CN110965027A - 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统 - Google Patents

蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统 Download PDF

Info

Publication number
CN110965027A
CN110965027A CN201911207449.4A CN201911207449A CN110965027A CN 110965027 A CN110965027 A CN 110965027A CN 201911207449 A CN201911207449 A CN 201911207449A CN 110965027 A CN110965027 A CN 110965027A
Authority
CN
China
Prior art keywords
evaporation
preheating
materials
heating batch
vacuum degree
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201911207449.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110965027B (zh
Inventor
赵迪
辛小刚
朱修剑
王宝友
孙飞
王卫卫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Original Assignee
Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd filed Critical Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Priority to CN201911207449.4A priority Critical patent/CN110965027B/zh
Publication of CN110965027A publication Critical patent/CN110965027A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110965027B publication Critical patent/CN110965027B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统。蒸镀预加热方法包括：根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次；按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热。本发明公开的蒸镀预加热方法通过对蒸镀材料分批次进行预加热，能够有效地对蒸镀腔室内的真空度进行管控，进而可以提高蒸镀质量，提高产品良率。

Description

蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统
技术领域
本发明属于显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示具有成本低、视角宽、驱动电压低、响应速度快、发光色彩丰富、制备工艺简单、可实现大面积柔性显示等优点，被认为最具发展前景的显示技术之一。
有机发光二极管包括对应每个像素区域层叠设置的阳极、有机发光层和阴极，阴极采用蒸镀的方式形成在有机发光层上。阴极所用的金属材料在量产前需要在位于蒸镀腔室内的蒸镀坩埚内进行预加热，以除去残留的水汽和新生氧化层，保证蒸镀材料的纯度，在该除杂过程中会释放大量的气体使蒸镀腔室内的真空度上升，超过管控范围，导致产线工艺无法保证，影响蒸镀质量，进而影响产品质量。
因此，需要对蒸镀腔室的真空度进行管控，以提高蒸镀质量。
发明内容
本发明实施例提供了一种蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统，旨在对蒸镀腔室的真空度进行管控，以提高蒸镀质量。
第一方面，本发明提供一种蒸镀预加热方法，包括：根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次；按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热。
根据本发明的一个方面，加热批次序列中，根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次，包括：查询预设的性能指标库，确定与各蒸镀材料的类别相关联的稳定性指标，性能指标库内存储有多组相互关联的材料类别和稳定性指标；根据各蒸镀材料所对应的稳定性指标，对各蒸镀材料进行排序，得到至少两种待加热的蒸镀材料的加热批次。
根据本发明的一个方面，稳定性指标包括水氧吸收性能指标。
根据本发明的一个方面，按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热，包括：按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行持续目标时长的预加热。
根据本发明的一个方面，按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行持续目标时长的预加热之前，预加热方法还包括：根据各蒸镀材料的类别和质量，确定各蒸镀材料所对应的目标时长；按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行持续目标时长的预加热，进一步包括：按照所确定的加热批次，以所对应的目标时长对各蒸镀材料进行预加热。
根据本发明的一个方面，按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热，包括：按照所确定的加热批次，启动对首加热批次的蒸镀材料的预加热；在检测到蒸镀材料所在蒸镀腔室的真空度回升后再下降至预设气压阈值时，启动下一加热批次的蒸镀材料的预加热。
根据本发明的一个方面，蒸镀材料包括三种，三种蒸镀材料为银、镱和镁。
根据本发明的一个方面，蒸镀材料银和镱在同一加热批次进行预加热。
第二方面，本发明提供一种蒸镀预加热系统，包括：蒸镀腔室；至少两个蒸镀源，位于蒸镀腔室内，用于对至少两种蒸镀材料进行预加热；控制器，与至少两个蒸镀源耦合，用于：根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次；按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热。
根据本发明的一个方面，蒸镀预加热系统还包括用于监测蒸镀腔室内真空度的真空度监测模块，控制器连接真空度监测模块并自真空度监测模块获取所监测到的真空度，控制器还用于：在确定所获取到的真空度回升后再下降至预设气压阈值时，启动下一加热批次的蒸镀材料的预加热。
本发明实施例中，根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别确定各蒸镀材料的加热批次，再按照所确定的加热批次对各蒸镀材料进行预加热，相较于相关技术中对各蒸镀材料同时进行预加热，短时间内释放大量的气体，气体累积使蒸镀腔室的真空度超出管控范围，而影响蒸镀质量，本实施例的蒸镀预加热方法通过对至少两种蒸镀材料分批次进行预加热，能够有效地对蒸镀腔室内的真空度进行管控，进而可以提高蒸镀质量，提高产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种蒸镀预加热方法的流程图；
图2是本发明实施例提供的另一种蒸镀预加热方法的流程图；
图3是本发明实施例提供的又一种蒸镀预加热方法的流程图；
图4是本发明实施例提供的一种蒸镀腔室真空度变化的示意图；
图5是本发明实施例提供的另一种蒸镀腔室真空度变化的示意图；
图6是本发明实施例的一种蒸镀预加热系统的结构示意图。
图中：
10-蒸镀腔室；20-蒸镀源；30-可转动底座。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
下面结合图1至图6对本发明实施例的蒸镀材料的预加热方法及蒸镀系统进行详细描述。
请参阅图1所示，图1是本发明实施例提供的一种蒸镀预加热方法的流程图。本发明实施例的蒸镀预加热方法包括如下步骤：
步骤100，根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次。
对于不同类别的蒸镀材料，其加热过程中所释放的气体的量不同，可以根据各蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次。可以理解的是，每个加热批次可以包括至少一种蒸镀材料。
步骤200，按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热。
该步骤中，按照上一步骤中确定的加热批次，对各蒸镀材料进行预加热。通过对各蒸镀材料进行预加热，可以除去各蒸镀材料的水氧等杂质，提高蒸镀材料的纯度，同时为后续的蒸镀过程做准备。
本实施例中，根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别确定各蒸镀材料的加热批次，再按照所确定的加热批次对各蒸镀材料进行预加热，相较于相关技术中对各蒸镀材料同时进行预加热，短时间内释放大量的气体，气体累积使蒸镀腔室的真空度超出管控范围，而影响蒸镀质量，本实施例的蒸镀预加热方法通过对至少两种蒸镀材料分批次进行预加热，能够有效地对蒸镀腔室内的真空度进行管控，进而可以提高蒸镀质量，提高产品良率。
在一些可选的实施例中，请参阅图2所示，图2是本发明实施例提供的另一种蒸镀预加热方法的流程图。步骤100可以包括：
步骤101，查询预设的性能指标库，确定与各蒸镀材料的类别相关的稳定性指标。
该步骤中，性能指标库内存储有多组相互关联的材料类别和稳定性指标。通过查询预设的性能指标库，可以确定各蒸镀材料的稳定性指标。
步骤102，根据各蒸镀材料所对应的稳定性指标，对各蒸镀材料进行排序，得到至少两种待加热的蒸镀材料的加热批次。
可选的，本实施例的稳定性指标可以包括水氧吸收性能指标。水氧吸收性能指标用于表征蒸镀材料的吸收水氧的能力。
本实施例中，具体的可以根据各蒸镀材料的水氧吸收性能指标对各蒸镀材料进行排序，例如，吸收水氧能力较弱的蒸镀材料的加热批次靠前，而吸收水氧能力较强的蒸镀材料的加热批次靠后。由于吸收水氧能力较弱的蒸镀材料，对其先预加热后释放的气体较少，对蒸镀腔室的真空度影响较小，能够使蒸镀腔室的真空度保持在预设的真空范围内，不会对蒸镀过程产生影响，并且，由于该预加热过程不会产生过多的气体，可以避免在后续加热批次的蒸镀材料预加热释放气体与之前加热批次的释放的气体进行累积，使蒸镀腔室内的气体总量上升较快，进而容易对蒸镀腔室内的真空度进行初步的管控，可以防止对吸收水氧能力较强的蒸镀材料先预加热后释放的气体较多，不易管控，而超出预设的真空度范围，对蒸镀过程产生影响。
在一些可选的实施例中，至少一个加热批次中可以包括两种以上的蒸镀材料。例如，可以将两种吸收水氧能力较弱的蒸镀材料归到同一加热批次中。对该加热批次的蒸镀材料进行预加热时，由于这两种材料的水氧吸收能力较弱，其所包含的水氧较少，不会释放较多的气体。
本实施例中，将两种以上的蒸镀材料归到同一个加热批次中，同时进行预加热，能够提高预加热速率，减少等待时长，从而提高蒸镀效率。
在一些可选的实施例中，步骤200具体可以包括步骤201：按照所确定的加热批次，对各蒸镀材料进行持续目标时长的预加热。
对于各蒸镀材料进行持续目标时长的预加热，能够保证各蒸镀材料所包含的水氧等杂质得到充分释放，提升各蒸镀材料的纯度。
由于不同类别的蒸镀材料，其所吸收水氧的能力不同，且对于同种材料，其质量越多，含有的水氧越多，因此，为了保证蒸镀材料内所包含的水氧在预加热过程中充分释放，并且，精确的控制加热时长，减少相邻加热批次的蒸镀材料的预加热等待时间，在步骤200前还可以包括步骤300：根据各蒸镀材料的类别和质量，确定各蒸镀材料所对应的目标时长。
之后，再按照所确定的加热批次，以对应的目标时长对各蒸镀材料进行预加热。
在一些可选的实施例中，请继续参阅图3所示，图3是本发明实施例提供的又一种蒸镀预加热方法流程图，本实施例中，步骤200还可以包括：
步骤202，按照所确定的加热批次，启动对首加热批次的蒸镀材料的预加热。
步骤203，在检测到蒸镀材料所在的蒸镀腔室的真空度回升后下降至预设气压阈值时，启动下一加热批次的蒸镀材料的预加热。
在对各加热批次的蒸镀材料进行预加热过程中，蒸镀材料在释放气体的同时，利用抽气设备对蒸镀材料所在的蒸镀腔室进行抽气处理，以使蒸镀腔室内的真空度维持在预设范围内。在对当前加热批次的蒸镀材料的预加热过程中，可以持续监测蒸镀腔室内的真空度，以便于实时获取蒸镀腔室的真空度，并当真空度回升后再下降至预设气压阈值时，确定当前时间为下一加热批次的蒸镀材料的预加热时间，在该时间对下一加热批次的蒸镀材料进行预加热。
本实施例中，由于在对当前加热批次的蒸镀材料预加热过程中，加热一定时间后蒸镀材料才开始释放气体，前期由于抽气设备的抽速大于当前蒸镀材料释放气体的速度，因此，真空度会持续下降；随着蒸镀材料释放气体速度的增加，当蒸镀材料释放气体的速度等于抽气设备的抽速后，真空度降至最低点；之后一段时间内，蒸镀材料释放气体的速度大于抽气设备的抽速，蒸镀腔室内真空度逐渐回升，但是蒸镀材料释放气体的速度会逐渐减小，当蒸镀材料释放气体的速度再次等于蒸镀材料释放气体的速度时，真空度会升至最高点；之后蒸镀材料释放气体的速度小于抽气设备的抽速，真空度再次逐渐下降，当下降至预设气压阈值时，可以启动下一加热批次的蒸镀材料的预加热。由于对于下一加热批次的蒸镀材料进行预加热前期，该下一加热批次的蒸镀材料不会释放气体或者释放气体的量较少，可以保证真空度在管控范围内，因此，可以在当前加热批次的蒸镀材料预加热过程中即开启下一加热批次的蒸镀材料的预加热。以此，可以提高预加热效率。
需要说明的是，在对首加热批次的蒸镀材料加热前，可以先通过抽气设备对蒸镀腔室进行抽气处理，使真空度降至相应的预设气压阈值时，再对首加热批次的蒸镀材料进行预加热，以此，既可以保证蒸镀腔室的真空度在管控范围内，还可以提升预加热效率。
本实施例中，各加热批次的蒸镀材料预加热过程中的或者首加热批次的蒸镀材料预加热前的蒸镀腔室内预设气压阈值可以由操作人员根据实际经验获得，还可以通过多次实验获得。真空度下降至相应的预设气压阈值后再对相应加热批次的蒸镀材料进行预加热，可以避免下一加热批次的蒸镀材料预加热释放的气体与当前加热批次的蒸镀材料释放的气体累积量过高，使蒸镀腔室的真空度超过管控范围，还可以减少相邻加热批次的蒸镀材料的等待时长，提高预加热效率，进一步提升蒸镀腔室的工作效率。
下面以蒸镀有机发光二极管的阴极为例进行说明。有机发光二极管的阴极蒸镀涉及到三种蒸镀材料，三种蒸镀材料为银、镱和镁。这三种蒸镀材料中，吸收水氧的能力镁最高、镱次之、银最低。在进行有机发光二极管的阴极蒸镀过程中，对蒸镀腔室内的真空度进行实施监测，以保证真空度在管控范围内，本实施例中，在蒸镀和预加热过程中，阴极蒸镀腔室的真空度小于1×10-4Pa。
在一些可选的实施例中，银、镱和镁三种蒸镀材料可以在不同加热批次进行预加热。
先对银进行预加热，在对银预加热过程中，真空度先回升后下降，当监测到蒸镀腔室的真空度回升后下降至4×10-5Pa，确定当前时间为镱的预加热起始时间，在该时间对镱进行预加热。
在对镱进行预加热过程中，真空度先回升后下降，当监测到真空度回升后下降至5×10-5Pa，确定当前时间为镁的预加热起始时间，在该时间对镁进行预加热。
如图4所示，图4示出了本实施例的加热过程中，曲线示例性的示出了蒸镀腔室内真空度的变化过程以及对各材料进行预加热的相应的时间点。本实施例中银预加热起始时间对应的真空度例如可以为3×10-5Pa，镱预加热起始时间对应的真空度例如可以为4×10-5Pa，镁预加热起始时间对应的真空度例如可以为5×10-5Pa。
本实施例中，将三种蒸镀材料分为三个加热批次进行加热，便于对蒸镀腔室的真空度进行管控。
在另一些可选的实施例中，银和镱可以在同一加热批次进行预加热。
先对同一批次的银和镱进行预加热，在对银和镱预加热过程中，真空度先回升后下降，当监测到蒸镀腔室的真空度回升后下降至5×10-5Pa，确定当前时间为镁的预加热起始时间，在该时间对镁进行预加热。
如图5所示，图5示出了本实施例的加热过程中，曲线示例性的示出了蒸镀腔室内真空度的变化过程以及对各材料进行预加热的相应的时间点。本实施例中银、镱预加热起始时间对应的真空度例如可以为3×10-5Pa，镁预加热起始时间对应的真空度例如可以为5×10-5Pa。
本实施例中，将吸收水氧能力较弱的、释放放气较少的银和镱归为同一加热批次，同时对这两种蒸镀材料进行预加热，当真空度回升后下降至预设值后，再对镁进行预加热，可以减少等待时长，提高预加热效率，进一步提升蒸镀腔室的工作效率。
本发明还提供了一种蒸镀系统，请参阅图6所示，图6是本发明实施例提供的一种蒸镀预加热系统的结构示意图。
本发明实施例的蒸镀预加热系统包括蒸镀腔室10、位于蒸镀腔室内的至少两个蒸镀源以及控制器(图中未示出)。
至少两个蒸镀源20用于对至少两种蒸镀材料进行预加热，以除去各蒸镀材料的水氧等杂质，提高蒸镀材料的纯度，同时为后续的蒸镀过程做准备。
控制器与至少两个蒸镀源20耦合，用于根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各蒸镀材料的加热批次，并按照所确定的加热批次对各蒸镀材料进行预加热。
本实施例的蒸镀预加热系统，控制器根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别确定各蒸镀材料的加热批次，再按照所确定的加热批次控制至少两个蒸镀与20对各蒸镀材料进行预加热，相较于相关技术中控制各蒸镀源20同时对各蒸镀材料进行预加热，短时间内释放大量的气体，气体累积使蒸镀腔室10的真空度超出管控范围，而影响蒸镀质量，本实施例的蒸镀预加热系统通过对至少两种蒸镀材料分批次进行预加热，能够有效地对蒸镀腔室10内的真空度进行管控，进而可以提高蒸镀质量，提高产品良率。
在一些可选的实施例中，蒸镀预加热系统还包括用于监测蒸镀腔室10内真空度的真空监测模块，控制器连接真空度监测模块并自真空度监测模块获取所监测到的真空度；控制器还用于在确定所获取到的真空度回升后再下降至预设气压阈值时，启动下一加热批次的蒸镀材料的预加热。
本实施例中，各加热批次的蒸镀材料预加热过程中的或者首加热批次的蒸镀材料预加热前的蒸镀腔室内预设气压阈值可以由操作人员根据实际经验获得，还可以通过多次实验获得。真空度下降至相应的预设气压阈值后再对相应加热批次的蒸镀材料进行预加热，可以避免下一加热批次的蒸镀材料预加热释放的气体与当前加热批次的蒸镀材料释放的气体累积量过高，使蒸镀腔室的真空度超过管控范围，还可以减少相邻加热批次的蒸镀材料的等待时长，提高预加热效率，进一步提升蒸镀腔室的工作效率。
本实施例的控制器可以执行上述任一实施例的蒸镀预加热方法的步骤，因此，具有上述实施例的蒸镀预加热方法的有益效果，在此不再赘述。
可以理解的是，上述实施例中，蒸镀源20可以包括加热装置和坩埚，加热装置环绕坩埚设置，以对坩埚均匀加热，保证位于坩埚内的蒸镀材料受热的一致性。
对于蒸镀源的类型本发明不做限制，可以为点蒸镀源、线蒸镀源和面蒸镀源中的一种或几种。可以根据实际蒸镀的需求选用匹配的蒸镀源。
上述实施例中，蒸镀腔室10内可以包括多个可转动底座30，每个可转动底座30上设置有对同种蒸镀源加热的蒸镀源20。对于每个转动底座30上的多个蒸镀源20，其中一个蒸镀源20位于蒸镀位置，其中另一蒸镀源20位于预加热位置。上述实施例的蒸镀预加热方法为对处于预加热位置的蒸镀源20内的蒸镀材料的预加热方法。当处于蒸镀位置的蒸镀源20内的蒸镀材料消耗完或消耗至预设值之前，处于预加热位置的蒸镀源20内的蒸镀材料已完成预加热，释放了水氧等杂质。当处于蒸镀位置的蒸镀源20内的蒸镀材料消耗完或消耗至预设值时，控制器可以控制可转动底座30旋转，以使完成预加热的蒸镀源20转动至蒸镀位置，接替进行蒸镀。
上述实施例中，当蒸镀材料完成放气，可以对其进行阶梯式降温，防止温度骤降而对蒸镀材料的质量和/或放置蒸镀材料的设备造成影响。
还需要说明的是，本说明书中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本说明书不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。
以上，仅为本说明书的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本说明书的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本说明书揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本说明书的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种蒸镀预加热方法，其特征在于，包括：
根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各所述蒸镀材料的加热批次；
按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行预加热。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各所述蒸镀材料的加热批次，包括：
查询预设的性能指标库，确定与各所述蒸镀材料的类别相关联的稳定性指标，所述性能指标库内存储有多组相互关联的材料类别和稳定性指标；
根据各所述蒸镀材料所对应的稳定性指标，对各蒸镀材料进行排序，得到所述至少两种待加热的蒸镀材料的加热批次。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述稳定性指标包括水氧吸收性能指标。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行预加热，包括：
按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行持续目标时长的预加热。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行持续目标时长的预加热之前，所述预加热方法还包括：
根据各蒸镀材料的类别和质量，确定各所述蒸镀材料所对应的目标时长；
所述按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行持续目标时长的预加热，进一步包括：
按照所确定的所述加热批次，以所对应的目标时长对各所述蒸镀材料进行预加热。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行预加热，包括：
按照所确定的所述加热批次，启动对首加热批次的所述蒸镀材料的预加热；
在检测到所述蒸镀材料所在蒸镀腔室的真空度回升后再下降至预设气压阈值时，启动下一加热批次的所述蒸镀材料的预加热。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述蒸镀材料包括三种，三种所述蒸镀材料为银、镱和镁。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述蒸镀材料银和镱在同一加热批次进行预加热。
9.一种蒸镀预加热系统，其特征在于，包括：
蒸镀腔室；
至少两个蒸镀源，位于所述蒸镀腔室内，用于对至少两种蒸镀材料进行预加热；
控制器，与所述至少两个蒸镀源耦合，用于：根据至少两种待加热的蒸镀材料的类别，确定各所述蒸镀材料的加热批次；按照所确定的所述加热批次，对各所述蒸镀材料进行预加热。
10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述蒸镀预加热系统还包括用于监测所述蒸镀腔室内真空度的真空度监测模块，所述控制器连接所述真空度监测模块并自所述真空度监测模块获取所监测到的真空度，所述控制器还用于：在确定所获取到的真空度回升后再下降至预设气压阈值时，启动下一加热批次的所述蒸镀材料的预加热。
CN201911207449.4A 2019-11-29 2019-11-29 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统 Active CN110965027B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911207449.4A CN110965027B (zh) 2019-11-29 2019-11-29 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911207449.4A CN110965027B (zh) 2019-11-29 2019-11-29 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110965027A true CN110965027A (zh) 2020-04-07
CN110965027B CN110965027B (zh) 2022-05-17

Family

ID=70032412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911207449.4A Active CN110965027B (zh) 2019-11-29 2019-11-29 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110965027B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4226208A (en) * 1977-08-04 1980-10-07 Canon Kabushiki Kaisha Vapor deposition apparatus
CN1384219A (zh) * 2001-03-02 2002-12-11 新明和工业株式会社 多层膜成膜方法、真空成膜装置及其控制装置
CN1477227A (zh) * 2003-05-19 2004-02-25 彩虹彩色显像管总厂 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺
CN103305803A (zh) * 2013-05-23 2013-09-18 四川虹视显示技术有限公司 基于温度控制系统的oled有机层蒸镀温度控制方法
CN108677145A (zh) * 2018-04-17 2018-10-19 上海大学 异位多元金属氧化物薄膜外延生长及其连续化制备的方法
CN110144550A (zh) * 2019-06-18 2019-08-20 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源及蒸镀设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4226208A (en) * 1977-08-04 1980-10-07 Canon Kabushiki Kaisha Vapor deposition apparatus
CN1384219A (zh) * 2001-03-02 2002-12-11 新明和工业株式会社 多层膜成膜方法、真空成膜装置及其控制装置
CN1477227A (zh) * 2003-05-19 2004-02-25 彩虹彩色显像管总厂 制备多层金属镀层复合膜的装置及其制造工艺
CN103305803A (zh) * 2013-05-23 2013-09-18 四川虹视显示技术有限公司 基于温度控制系统的oled有机层蒸镀温度控制方法
CN108677145A (zh) * 2018-04-17 2018-10-19 上海大学 异位多元金属氧化物薄膜外延生长及其连续化制备的方法
CN110144550A (zh) * 2019-06-18 2019-08-20 京东方科技集团股份有限公司 蒸发源及蒸镀设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN110965027B (zh) 2022-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI577829B (zh) 穩定電漿點火的方法
EP3494244B1 (en) Method of forming a metallic lithium coating
CN104313538B (zh) 蒸镀设备及蒸镀方法
US9343311B2 (en) Substrate treatment method
CN109402536B (zh) 一种钛杯表面纹理处理方法
JP2019031705A (ja) 蒸発源装置およびその制御方法
CN110965027B (zh) 蒸镀预加热方法及蒸镀预加热系统
CN103515203A (zh) 热处理方法和热处理装置
CN111285362A (zh) 石墨烯胶膜的制备方法以及石墨烯的转移方法
CN114369804B (zh) 薄膜沉积方法
CN100432284C (zh) 电子束蒸发低温制备锡掺杂氧化铟ito薄膜的方法
CN205194673U (zh) 一种具有衬套的坩埚
CN106504996B (zh) 暖机方法及基片的刻蚀方法
JP2014127438A (ja) 電極の製造方法及び乾燥装置
CN103627919A (zh) 钨海绵基体去铜的方法
CN116240506A (zh) 一种基于光刻胶的金属薄膜沉积方法及相关设备
CN104465292B (zh) 一种离子注入机的预处理方法
CN103325642B (zh) 一种电子枪中热阴极预处理方法
CN113745411A (zh) 一种钙钛矿太阳能电池原位退火成膜装置
CN102776482A (zh) 灯杯磁控溅射镀膜及表面真空硬化保护层连续生产工艺
CN107406967B (zh) 氧化铝膜的成膜方法和形成方法以及溅射装置
CN110265623A (zh) 一种极片补锂装置及其补锂方法
CN211858576U (zh) 曝光机台电子枪加热系统
CN216120355U (zh) 一种钙钛矿太阳能电池原位退火成膜装置
CN212247186U (zh) 一种加热板式蒸发源

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant