CN110970323A - 一种基板处理装置及处理系统 - Google Patents

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Abstract

一种基板处理装置，包括抛光单元、清洗单元以及传输机构，所述抛光单元设置在所述基板处理装置下部，所述清洗单元设置在所述抛光单元之上位于所述基板处理装置上部，所述传输机构设置在所述抛光单元侧面以将基板从所述抛光单元移动至所述清洗单元。

Description

一种基板处理装置及处理系统
技术领域
本发明属于化学机械抛光技术领域，具体而言，涉及一种基板抛光及清洗的装置及系统。
背景技术
相关技术中，现有的基板加工设备，通常有一组基板抛光单元和一组基板清洗单元，穿行生产，效率比较低。个别基板加工设备具有两组抛光单元或者两组清洗单元，但无法形成两组完全独立的生产基板的系统。
其中，具有两组抛光单元或者两组清洗单元的基板加工设备，无法形成完全独立生产的系统，智能抛光或者清洗效率提高，但对整机产率提高不多，并且，两组系统不完全独立，无论是抛光单元还是清洗单元都未达到两组，一旦抛光单元或者清洗单元出问题，整个基板加工设备都要停机，影响生产效率。此外，现有的基板处理设备中的抛光单元和清洗单元设置在大体相同的高度，占用较大的平面占地空间。
发明内容
本发明旨在至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出了一种基板处理装置，包括抛光单元、清洗单元以及传输机构，所述抛光单元设置在所述基板处理装置下部，所述清洗单元设置在所述抛光单元之上位于所述基板处理装置上部，所述传输机构设置在所述抛光单元侧面以将基板从所述抛光单元移动至所述清洗单元。
根据本发明的基板处理装置，所述抛光单元包括抛光盘组件、承载头组件、供液组件、修整器组件以及抛光检测组件，使得所述抛光单元可以进行基板的化学机械抛光以对基板进行平坦化处理。
根据本发明的基板处理装置，所述清洗单元包括基板旋转组件、流体喷射组件、通风组件以及至少一层可以竖直升降的环状壁，使得所述清洗单元可以实现对抛光处理后的基板进行清洁及干燥的作业。
根据本发明的基板处理装置，所述传输机构包括可沿所述抛光单元长度、高度、或宽度方向移动的机械臂以及机械手，所述机械手具有基板固定装置，可以将基板从所述抛光单元外部搬运至所述抛光单元，也可以将基板从所述抛光单元搬运至所述清洗单元或将基板移出所述清洗单元。
根据本发明的基板处理装置，所述基板处理装置还具有至少一条导轨，所述传输机构可沿所述导轨移动以传输基板。
根据本发明的基板处理装置，所述导轨平行于所述抛光单元的一个侧面设置。
根据本发明的基板处理装置，所述传输机构可移动连接于所述导轨，所述传输机构具有竖直运动机构及驱动机构，使得所述传输机构可沿水平方向和/或竖直方向移动以搬运基板。
此外，本发明还提出了一种基板处理系统，包括至少两套基板处理装置、导轨、缓冲台，所述基板处理装置沿所述导轨对称设置，位于所述导轨两侧；所述基板处理装置包括抛光单元、清洗单元以及传输机构，所述抛光单元设置在所述基板处理装置下部，所述清洗单元设置在所述抛光单元之上位于所述基板处理装置上部；所述传输机构可沿所述导轨移动并且所述传输机构具有可竖直移动的机械手以将基板在所述抛光单元、清洗单元、缓冲台之间移动，并将所述基板移入/移出所述基板处理系统。
根据本发明的基板处理系统，所述基板处理系统具有四套基板处理装置，所述四套基板处理装置沿所述导轨两侧等距均匀设置。
根据本发明的基板处理系统，所述基板处理系统具有六套基板处理装置，所述六套基板处理装置沿所述导轨两侧等距均匀设置。
根据本发明的基板处理系统，所述基板处理系统具有八套基板处理装置，所述八套基板处理装置沿所述导轨两侧等距均匀设置。
作为对上述基板处理系统的一种替换，本发明还提出了一种基板处理系统，包括两个或多个抛光单元、至少一个清洗单元、缓冲台、导轨、传输结构，所述传输机构沿水平设置的所述导轨运动以将基板在所述抛光单元、清洗单元、缓冲台之间移动，所述清洗单元设置于所述抛光单元上方以对抛光后的基板进行清洗和/或干燥处理，所述清洗单元的数量小于等于所述抛光单元的数量。
本发明的有益效果包括：节省基板处理装置的占地面积，提升了基板处理装置的整体集成性，可以在单位面积上设置更多的基板抛光单元从而提升整套抛光装置的工作效率和产量。
附图说明
通过结合以下附图所作的详细描述，本发明的优点将变得更清楚和更容易理解，这些附图只是示意性的，并不限制本发明的保护范围，其中：
图1是根据本发明的基板处理装置的结构示意图；
图2是根据本发明的基板处理系统的结构示意图；
图3是根据本发明的基板处理系统的改进实施例的平面结构示意图；
其中，数字附图标记的含义如下：
1-基板处理装置；
10-抛光单元；101-抛光盘；102-抛光头；103-修整器组件；104-供液组件；
20-清洗单元；201-通风组件；202-环状壁；
30-传输机构；302-导轨；303-导轨；301-机械臂；304-机械手；304a-基板固定装置；
40-支撑框架；50-电气控制单元。
具体实施方式
下面结合具体实施例及其附图，对本发明所述技术方案进行详细说明。在此记载的实施例为本发明的特定的具体实施方式，用于说明本发明的构思；这些说明均是解释性和示例性的，不应理解为对本发明实施方式及本发明保护范围的限制。除在此记载的实施例外，本领域技术人员还能够基于本申请权利要求书及其说明书所公开的内容采用显而易见的其它技术方案，这些技术方案包括采用对在此记载的实施例的做出任何显而易见的替换和修改的技术方案。
本说明书的附图为示意图，辅助说明本发明的构思，示意性地表示各部分的形状及其相互关系。应当理解的是，为了便于清楚地表现出本发明实施例的各部件的结构，各附图之间并未按照相同的比例绘制，相同的参考标记用于表示附图中相同的部分。
根据本发明的基板处理装置1如图1和图2所示，包括抛光单元10、清洗单元20以及传输机构30，所述抛光单元10的下部具有支撑框架40，整体上看，设置在所述基板处理装置1下部；所述清洗单元20设置在所述抛光单元10之上位于所述基板处理装置1上部，所述传输机构30设置在所述抛光单元10的侧面以将基板从所述抛光单元10向上移动至所述清洗单元20，并且可以将基板从所述清洗单元20搬移出来运动至其他地方。根据本发明的基板处理装置1还具有电气控制单元50，该电气控制单元50用于为抛光单元10、清洗单元20、传输机构30供电并控制输入至他们的电控信号。
根据本发明的基板处理装置1中的抛光单元10包括抛光盘组件、承载头组件101、供液组件104、修整器组件103以及抛光检测组件(未示出)，使得所述抛光单元10可以进行基板的化学机械抛光以对基板进行平坦化处理。
根据本发明的基板处理装置1中所述清洗单元20包括基板旋转组件(未示出)、流体喷射组件(未示出)、在基板清洗及干燥期间保持清洗腔室和/或干燥腔室空气流通的通风组件201以及至少一层可以竖直升降的环状壁202，使得所述清洗单元可以实现对抛光处理后的基板进行清洁及干燥的作业。
如图2所示，根据本发明的基板处理装置1的所述传输机构30包括可沿所述抛光单元长度、高度、或宽度方向移动的机械臂301以及机械手304，所述机械手304具有基板固定装置304a，可以将基板从所述抛光单元10外部搬运至所述抛光单元10，也可以将基板从所述抛光单元10搬运至所述清洗单元20或将基板移出所述清洗单元20。
如图2所示，根据本发明的基板处理装置1还具有导轨302及导轨303，所述传输机构30可沿所述导轨移动以沿不同方向传输基板，其中，所述导轨302和/或导轨303可平行于所述抛光单元10的一个侧面设置，如图2所示，水平导轨302沿平行于抛光单元10的进出基板的一侧水平设置，并且位于所述基板处理装置1的底部，所述竖直导轨303可移动的设置在水平导轨302上，所述传输装置30可移动的设置在竖直导轨303上，因此，传输装置30可以沿竖直导轨303和水平导轨302运动，从而实现沿水平方向B和竖直方向A的运动。
如图2所示，本发明还提出了一种基板处理系统，包括6套基板处理装置1、导轨302和导轨303、缓冲台603，所述基板处理装置1沿所述导轨302对称相对设置，位于所述导轨302两侧；所述基板处理装置1包括抛光单元10、清洗单元20以及传输机构30，所述抛光单元设置10在所述基板处理装置1下部，所述清洗单元20设置在所述抛光单元10之上位于所述基板处理装置1上部；所述传输机构30可沿所述导轨302、303移动并且所述传输机构30具有可移动的机械手304以将基板在所述抛光单元10、清洗单元20、缓冲台603之间移动并将所述基板移入/移出所述基板处理系统。
需要理解的是，尽管图2中示出了6套基板处理装置并排对称设置的实施例，作为本发明的实施例的变体或替换，根据本发明的基板处理系统可具有2套、4套或8套沿导轨对称设置的基板处理装置1，并且其中一些基板处理装置可以不具有清洗单元20，换言之，其中的两个或多个抛光单元10可以共用一个或多个清洗单元20，也就是说，根据本发明的基板处理系统中的清洗单元20的数量可以少于或等于抛光单元10的数量。
如图3所示根据本发明的基板处理系统还可以包括基板缓冲台603，基板移载单元602，基板传送盒601等，从而实现基板装载取片，移动传送及传输、抛光、清洗等CMP全流程处理作业，实现基板的“干进干出”处理。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (12)

1.一种基板处理装置，包括抛光单元、清洗单元以及传输机构，所述抛光单元设置在所述基板处理装置下部，所述清洗单元设置在所述抛光单元之上位于所述基板处理装置上部，所述传输机构设置在所述抛光单元侧面以将基板从所述抛光单元移动至所述清洗单元。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述抛光单元包括抛光盘组件、承载头组件、供液组件、修整器组件以及抛光检测组件，使得所述抛光单元可以进行基板的化学机械抛光以对基板进行平坦化处理。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元包括基板旋转组件、流体喷射组件、通风组件以及至少一层可以竖直升降的环状壁，使得所述清洗单元可以实现对抛光处理后的基板进行清洁及干燥的作业。
4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述传输机构包括可沿所述抛光单元长度、高度、或宽度方向移动的机械臂以及机械手，所述机械手具有基板固定装置，可以将基板从所述抛光单元外部搬运至所述抛光单元，也可以将基板从所述抛光单元搬运至所述清洗单元或将基板移出所述清洗单元。
5.如权利要求1至4中任一个所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板处理装置还具有至少一条导轨，所述传输机构可沿所述导轨移动以传输基板。
6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述导轨平行于所述抛光单元的一个侧面设置。
7.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述传输机构可移动连接于所述导轨，所述传输机构具有竖直运动机构及驱动机构，使得所述传输机构可沿水平方向和/或竖直方向移动以搬运基板。
8.一种基板处理系统，包括至少两套基板处理装置、导轨、缓冲台，所述基板处理装置沿所述导轨对称设置，位于所述导轨两侧；所述基板处理装置包括抛光单元、清洗单元以及传输机构，所述抛光单元设置在所述基板处理装置下部，所述清洗单元设置在所述抛光单元之上位于所述基板处理装置上部；所述传输机构可沿所述导轨移动并且所述传输机构具有可竖直移动的机械手以将基板在所述抛光单元、清洗单元、缓冲台之间移动，并将所述基板移入/移出所述基板处理系统。
9.如权利要求8述的基板处理系统，其特征在于，所述基板处理系统具有四套基板处理装置，所述四套基板处理装置沿所述导轨两侧等距均匀设置。
10.如权利要求8述的基板处理系统，其特征在于，所述基板处理系统具有六套基板处理装置，所述六套基板处理装置沿所述导轨两侧等距均匀设置。
11.如权利要求8述的基板处理系统，其特征在于，所述基板处理系统具有八套基板处理装置，所述八套基板处理装置沿所述导轨两侧等距均匀设置。
12.一种基板处理系统，包括两个或多个抛光单元、至少一个清洗单元、缓冲台、导轨、传输结构，所述传输机构沿水平设置的所述导轨运动以将基板在所述抛光单元、清洗单元、缓冲台之间移动，所述清洗单元设置于所述抛光单元上方以对抛光后的基板进行清洗和/或干燥处理，所述清洗单元的数量小于等于所述抛光单元的数量。
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