CN110943092A - 显示装置 - Google Patents
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Abstract
根据本公开的显示装置包括:可挠性基板,第一区域、第二区域及弯折区域;第一绝缘层,在可挠性基板的上面上,配置于弯折区域;第一源极/漏极图案,包括在可挠性基板的上面上配置于第一区域的源电极及漏电极;以及,配置于弯折区域的第一绝缘层上的信号布线;第二绝缘层,配置于第一源极/漏极图案上;第二源极/漏极图案,配置于第二绝缘层上,第二源极/漏极图案包括配置于第一区域的接触焊盘及对应弯折区域整体而配置的保护图案;第一图案薄膜,在可挠性基板的下面上,配置于第一区域;第二图案薄膜,在可挠性基板的下面上,配置于第二区域,并与第一图案薄膜间隔开;及,树脂层,在弯折区域,配置于第二源极/漏极图案上。
Description
技术领域
本公开涉及一种显示装置,更详细地是涉及减少了作为非显示区域的边框部的显示装置。
背景技术
近来,借助于技术的发展,出现了小型、轻量且性更加优越的显示器产品。到目前为止的显示装置中,已有的显像管电视(cathode ray tube:CRT)在性能或价格方面具有多的优点并被广泛使用,但是在小型化或便携性方面克服了CRT的缺点,具有小型化、轻量化及低电耗等优点的显示装置,例如,等离子显示装置、液晶显示装置及有机发光显示装置等备受关注。
特别是提示了各种用于减少作为包围上述显示装置的显示区域的非显示区域的边框部的多种结构,也提出了弯曲上述显示装置的一部分而进行配置的结构,但存在因弯曲引起的内部结构物的破损问题。
发明内容
于是,本公开的技术问题着眼于这样的点,本公开的目的在于提供一种显示装置,减少了作为弯曲的部分的弯折区域的破损危险,并减少了作为非显示区域的边框部。
根据用于实现上述本公开目的的一实施例的显示装置包括:可挠性基板,包括显示图像的第一区域、与所述第一区域间隔开的第二区域及所述第一区域与所述第二区域之间的弯折区域;第一绝缘层,在所述可挠性基板上面上,配置于所述弯折区域;第一源极/漏极图案,包括在所述可挠性基板上面上配置于所述第一区域的源电极及漏电极;以及,配置于所述弯折区域的所述第一绝缘层上的信号布线;第二绝缘层,配置于所述第一源极/漏极图案上;第二源极/漏极图案,配置于所述第二绝缘层上,所述第二源极/漏极图案包括配置于所述第一区域的接触焊盘及对应所述弯折区域整体而配置的保护图案;第一图案薄膜,在所述可挠性基板的下面上,配置于所述第一区域;第二图案薄膜,在所述可挠性基板的下面上,配置于所述第二区域,并与所述第一图案薄膜间隔开;及,树脂层,在所述弯折区域,配置于所述第二源极/漏极图案上。
在本公开一实施例中,所述弯折区域的中立面(neutral plane)形成在所述保护图案内,或以所述保护图案为基准,向所述信号布线的相反侧形成在所述保护图案上,在所述弯折区域,随着所述可挠性基板的弯曲,压缩应力可以作用于所述信号布线。
在本公开一实施例中,所述显示装置还可以包括配置于所述保护图案与所述树脂层之间的第三绝缘层。
在本公开一实施例中,所述第一绝缘层、所述第二绝缘层及所述第三绝缘层可以包括有机绝缘物质。
在本公开一实施例中,所述树脂层可以包括丙烯酸系树脂。
在本公开一实施例中,所述显示装置还可以包括:像素定义膜,配置于所述第三绝缘层上,在所述第一区域内定义开口;及,发光结构物,配置于所述开口内。在所述弯折区域,在所述第三绝缘层与所述树脂层之间还可以配置有所述像素定义膜。
在本公开一实施例中,所述可挠性基板可以包括:包括聚酰亚胺的第一层及第二层;及,配置于所述第一层与所述第二层之间的阻挡层。
在本公开一实施例中,所述中立面(neutral plane)可以形成在所述保护图案内。
在本公开一实施例中,所述信号布线沿着所述弯折区域的宽度方向延伸,可以连接所述第一区域及所述第二区域。
在本公开一实施例中,所述保护图案可以施加有接地电压。
在本公开一实施例中,所述显示装置还包括配置于所述第一区域的光学元件,所述树脂层可以与所述光学元件的侧面接触。
在本公开一实施例中,所述显示装置还可以包括在所述第一区域内配置于所述光学元件上的保护层。所述树脂层可以与所述保护层的侧面接触。
在本公开一实施例中,所述显示装置还可以包括在所述第二区域配置于所述可挠性基板上的驱动电路部。所述驱动电路部的一部分可以被所述树脂层所覆盖。
在本公开一实施例中,所述第一图案薄膜及第二图案薄膜的强度(stiffness)可以大于所述可挠性基板或所述树脂层的强度。
在本公开一实施例中,所述弯折区域被弯曲,以所述第一区域与所述第二区域重叠的方式被配置。
用于实现上述本公开目的的一实施例的一种显示装置包括:薄膜面板部,包括显示图像的第一区域、与所述第一区域间隔开的第二区域及所述第一区域与所述第二区域之间的弯折区域;第一图案薄膜,在所述薄膜面板部的下面上,配置于所述第一区域;第二图案薄膜,在所述薄膜面板部的下面上,配置于所述第二区域,并与所述第一图案薄膜间隔开;树脂层,在所述弯折区域配置于所述薄膜面板部上。在所述弯折区域,所述薄膜面板部还包括信号布线及与所述信号布线绝缘并对应于所述弯折区域的整体而形成的保护图案。
在本公开一实施例中,所述保护图案可以为金属层。
在本公开一实施例中,所述保护图案可以被施加有接地电压。
在本公开一实施例中,在所述弯折区域的中立面(neutral plane)形成在所述保护图案内,或以所述保护图案为基准向所述信号布线相反侧形成在所述保护图案上,在所述弯折区域,随着所述薄膜面板部弯曲,压缩应力作用于所述信号布线。
在本公开一实施例中,所述显示装置还可以包括:配置于所述第一区域的光学元件及配置于所述第二区域的驱动电路部。所述树脂层与所述光学元件的侧面接触,所述驱动电路部的一部分可以被所述树脂层覆盖。
发明效果
根据本公开的实施例,显示装置包括:可挠性基板,包括显示图像的第一区域、与所述第一区域间隔开的第二区域及所述第一区域与所述第二区域之间的弯折区域;第一绝缘层,在所述可挠性基板的上面上配置于所述弯折区域;第一源极/漏极图案,包括在所述可挠性基板的上面上配置于所述第一区域的源电极及漏电极;及,配置于所述弯折区域的所述第一绝缘层上的信号布线;第二绝缘层,配置于所述第一源极/漏极图案上;第二源极/漏极图案,配置于所述第二绝缘层上,所述第二源极/漏极图案包括配置于所述第一区域的接触焊盘及对应所述弯折区域的整体而配置的保护图案;第一图案薄膜,在所述可挠性基板的下面上配置于所述第一区域;第二图案薄膜,在所述可挠性基板的下面上配置于所述第二区域,并与所述第一图案薄膜间隔开;及,树脂层,在所述弯折区域配置于所述第二源极/漏极图案上。
由此,所述弯折区域的中立面(neutral plane)形成在所述保护图案内,或以上述保护图案为基准向所述信号布线的相反侧形成在所述保护图案上,在上述弯折区域,随着所述可挠性基板弯曲,压缩应力作用于所述信号布线,可以使所述树脂层的厚度变薄,还可以提高所述弯折区域的强度。
但是,本公开的效果并不限于上述效果,在不脱离本公开思想及范畴内可以进行多种扩展。
附图说明
图1是示出根据本公开一实施例的显示装置的平面图。
图2A是示出图1的显示装置的弯折区域的截面图。
图2B是弯曲了图2A的显示装置的状态的截面图。
图3是示出图1的显示装置的显示区域的一部分的截面图。
图4是示出图1的显示装置的弯折区域的一部分的截面图。
图5是示出图1的显示装置的弯折区域的一部分的平面图。
图6是示出根据本公开实施例的电子设备的框图。
图7A是示出图6的电子设备以电视实现的一例的图。
图7B是示出图6的电子设备以智能手机实现的一例的图。
附图标记说明:
100:薄膜面板部 110:可挠性基板
155:第一绝缘层 SL:信号布线
160:第二绝缘层 PT:保护图案
170:第三绝缘层 PDL:像素定义膜
210:第一图案薄膜 220:第二图案薄膜
310:光学元件 320:保护层
330:驱动电路部 400:树脂层
NP:中立面
具体实施方式
在本说明书中,当提及某构成要件(或区域、层、部分等)“在”另外构成要件“之上”、“连接于”另外构成要件、或“结合于”另外构成要件的情况,表示某构成要件直接配置/连接/结合于另外构成要件,或它们之间也可以配置有第三构成要件。
相同的附图标记指相同的构成要件。另外,在附图中,构成要件的厚度、比例及尺寸是为了有效说明技术内容而放大的。
术语“及/或”包括相关的构成所能定义的一个以上的组合。
第一、第二等术语可以用于说明多种构成要件,但上述构成要件并不被上述术语所限制。上述术语仅用于将一个构成要件与其他构成要件区分。例如,可以在不脱离本公开的权利范围的情况下,第一构成要件可以命名为第二构成要件,类似地,第二构成要件也可以命名为第一构成要件。除了在文脉上明确表示其他含义以外,单数表达包括复数表达。
另外,“下方”、“下侧”、“上方”、“上侧”等术语是用于说明附图中示出的各个构成的关联关系。上述术语是相对的概念,以附图中所示方向为基准进行说明。
除非另有定义,本说明书中使用的所有术语(包括技术术语及科学术语)具有与本公开所属技术领域的技术人员通常所理解的含义相同的含义。另外,与通常使用的词典中所定义的术语相同的术语应被解释为具有在相关技术上的脉络上含义相同的含义,除非解释为理想或过于形式化的含义,在此明确定义。
应理解为“包括”或“具有”等术语用于指定说明书中所记载的特征、数字、步骤、动作、构成要件、部件或它们组合的存在,应理解为并不是预先排除一个或其以上的其他特征、或者数字、步骤、动作、构成要件、部件或它们组合的存在或附加可能性。
以下,参照附图对本公开的优选实施例进行更加详细的说明。
图1是根据本公开一实施例的显示装置的平面图。
参照图1,上述显示装置可以包括:第一区域A1;与上述第一区域A1间隔开的第二区域A2;以及,上述第一区域A1及上述第二区域A2之间的弯折区域BA。上述第一区域A1可以包括:显示图像的显示区域DA;以及,邻接于上述显示区域DA并包围上述显示区域DA的作为非显示区域的周边区域PA。
上述显示区域DA可以配置于由第一方向D1及与上述第一方向D1交叉的第二方向D2构成的平面上。上述第二区域A2可以向第二方向D2与上述第一区域A1间隔开。上述显示装置的上述弯折区域BA被弯曲,由此可以被配置为上述第二区域A2与上述第一区域A1重叠(参照图2B)。
上述显示装置可以包括配置于上述显示区域DA内的多个像素(未图示)。上述显示装置可以进一步包括用于驱动上述像素的驱动部及用于连接上述像素与上述驱动部的布线部,上述驱动部和上述布线部配置于上述周边区域PA、上述弯折区域BA及/或上述第二区域A2内。
上述各个像素作为显示图像的最小单位,可以提供多个。上述像素可以包括射出彩色光的显示元件。例如,上述显示元件可以是液晶显示元件(liq uid crystal displaydevice,LCD device)、电泳显示元件(electrophore tic display device,EPD device)、电润湿显示元件(electrowetting dis play device,EWD device)及有机发光显示元件(organic light emitting display device,OLED device)中的任意一个。另外,在下述中为了说明的方便,作为上述显示元件,以上述有机发光显示元件作为示例进行说明。
上述各个像素可以射出红色、绿色及蓝色中的一种颜色,但并不限于此。例如,上述各个像素也可以射出青色、洋红色、黄色、白色等颜色。
图2A是示出图1的显示装置的弯折区域的截面图。图2B是弯曲了图2A的显示装置的状态的截面图。
参照图1、图2A及图2B,上述显示装置可以包括:薄膜面板部100、光学元件310、保护层320、树脂层400、第一图案薄膜210、第二图案薄膜220及驱动电路部330。
上述薄膜面板部100可以横跨配置于上述第一区域A1、上述弯折区域BA及上述第二区域A2。所述薄膜面板部100包括可挠性基板及形成于上述可挠性基板上的多个薄膜结构物,对应于上述弯折区域BA的上述薄膜面板部100的部分可以弯曲。上述薄膜面板部100的详细构成将在图3及图4中后述。
上述光学元件310可以在上述第一区域A1内配置于上述薄膜面板部100的上面上。上述光学元件310可以是偏光元件、防反射薄膜等光学薄片。
上述保护层320配置于上述光学元件310上,可以从外部保护上述显示装置的前面。
上述树脂层400可以在上述弯折区域BA内配置于上述薄膜面板部100的上述上面上。上述树脂层400可以延伸至相邻于上述弯折区域BA的上述第一区域A1的一部分及上述第二区域A2的一部分。上述树脂层400可以是在上述薄膜面板部100上涂布树脂液之后,进行UV硬化而形成。上述树脂层400可以包括丙烯酸系树脂。
上述树脂层400可以是用于调整中立面NP的位置的应力调整层(stressneutralizing layer)。它起到调整上述中立面(NP)的位置而使拉伸应力不会作用于形成在上述薄膜面板部100的上述弯折区域BA的信号布线上的作用。即,上述弯折区域BA中会经过连接上述薄膜面板部100的上述第一区域A1与上述第二区域A2而传送信号的信号布线(参考图4及图5的SL),如果拉伸应力作用于上述信号布线就会容易产生破裂。为了防止它,通过形成上述树脂层400,上述中立面NP向上述树脂层400侧移动,可以使压缩应力作用于上述信号布线。
在这里,上述中立面NP是指,在弯曲上述弯折区域BA而弯折上述薄膜面板部100时,不会受到压缩应力或拉伸应力的作用的面。例如,如图2B弯曲上述弯折区域BA,则在被弯曲的曲率的内侧作用压缩应力,在外侧作用有拉伸应力。因此,随着从曲率的内侧向外侧,应力的作用方向逐渐从压缩方向转换为拉伸方向,在某一个临界地点会有压缩应力和拉伸应力都不作用的转换点,此地点就是上述中立面NP。
上述第一图案薄膜210配置于上述第一区域A1内的上述薄膜面板部100的下面上。上述第一图案薄膜210具有适当的硬度(stiffness),使得即使上述薄膜面板部100的上述弯折区域BA弯曲,上述第一区域A1也不会弯曲,可以支撑上述薄膜面板部100的上述第一区域A1。上述第一图案薄膜210可以由合成树脂等材质形成。例如,上述第一图案薄膜210可以包括PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯,polyethylene terephthalate)。
上述第二图案薄膜220配置于上述第二区域A2内的上述薄膜面板部100的下面上。上述第二图案薄膜220具有适当的硬度,使得即使上述薄膜面板部100的上述弯折区域BA弯曲,上述第二区域A2也不会弯曲,从而可以支撑上述薄膜面板部100的上述第二区域A2。上述第二图案薄膜220可以由合成树脂等材质形成。例如,上述第二图案薄膜220可以包括PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯,polyethylene terephthalate)。
上述驱动电路部330可以配置于上述第二区域A2内的上述薄膜面板部100的上面上。上述驱动电路部330可以是包括用于驱动上述显示装置的驱动电路及连接上述驱动电路与上述薄膜面板部100的柔性电路基板(flexible printed circuit board)等的COF(覆晶薄膜,chip on film)等。
图3是示出图1的显示装置的显示区域的一部分的截面图。
参照图1至图3,上述显示装置可以包括:可挠性基板110、缓冲层120、活跃图案ACT、第一栅极绝缘层130、第一栅极图案、第二栅极绝缘层140、第二栅极图案、层间绝缘层150、第一源极/漏极图案、第二绝缘层160、第三绝缘层170、像素定义膜PDL、发光结构物180、薄膜封装层TFE。
上述可挠性基板110可以由透明或不透明材料构成。例如,上述可挠性基板110可以由具有柔性的透明树脂基板形成。具体的,上述可挠性基板110可以包括:第一层112、配置于上述第一层112上的阻挡层114及配置于上述阻挡层114上的第二层116。上述第一层112及第二层116可以是聚酰亚胺(polyimide)薄膜层,上述阻挡层114可以由包括非晶硅(a-Si)、硅氧化物(SiOx)、类似物等的多个层构成。
上述缓冲层120可以整铺配置于上述可挠性基板110上。上述缓冲层120可以防止金属原子或不纯物从上述可挠性基板110扩散至上述活跃图案ACT的现象,在用于形成上述活跃图案ACT的结晶化工序期间,可以调整热的传递速度,以获得实质上均匀的上述活跃图案ACT。
上述活跃图案ACT可以配置于上述缓冲层120上。上述活跃图案ACT可以包括非晶硅或多晶硅。作为另一实施例,上述活跃图案ACT可以包括从包括铟(In)、镓(Ga)、锡(Sn)、锆(Zr)、钒(V)、铪(Hf)、镉(Cd)、锗(Ge)、铬(Cr)、钛(Ti)及锌(Zn)的群中选择的至少一种以上物质的氧化物。上述活跃图案ACT可以包括掺杂(doping)有不纯物的漏极区域D、源极区域S及上述漏极区域D与上述源极区域S之间的沟道区域C。
上述第一栅极绝缘层130可以配置于上述缓冲层120上。上述第一栅极绝缘层130在上述缓冲层120上覆盖上述活跃图案ACT,沿着上述活跃图案ACT的轮廓以实质相同的厚度被配置。上述第一栅极绝缘层130可以包括硅化合物、金属氧化物、或类似物等。
上述第一栅极绝缘层130上可以配置有上述第一栅极图案。上述第一栅极图案可以包括栅电极GE及栅极线等信号布线。上述第一栅极图案可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质、或类似物等来形成。
上述第二栅极绝缘层140可以配置于配置了上述第一栅极图案的上述第一栅极绝缘层130上。例如,上述第二栅极绝缘层140在上述第一栅极绝缘层130上覆盖上述第一栅极图案,沿着上述第一栅极图案的轮廓以实质相同的厚度被配置。上述第二栅极绝缘层140可以包括硅化合物、金属氧化物、或类似物。上述第二栅极绝缘层140可以形成为多个层。
上述第二栅极图案可以配置于上述第二栅极绝缘层140上。上述第二栅极图案可以包括存储电极CE。上述存储电极CE与上述栅电极GE重叠而形成存储电容器。上述第二栅极图案可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质、或类似物等来形成。
上述层间绝缘层150可以配置于配置了上述第二栅极图案的上述第二栅极绝缘层140上。例如,上述层间绝缘层150可以在上述第二栅极绝缘层140上充分覆盖上述第二栅极图案,在上述第二栅极图案的周围不形成段差,可具有平坦的上面。上述层间绝缘层150可以包括硅化合物、金属氧化物、或类似物等。上述层间绝缘层150可以形成为多层。
上述第一源极/漏极图案可以配置于上述层间绝缘层150上。上述第一源极/漏极图案可以包括源电极SE、漏电极DE及数据线等信号布线。上述源电极SE及上述漏电极DE通过贯穿上述层间绝缘层150、上述第二栅极绝缘层140及上述第一栅极绝缘层130而形成的接触孔与上述活跃图案ACT电连接。上述第一源极/漏极图案可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质、或类似物等形成。例如,上述第一源极/漏极图案可以是包括包括钛(Ti)的第一层、包括铝(Al)的第二层、及包括钛(Ti)的第三层的叠层结构体。
上述栅电极GE、上述活跃图案ACT、上述源极SE及上述漏电极DE可以被包括于薄膜晶体管TFT。
上述第二绝缘层160可以配置于配置了上述第一源极/漏极图案的上述层间绝缘层150上。上述第二绝缘层160可以形成为单层结构,但也可以形成为包括至少两个以上的绝缘膜的多层结构。上述第二绝缘层160可以使用光刻胶、丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、硅氧烷系(siloxane-based)树脂、或类似物等的有机物质来形成。
上述第二绝缘层160上可以配置有第二源极/漏极图案。上述第二源极/漏极图案可以包括接触焊盘CP。上述接触焊盘CP通过贯穿上述第二绝缘层160形成的接触孔电连接于上述漏电极DE。上述第二源极/漏极图案可以使用金属、合金、金属氮化物、导电性金属氧化物、透明导电性物质、或类似物等形成。
上述第三绝缘层170可以配置于配置了上述第二源极/漏极图案的上述第二绝缘层160上。上述第三绝缘层170可以形成为单层结构,但也可以形成为包括至少两个以上的绝缘膜的多层结构。上述第三绝缘层170可以使用光刻胶、丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、硅氧烷系(siloxane-based)树脂、或类似物等的有机物质来形成。
上述发光结构物180可以包括第一电极181、发光层182及第二电极183。
上述第一电极181可以配置于上述第三绝缘层170上。根据上述显示装置的发光方式,上述第一电极181可以使用具有反射性的物质或具有透光性的物质来形成。例如,上述第一电极181可以包括:铝、包含铝的合金、铝氮化物、银、包含银的合金、钨、钨氮化物、铜、包含铜的合金、镍、铬、铬氮化物、钼、包含钼的合金、钛、钛氮化物、白金、钽、钽氮化物、钕、钪、锶钌氧化物、锌氧化物、铟锡氧化物、锡氧化物、铟氧化物、镓氧化物、铟锌氧化物、或类似物等。他们可以单独或相互组合而使用。在示例性实施例中,上述第一电极181可以形成为包括金属膜、合金膜、金属氮化物膜、导电性金属氧化物膜及/或透明导电性物质膜的单层结构或多层结构。
上述像素定义膜PDL可以配置于配置了上述第一电极181的上述第三绝缘层170上。上述像素定义膜PDL可以使用有机物质、无机物质等形成。例如,上述像素定义膜PDL可以使用光刻胶、聚丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、丙烯酸系树脂、硅化合物、或类似物等形成。根据示例性实施例,可以蚀刻上述像素定义膜PDL来形成部分暴露上述第一电极181的开口(opening)。通过上述像素定义膜PDL的开口可以定义上述显示装置的发光区域与非发光区域。例如,上述像素定义膜PDL的开口所位于的部分可以相当于上述发光区域,上述非发光区域可以相当于邻接于上述像素定义膜PDL的开口的部分。
上述发光层182可以配置于通过上述像素定义膜PDL的开口暴露的上述第一电极181上。另外,上述发光层182可以向上述像素定义膜PDL的上述开口的侧壁上延伸。在示例性实施例中,上述发光层182可以具有包括有机发光层EL、空穴注入层HIL、空穴输送层HTL、电子输送层ETL、电子注入层EIL等的多层结构。在另一实施例中,除了上述有机发光层EL,上述空穴注入层HIL、上述空穴输送层HTL、上述电子输送层ETL及上述电子注入层EIL等可以共同形成以对应于多个像素。上述发光层182的有机发光层EL可以根据上述显示装置的各个像素使用能够产生红色光、绿色光、蓝色光等相互不同颜色的光的发光物质来形成。根据另一示例性实施例,上述发光层182的有机发光层EL可以具有能够实现红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色的光的多个发光物质层叠而发出白光的结构。此时,上述发光结构物可以共同形成以对应于多个像素,通过上述滤色片层区分开各个像素。
上述第二电极183可以配置于上述像素定义膜PDL及上述发光层182上。根据上述显示装置的发光方式,上述第二电极183可以包括具有透光性的物质或者具有反射性的物质。例如,上述第二电极183可以包括:铝、包含铝的合金、铝氮化物、银、包含银的合金、钨、钨氮化物、铜、包含铜的合金、镍、铬、铬氮化物、钼、包含钼的合金、钛、钛氮化物、白金、钽、钽氮化物、钕、钪、锶钌氧化物、锌氧化物、铟锡氧化物、锡氧化物、铟氧化物、镓氧化物、铟锌氧化物、或类似物等。他们可以单独或相互组合而使用。在示例性实施例中,上述第二电极183可以形成为包括金属膜、合金膜、金属氮化物膜、导电性金属氧化物膜及/或透明导电性物质膜的单层结构或多层结构。
上述薄膜封装层TFE可以配置于上述第二电极183上。上述薄膜封装层TFE可以防止外部湿气及氧的渗透。上述薄膜封装层TFE可以具有相互交替而层叠的至少一个以上的有机层及至少一个以上的无机层。
图4是示出图1的显示装置的弯折区域的一部分的截面图。图5是示出图1的显示装置的弯折区域的一部分的平面图。
参照图1至图5,上述显示装置还可以包括:第一绝缘层155、多个信号布线SL及保护图案PT。
上述第一绝缘层155可以配置于上述可挠性基板110与上述第二绝缘层160之间。上述第一绝缘层155可以在上述缓冲层120、上述第一栅极绝缘层130及上述第二栅极绝缘层140及上述层间绝缘层150被去除之后,直接形成在上述可挠性基板110上。因为被去除的上述层包括无机绝缘物质,在弯曲上述弯折区域BA时被破损的可能性较大。
上述第一绝缘层155是为了在上述弯折区域BA减少与去除了上述缓冲层120、上述第一栅极绝缘层130、上述第二栅极绝缘层140及上述层间绝缘层150的部分之间的段差,包括有机绝缘物质,在上述弯折区域BA被折叠的情况下也不易受损。
上述第一绝缘层155可以形成为单层结构,也可以形成为包括至少两个以上绝缘膜的多层结构。上述第三绝缘层170可以使用光刻胶、丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、硅氧烷系(siloxane-based)树脂、或类似物等有机物质形成。
上述第一源极/漏极图案可以配置于上述第一绝缘层155上。上述第一源极/漏极图案可以包括上述多个信号布线SL。上述信号布线SL在上述弯折区域BA向上述第二方向D2延伸,连接上述第一区域A1和上述第二区域A2,将从上述驱动电路部330提供的信号传送至上述第一区域A1的上述显示区域DA。
上述第二绝缘层160可以配置于配置了上述信号布线SL的上述第一绝缘层155上。
上述第二源极/漏极图案可以配置于上述第二绝缘层160上。上述第二源极/漏极图案还可以包括上述保护图案PT。上述保护图案PT对应于上述弯折区域BA的整体,可以重叠于上述弯折区域BA整体而形成。上述保护图案PT在上述弯折区域BA以板状形成,相比于未形成上述保护图案PT的情况,上述中立面NP的位置更向上述树脂层400方向上升。因此,即使更薄地形成上述树脂层400的厚度,也可以使拉伸应力不作用于上述信号布线SL,由此,可以较薄地设置在上述弯折区域BA的上述显示装置的厚度。从而,可以减少上述弯折区域BA的曲率半径,提高制造工序上的作业性,可使得上述显示装置的厚度薄,由此可以减少边框(bezel)部的宽度。
在这里,上述中立面NP可以形成于上述保护图案PT内或其上方。即,上述中立面NP可以形成在上述保护图案PT、上述第三绝缘层170、上述像素定义膜PDL或上述树脂层400内。优选地,上述中立面NP形成于上述保护图案PT内时,可以使得上述树脂层400的厚度最薄,可使拉伸应力不作用于上述信号布线SL。
另外,上述保护图案PT由金属形成,可以在上述弯折区域BA提高上述薄膜面板部100的强度(strength)。
再者,上述保护图案PT可以被施加接地电压。上述保护图案PT被施加上述接地电压,从而上述信号布线SL不会受到外部影响(屏蔽效果),从而可以提升显示质量。例如,上述信号布线SL可以通过上述保护图案PT,从外部电磁力等影响或触摸屏等信号被屏蔽。
上述第三绝缘层170可以配置于上述保护图案PT上。上述像素定义膜PDL可以配置于上述第三绝缘层170上。上述树脂层400可以配置于上述像素定义膜PDL上。
图6是示出根据本公开实施例的电子设备的框图,图7A是示出图6的电子设备以电视实现的一例的图,图7B是示出图6的电子设备以智能手机实现的一例的图。
参照图6至图7B,电子设备500包括:处理器510、记忆装置520、存储装置530、输入输出装置540、电源供应器550及显示装置560。此时,上述显示装置560可以相应于图1的显示装置。上述电子设备500还可以包括可与视频卡、声卡、记忆卡、USB装置等进行通信或与其他系统进行通信的各种端口(p ort)。在一实施例中,如图7A所示,上述电子设备500以电视方式实现。在另一实施例中,如图7B所示,上述电子设备500可以智能手机方式实现。但是,这些仅是示例,上述电子设备500并不限于此。例如,上述电子设备500可以以手机、视频手机、智能平板(smart pad)、智能手表(smart watch)、平板(t ablet)电脑、车用导航装置、计算机显示器、笔记本电脑、头戴式显示器(h ead mounted display;HMD)、或类似物等方式实现。
上述处理器510可以执行特定计算或任务(task)。根据实施例,上述处理器510可以是微型处理器(micro processor)、中央处理器单元(Central Pro cessing Unit;CPU)、应用程序处理器(Application Processor;AP)、或类似物等。上述处理器510可以通过地址总线(address bus)、控制总线(contr ol bus)及数据总线(data bus)等连接于其他构成要件。根据实施例,上述处理器510还可以连接于如外部设备互连(Peripheral ComponentInterconnec t;PCI)总线那样的扩展总线。上述记忆装置520可以存储上述电子设备500的运行所需的数据。例如,上述记忆装置520可以包括:如可擦可编程序只读存储(ErasableProgrammable Read-Only Memory;EPROM)装置、电可擦可编程只读存储(ElectricallyErasable Programmable Read-Only Memory;EEPR OM)装置、闪存记忆装置(flash memorydevice)、相变随机存取存储器(Pha se Change Random Access Memory;PRAM)装置、电阻随机存取存储(Resist ance Random Access Memory;RRAM)装置、纳米浮栅存储器(NanoFloating Gate Memory;NFGM)装置、聚合物随机存取存储器(Polymer Random AccessMemory;PoRAM)装置、磁性随机存取存储器(Magnetic Random Access Memo ry;MRAM)装置、铁电随机存储存储器(Ferroelectric Random Access Memo ry;FRAM)装置等的非挥发性记忆装置及/或如动态随机存取存储器(Dynamic Random Access Memory;DRAM)装置、静态随机存取存储器(Static Random Access Memory;SRAM)装置、移动DRAM装置等的挥发性记忆装置。上述存储装置530可以包括:固态驱动器(Solid State Drive;SSD)、硬盘驱动器(Ha rd Disk Drive;HDD)、CD-ROM等。上述输入输出装置540可以包括:键盘、数字键盘、触摸板、触摸屏、鼠标等输入装置及扬声器、打印机等输出装置。上述电源供应器550可以提供上述电子设备500的操作所需的电源。
上述显示装置560可以通过上述总线或其他通信链接连接于其他构成要件。根据实施例,上述显示装置560也可以包括于上述输入输出装置540。如上所述,上述显示装置560包括具有弯折区域的可挠性基板,还包括对应于配置于上述弯折区域的信号线及上述弯折区域的整体而形成的保护图案,从而可以防止上述信号线因拉伸应力而受损的情况,可以减少上述显示装置的厚度,可以减小边框(bezel)部的宽度,提高制造工序上的作业性,可以从外部电磁的影响屏蔽上述信号线。但是,对此已在上面详述过,因此将省略对它的重复说明。
工业可利用性
本公开可以适用于有机发光显示装置及包括它的多种电子设备。例如,本公开可以适用于手机、智能手机、视频手机、智能平板、智能手表、平板电脑、车用导航装置、电视、计算机显示器、笔记本电脑、头戴式显示器等。
以上,参照本公开的示例性实施例进行了说明,但本领域普通技术人员应该能理解,可以在不超出本公开权利要求中所记载的本公开的思想及领域的范畴内可以对公开进行多种修改及变更。
Claims (10)
1.一种显示装置,其中,所述显示装置包括:
可挠性基板,包括显示图像的第一区域、与所述第一区域间隔开的第二区域及所述第一区域与所述第二区域之间的弯折区域;
第一绝缘层,在所述可挠性基板的上面上,配置于所述弯折区域;
第一源极/漏极图案,包括在所述可挠性基板的上面上配置于所述第一区域的源电极及漏电极;以及,配置于所述弯折区域的所述第一绝缘层上的信号布线;
第二绝缘层,配置于所述第一源极/漏极图案上;
第二源极/漏极图案,配置于所述第二绝缘层上,所述第二源极/漏极图案包括配置于所述第一区域的接触焊盘及对应所述弯折区域整体而配置的保护图案;
第一图案薄膜,在所述可挠性基板的下面上,配置于所述第一区域;
第二图案薄膜,在所述可挠性基板的下面上,配置于所述第二区域,并与所述第一图案薄膜间隔开;及,
树脂层,在所述弯折区域,配置于所述第二源极/漏极图案上。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述弯折区域的中立面形成在所述保护图案内,或以所述保护图案为基准,向所述信号布线的相反侧形成在所述保护图案上,在所述弯折区域,随着所述可挠性基板的弯曲,压缩应力作用于所述信号布线。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,
所述显示装置还包括配置于所述保护图案与所述树脂层之间的第三绝缘层。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,
所述第一绝缘层、所述第二绝缘层及所述第三绝缘层包括有机绝缘物质。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,
所述树脂层包括丙烯酸系树脂。
6.根据权利要求3所述的显示装置,其中,
所述显示装置还包括:
像素定义膜,配置于所述第三绝缘层上,在所述第一区域内定义开口;及,
发光结构物,配置于所述开口内,
在所述弯折区域,在所述第三绝缘层与所述树脂层之间还配置所述像素定义膜。
7.根据权利要求2所述的显示装置,其中,
所述可挠性基板包括:
包括聚酰亚胺的第一层及第二层;及,
配置于所述第一层与所述第二层之间的阻挡层。
8.根据权利要求2所述的显示装置,其中,
所述中立面形成在所述保护图案内。
9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述信号布线沿着所述弯折区域的宽度方向延伸,连接所述第一区域及所述第二区域,
所述保护图案施加有接地电压。
10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述显示装置还包括:
光学元件,配置于所述第一区域;及,
保护层,在所述第一区域内,配置于所述光学元件上,
所述树脂层与所述光学元件的侧面接触,所述树脂层与所述保护层的侧面接触。
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