控电极；形成所述发光单元包括先后形成阳极、发光功能层和阴极的步骤；形成所述触控电极包括在所述显示基板的显示区形成驱动电极、感应电极以及在所述像素界定层所在区域形成桥点的步骤，所述桥点和所述阴极采用能使所述发光功能层发出的光线发生镜面反射的反射材料。

可选地，在形成所述像素界定层和所述发光单元之后，且在形成所述触控电极之前还包括：

形成平坦化层的步骤，形成所述平坦化层包括在对应所述像素界定层的位置形成凹陷的图形。

本发明还提供一种显示装置，包括上述显示基板。

本发明的有益效果：本发明所提供的显示基板，通过使触控电极的桥点和发光单元的阴极对发光功能层发出的光线进行镜面反射，使该显示基板能实现镜面显示，同时，桥点能对光线镜面反射，还能提高光线的利用率，相对于现有的镜面显示屏，该显示基板通过使其中固有的桥点和阴极作为镜面反射层，无须再额外设置镜面反射层，简化了生产工艺并降低了生产成本。

本发明所提供的显示装置，通过采用上述显示基板，不仅能实现镜面显示，而且还能简化其生产工艺并降低其生产成本。

附图说明

图1为本发明实施例1中显示基板的局部结构剖视图；

图2为本发明实施例1中显示基板的局部结构俯视图；

图3为本发明实施例1中发光单元的结构剖视图。

其中附图标记为：

1、基底；2、像素界定层；3、发光单元；31、阳极；32、发光功能层；321、空穴注入层；322、空穴传输层；323、发光层；324、电子传输层；325、电子注入层；33、阴极；4、触控电极；41、驱动电极；42、感应电极；43、桥点；5、平坦化层。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明一种显示基板及其制备方法和显示装置作进一步详细描述。

实施例1

本实施例提供一种显示基板，如图1和图2所示，包括基底1，设置在基底1上的像素界定层2和发光单元3，还包括设置在像素界定层2和发光单元3背离基底1侧的触控电极4；发光单元3位于像素界定层2所界定的区域内，发光单元3包括依次远离基底1设置的阳极31、发光功能层32和阴极33；触控电极4包括驱动电极41、感应电极42以及驱动电极41与感应电极42空间交叉形成的桥点43，桥点43位于像素界定层2所在区域，桥点43和阴极33在基底1上的正投影覆盖显示基板的整个显示区域，且桥点43和阴极33能对发光功能层32发出的光线进行镜面反射。

其中，如图3所示，发光功能层32包括空穴注入层321、空穴传输层322、发光层323、电子传输层324、电子注入层325，且空穴注入层321、空穴传输层322、发光层323、电子传输层324、电子注入层325依次远离基底1设置。桥点43能将照射至其上的光线反射回去用于显示，从而提高了光线的利用率，还能提升显示亮度和效果。

该显示基板，通过使触控电极4的桥点43和发光单元3的阴极33对发光功能层32发出的光线进行镜面反射，使该显示基板能实现镜面显示，同时，桥点43能对光线镜面反射，还能提高光线的利用率，相对于现有的镜面显示屏，该显示基板通过使其中固有的桥点43和阴极33作为镜面反射层，无须再额外设置镜面反射层，简化了生产工艺并降低了生产成本。

本实施例中，桥点43和阴极33对发光功能层32发出光线的反射率范围均为90％-98％。如此能够更好地提升该显示基板的镜面显示效果。

优选的，本实施例中，桥点43采用铝合金、金、铜、钼、银、银钼合金中的任意一种材料；阴极33采用铝合金、金、铜、钼、银、银钼合金中的任意一种材料。上述材料均对光线具有较高的反射率，能够更好地实现显示基板的镜面显示。

本实施例中，阴极33背离基底1的一侧还设置有平坦化层5，平坦化层5在对应像素界定层2的位置设置有凹陷，桥点43设置于凹陷中，且桥点43的反射面和阴极33的反射面位于同一平面上。凹陷的设置，能使桥点43的反射面和阴极33的反射面位于同一平面上，从而使桥点43的反射面和阴极33的反射面对光线的反射没有光程差，进而使显示基板的镜面显示效果更佳。

需要说明的是，平坦化层5也可以用有机封装层代替，在有机封装层中设置凹陷，使桥点43的反射面与阴极33的反射面基本处于同一平面上，或者，缩小桥点43的反射面与阴极33的反射面之间的间距，从而缩小或消除经桥点43和阴极33反射光线的光程差，提升镜面显示效果。

进一步优选的，本实施例中，像素界定层2采用黑矩阵光阻胶材料。黑矩阵光阻胶材料的像素界定层2能使相邻两像素相互绝缘，从而避免相邻像素之间的电场相互干扰，同时，黑矩阵光阻胶材料的像素界定层2还能遮挡光线，从而防止相邻像素之间的光线串扰，降低显示色偏。另外，将能够对光线进行镜面反射的桥点43设置在像素界定层2所在区域，能够对相邻像素之间的未经过黑矩阵光阻材料的漏光反射回去再次利用，从而有效提升了发光单元3发出光线的利用率。

本实施例中，桥点43在基底1上的正投影面积大于或等于像素界定层2在基底1上的正投影面积。通常情况下，桥点43在基底1上的正投影面积等于像素界定层2在基底1上的正投影面积，为了更好地提升发光单元3发出光线的利用率，可以将桥点43在基底1上的正投影面积设置为略大于像素界定层2在基底1上的正投影面积。如此能够对相邻像素之间的未经过黑矩阵光阻材料的漏光反射回去再次利用，从而有效提升了发光单元3发出光线的利用率。

本实施例中，桥点43的表面电阻＜24ohm/sq。如此能够确保触控电极4正常的触控性能。

基于显示基板的上述结构，本实施例还提供一种该显示基板的制备方法，包括：在基底上先后形成像素界定层和发光单元，然后形成触控电极；形成发光单元包括先后形成阳极、发光功能层和阴极的步骤；形成触控电极包括在显示基板的显示区形成驱动电极、感应电极以及在像素界定层所在区域形成桥点的步骤，桥点和阴极采用能使发光功能层发出的光线发生镜面反射的反射材料。

其中，像素界定层通过曝光、显影工艺形成。发光单元的阳极通过传统构图工艺形成。发光功能层采用蒸镀工艺形成。阴极采用传统构图工艺形成。触控电极采用传统构图工艺形成。具体各膜层的制备过程这里不再赘述。

本实施例中，在形成像素界定层和发光单元之后，且在形成触控电极之前还包括：形成平坦化层的步骤，形成平坦化层包括在对应像素界定层的位置形成凹陷的图形。

其中，平坦化层采用有机树脂材料形成，通过曝光、显影工艺即可在对应像素界定层的位置形成凹陷的图形。凹陷的形成，能使后续制备的桥点落入其中，加之通过调整发光单元各膜层的厚度，能使桥点的反射面与阴极的反射面位于同一平面上，从而使桥点反射的光线和阴极反射的光线没有光程差，进而提升了显示基板镜面显示的效果。

实施例1的有益效果：实施例1中所提供的显示基板，通过使触控电极的桥点和发光单元的阴极对发光功能层发出的光线进行镜面反射，使该显示基板能实现镜面显示，同时，桥点能对光线镜面反射，还能提高光线的利用率，相对于现有的镜面显示屏，该显示基板通过使其中固有的桥点和阴极作为镜面反射层，无须再额外设置镜面反射层，简化了生产工艺并降低了生产成本。

实施例2

本实施例提供一种显示装置，包括实施例1中的显示基板。

通过采用实施例1中的显示基板，不仅使该显示装置能实现镜面显示，而且还能简化该显示装置的生产工艺并降低其生产成本。

本发明所提供的显示装置可以为OLED面板、OLED电视、显示器、手机、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括基底，设置在所述基底上的像素界定层和发光单元，还包括设置在所述像素界定层和所述发光单元背离所述基底侧的触控电极；所述发光单元位于所述像素界定层所界定的区域内，所述发光单元包括依次远离所述基底设置的阳极、发光功能层和阴极；所述触控电极包括驱动电极、感应电极以及所述驱动电极与所述感应电极空间交叉形成的桥点，所述桥点位于所述像素界定层所在区域，其特征在于，所述桥点和所述阴极在所述基底上的正投影覆盖所述显示基板的整个显示区域，且所述桥点和所述阴极能对所述发光功能层发出的光线进行镜面反射。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述桥点和所述阴极对所述发光功能层发出光线的反射率范围均为90％-98％。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述桥点采用铝合金、金、铜、钼、银、银钼合金中的任意一种材料；

所述阴极采用铝合金、金、铜、钼、银、银钼合金中的任意一种材料。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阴极背离所述基底的一侧还设置有平坦化层，所述平坦化层在对应所述像素界定层的位置设置有凹陷，所述桥点设置于所述凹陷中，且所述桥点的反射面和所述阴极的反射面位于同一平面上。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层采用黑矩阵光阻胶材料。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述桥点在所述基底上的正投影面积大于或等于所述像素界定层在所述基底上的正投影面积。

7.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述桥点的表面电阻＜24ohm/sq。

8.一种如权利要求1-7任意一项所述的显示基板的制备方法，包括：在基底上先后形成像素界定层和发光单元，然后形成触控电极；形成所述发光单元包括先后形成阳极、发光功能层和阴极的步骤；形成所述触控电极包括在所述显示基板的显示区形成驱动电极、感应电极以及在所述像素界定层所在区域形成桥点的步骤，其特征在于，所述桥点和所述阴极采用能使所述发光功能层发出的光线发生镜面反射的反射材料。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述像素界定层和所述发光单元之后，且在形成所述触控电极之前还包括：

形成平坦化层的步骤，形成所述平坦化层包括在对应所述像素界定层的位置形成凹陷的图形。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的显示基板。

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