CN110931538A - 一种显示面板及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及电子设备，该显示面板包括至少一个半透区，该半透区的位置相对应屏下设置的感光器件，感光器件通过像素阵列中的透光区域进行感光，通过在该半透区的像素阵列中合理设置遮光材料层，实现偏光片的功能，进而取代了偏光片，大幅度提高了光的透过率。

Description

一种显示面板及电子设备

技术领域

本发明涉及显示屏下组件设计技术领域，更具体地说，涉及一种显示面板及电子设备。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)又称为有机电激光显示、有机发光半导体，其具有自发光、广视角、高对比度、耗电低和反应速度快等优点，被广泛应用于手机、数码摄像机、DVD机、笔记本电脑和电视等显示领域。

OLED显示面板相对于传统的液晶显示面板(Liquid CrystalDisplay，LCD)而言，能实现柔性显示，以使高度可携带、可弯折的显示技术成为领域内的一项重大突破。

伴随着数码产品的高速发展，为了提升显示面板的屏占比，现有设计中将一些感光器件设置在显示面板的下方。

但是，传统的显示面板均会设置偏光片，其光透过率较低，若将感光器件设置在显示面板的下方之后，会导致感光器件的采光率降低，进而影响显示面板的使用性能。

发明内容

有鉴于此，为解决上述问题，本发明提供一种显示面板及电子设备，技术方案如下：

一种显示面板，所述显示面板具有至少一个半透区和至少部分围绕所述半透区的正常显示区，所述半透区包括设置在基底上的像素阵列，所述像素阵列包括：

依次设置在所述基底上的阳极层、发光层和阴极层；

所述阳极层具有多个独立的阳极单元，所述发光层具有多个独立的发光单元，在第一方向上，所述阳极单元和所述发光单元一一相对设置，所述第一方向垂直于所述基底，相邻两个所述阳极单元之间的间隙构成透光区域；

设置在所述阴极层和所述基底之间的遮光材料层。

优选的，在上述显示面板中，所述阴极层具有至少一个第一通孔结构；

其中，所述第一通孔结构位于所述透光区域相对应的位置上。

优选的，在上述显示面板中，所述半透区还包括：

设置在所述基底和所述阳极层之间的平坦化层；

其中，所述遮光材料层位于所述平坦化层和所述阳极单元之间。

优选的，在上述显示面板中，所述遮光材料层为设置在所述基底和所述阳极层之间的平坦化层；

其中，所述平坦化层相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第二通孔结构。

优选的，在上述显示面板中，所述半透区还包括：

设置在所述阳极层和所述基底之间的阵列层；

所述阵列层包括一有机层，所述有机层中至少对应所述阳极单元的区域掺杂有遮光材料。

优选的，在上述显示面板中，所述阵列层相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第三通孔结构。

优选的，在上述显示面板中，所述遮光材料层为设置在所述基底和所述阳极层之间的平坦化层；

其中，所述平坦化层的有效遮光区域为在所述第一方向上所述平坦化层相对应所述阳极单元的区域。

优选的，在上述显示面板中，所述平坦化层为一整层结构；

其中，位于所述有效遮光区域的平坦化层中填充有遮光材料。

优选的，在上述显示面板中，所述平坦化层具有互补的第一结构层和第二结构层；

所述第一结构层相对应所述透光区域，所述第二结构层相对应所述有效遮光区域；

其中，所述第一结构层为高透过率材料层，所述第二结构层为遮光材料层。

优选的，在上述显示面板中，所述遮光材料层为设置在所述基底和所述阴极层之间的像素定义层；

其中，所述像素定义层相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第四通孔结构。

一种电子设备，包括上述任一项所述的显示面板；

对应所述显示面板的半透区设置的感光器件。

相较于现有技术，本发明实现的有益效果为：

该显示面板包括至少一个半透区，该半透区的位置相对应屏下设置的感光器件，感光器件通过像素阵列中的透光区域进行感光，通过在该半透区的像素阵列中合理设置遮光材料层，实现偏光片的功能，进而取代了偏光片，大幅度提高了光的透过率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图4为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图6为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图10为本发明实施例提供的又一种显示面板的结剖面构示意图；

图11为本发明实施例提供的一种平坦化层的剖面结构示意图；

图12为本发明实施例提供的又一种平坦化层的剖面结构示意图；

图13为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；

图14为本发明实施例提供的一种电子设备的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

参考图1，图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

该显示面板11具有至少一个半透区12和至少部分围绕所述半透区12的正常显示区13。

需要说明的是，半透区12的数量相对应显示面板11下方设置的感光器件的数量，即半透区12的数量在本发明实施例中并不作限定，图1中仅仅以示例的形式进行说明，其数量可根据实际需求而定。

进一步的，所述半透区12的位置相对应显示面板11下方设置的感光器件，并且，所述半透区12的位置在本发明实施例中也不进行限定，其位置可合理设置。

例如，如图1所示，半透区12的一侧与边框重叠，即半透区12被正常显示区13部分围绕，或，如图1所示，半透区12设置在显示面板11的内侧，即半透区12被正常显示区13全围绕。

参考图2，图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。

所述半透区12包括设置在基底上的像素阵列14。

在该实施例中，所述半透区12和所述正常显示区13均设置有像素阵列14，所述像素阵列14包括多个像素单元，红色像素单元15、绿色像素单元16和蓝色像素单元17。每个像素单元用于发出不同颜色的光。

参考图3，图3为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图。

所述像素阵列14包括：

依次设置在所述基底18上的阳极层19、发光层20和阴极层21。

所述阳极层19具有多个独立的阳极单元，所述发光层20具有多个独立的发光单元，在第一方向上，所述阳极单元和所述发光单元一一相对设置，所述第一方向垂直于所述基底18，相邻两个所述阳极单元之间的间隙构成透光区域A。

设置在所述阴极层21和所述基底18之间的遮光材料层。

需要说明的是，遮光材料层可以设置在阴极层21和基底18之间不同的区域，因此，在图3中并没有具体示例出遮光材料层这一结构。

在该实施例中，每个像素单元的阳极层19是独立存在的阳极单元，发光层20同样也是独立存在的发光单元，只有阴极层21是所有像素单元共用的。

需要说明的是，每个像素单元还包括：依次设置在所述阳极层19和所述发光层20之间的空穴注入层和空穴传输层，以及设置在所述发光层20和所述阴极层21之间的电子传输层。

并且，在该实施例中，感光器件通过像素阵列中的透光区域A进行感光，通过在该半透区的像素阵列中合理设置遮光材料层，实现偏光片的功能，进而取代了偏光片，大幅度提高了光的透过率。

进一步的，参考图4，图4为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图。

所述阴极层21具有至少一个第一通孔结构22；

其中，所述第一通孔结构22位于所述透光区域A相对应的位置上。

在该实施例中，通过对所述阴极层21进行挖孔设计，形成至少一个第一通孔结构22，降低了阴极层21对光的反射，间接增加了光的透过率。

具体的，在该实施例中，如图4所示，以所述第一通孔结构22的数量为两个进行示例说明。

进一步的，参考图5，图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的阴极层局部结构示意图。

本实施例的显示面板的阴极层21具有至少一个条形镂空区域23；

该条形镂空区域23可以将位于半透区的阴极层21划分为多个独立的阴极单元，相邻两个阴极单元之间存在间隙，该间隙位置相对应所述像素单元之间的间隙位置，且所述阴极单元之间的间隙宽度小于或等于像素单元之间的间隙宽度。

在该实施例中，每个所述阴极单元至少覆盖一个所述像素单元，并且，每个阴极单元覆盖所述像素单元的数量可以不同。

具体的，通过设置条形镂空区域23，可以进一步增加光透过区域，降低了阴极层21对光的反射，间接增加了光的透过率。

需要说明的是，当阴极层23被划分为多个独立的阴极单元时，需要将多个阴极单元连接在一起，具体的布线连接方式包括但不限定于通过其它金属层采用过孔的方式进行电连接，在该实施例中，优选采用同层的连接线连接。

进一步的，参考图6，图6为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图。

所述半透区还包括：

设置在所述基底18和所述阳极层19之间的平坦化层24；

其中，所述遮光材料层25位于所述平坦化层24和所述阳极单元19之间。

在该实施例中，通过在阳极层19与所述平坦化层24之间设置多个独立的遮光材料层25，该多个遮光材料层25可以实现偏光片的功能。

可选的，所述遮光材料层25和所述阳极层19的尺寸相同，感光器件通过像素阵列中的透光区域A进行感光，通过遮光材料层25取代了偏光片，大幅度提高了光的透过率。

并且，该遮光材料层25可以遮挡显示区像素单元之间的走线间隙，进而降低走线对光的衍射，以提高拍摄质量。

进一步的，如图6所示，可以将位于透光区域A处的阴极层19均去除掉，进一步增大光的透光率。

进一步的，参考图7，图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图。

所述遮光材料层25为设置在所述基底18和所述阳极层19之间的平坦化层24；

其中，所述平坦化层24相对应所述透光区域A的位置上具有至少一个第二通孔结构26。

在该实施例中，一整层所述平坦化层24均为所述遮光材料层25，以实现偏光片的功能。

但是，当一整层所述平坦化层24均为所述遮光材料层25时，光的透过率较低，因此，通过对所述平坦化层24相对应所述透光区域A的位置上进行挖孔设计，形成至少一个第二通孔结构26，降低了平坦化层24对光的吸收和反射，间接增加了光的透过率。

具体的，在该实施例中，通过同一膜层，即所述平坦化层24，在实现平坦化处理的情况下还实现了偏光片的功能，进而可以取代偏光片，增加了光的透过率。

并且，该平坦化层24可以遮挡显示区像素单元之间的走线间隙，进而降低走线对光的衍射，以提高拍摄质量。

可选的，所述第二通孔结构26和所述第一通孔结构22的数量相同，且在所述第一方向上，所述第一通孔结构22和所述第二通孔结构26一一对应。

在该实施例中，由于光是沿直线传播的，因此，将第一通孔结构22和第二通孔结构26一一对应设置，可以极大程度的提高光的传播质量，进而提高光的透过率。

进一步的，参考图8，图8为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。

所述半透区还包括：

设置在所述阳极层和所述基底18之间的阵列层27；

所述阵列层27包括一有机层33，所述有机层33中至少对应所述阳极单元的区域掺杂有遮光材料34。

在该实施例中，通过将所述有机层33相对应所述阳极单元的区域掺杂遮光材料34，其实现偏光片的功能，进而取代了偏光片，大幅度提高了光的透过率。

并且，该有机层33可以遮挡显示区像素单元之间的走线间隙，进而降低走线对光的衍射，以提高拍摄质量。

其中，所述阵列层27至少包括设置在所述基底18上的缓冲层28、多个薄膜晶体管29和像素定义层30，所述薄膜晶体管29包括有源层291、栅极292、源极293和漏极294。

具体的，所述像素定义层30包括多个阵列排布的开口，所述开口用于设置所述像素单元，多个所述阵列排布的像素单元组成所述像素阵列。

需要说明的是，图8中仅仅以所述像素定义层30包括三个开口为例说明，并且，所述像素定义层30包括多层结构，在此不再详细阐述。

所述阵列层27还包括设置在所述有源层291和所述栅极292之间的栅极绝缘层31、设置在所述栅极292和所述源极293和所述漏极294之间的层间绝缘层32、设置在所述源极293和所述漏极294背离所述层间绝缘层32一侧的有机层33。

需要说明的是，平坦化层24设置在所述有机层33背离所述基底18的一侧，所述源极293和所述漏极294位于同一层。

需要说明的是，所述有机层33和所述平坦化层24之间还可以具有其它膜层，在该实施例中并没有体现，并且，本发明实施例提供的一种阵列层结构只是以举例的形式进行示例说明，只是图示出部分膜层结构，其还可以包括其它膜层结构。

需要说明的是，在本发明实施例中所述薄膜晶体管29可以为P型薄膜晶体管也可以为N型薄膜晶体管，在本发明实施例中以P型薄膜晶体管为例说明。

当所述薄膜晶体管29可以为P型薄膜晶体管时，所述阳极单元与所述P型薄膜晶体管的漏极连接。

当所述薄膜晶体管29可以为N型薄膜晶体管时，所述阳极单元与所述N型薄膜晶体管的源极连接。

其具体的连接方式如图8所示，通过对所述平坦化层24和所述钝化层33进行刻蚀处理，形成通孔，以暴露出所述薄膜晶体管29相对应的电极端，进而使阳极单元和所述薄膜晶体管29相对应的电极端接触电连接。

可选的，所述缓冲层28包括但不限定于无机材料层或有机材料层，其中，无机材料层的材料包括但不限定于氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝或氮化铝等，有机材料层的材料包括但不限定于亚克力或PI等。

进一步的，参考图9，图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图。

所述阵列层27相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第三通孔结构35。

在该实施例中，通过对所述阵列层27进行挖孔设计，形成至少一个第三通孔结构35，降低了阵列层27对光的吸收和反射，间接增加了光的透过率。

需要说明的是，该挖孔设计不能破坏阵列层的使用性能。

可选的，所述第三通孔结构35、所述第二通孔结构26和所述第一通孔结构22的数量相同，且在所述第一方向上，所述第一通孔结构22、所述第二通孔结构26和第三通孔结构35一一对应。

在该实施例中，将第一通孔结构22、第二通孔结构26和第三通孔结构35一一对应设置，可以极大程度的提高光的传播质量，进而提高光的透过率。

进一步的，参考图10，图10为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图。

所述遮光材料层25为设置在所述基底18(图10中未画出)和所述阳极层19之间的平坦化层24；

其中，所述平坦化层24的有效遮光区域B为在所述第一方向上所述平坦化层24相对应所述阳极单元的区域。

需要说明的是，所述基底18和所述平坦化层24之间的结构层在图10中并没有体现出来。

在该实施例中，当所述遮光材料层25为设置在所述基底18和所述阳极层19之间的平坦化层24，但是，该平坦化层24并非一整层均为遮光材料层25，而是，其有效遮光区域B仅仅为在所述第一方向上所述平坦化层24相对应所述阳极单元的区域，这样在起到偏光片功能的情况下，还可以增大光的透过区域，进而提高光的透过率。进一步的，基于本发明上述实施例，参考图11，图11为本发明实施例提供的一种平坦化层的结构示意图。

所述平坦化层24为一整层结构；

其中，位于所述有效遮光区域B的平坦化层中填充有遮光材料34。

也就是说，在形成所述平坦化层24的时候，直接形成一整层结构的平坦化层24，在有效遮光区域B再填充遮光材料34即可。

或，

参考图12，图12为本发明实施例提供的又一种平坦化层的结构示意图。

所述平坦化层24具有互补的第一结构层241和第二结构层242；

所述第一结构层241相对应所述透光区域A，所述第二结构层242相对应所述有效遮光区域B；

其中，所述第一结构层241为高透过率材料层，所述第二结构层242为遮光材料层。

也就是说，在钝化层33上形成平坦化层24时，其分别形成具有互补的第一结构层241和第二结构层242，高透过率材料的第一结构层241对应透光区域A，遮光材料的第二结构层242对应有效遮光区域B。

进一步的，参考图13，图13为本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。

所述遮光材料层25为设置在所述基底18和所述阴极层19之间的像素定义层30；

其中，所述像素定义层30相对应所述透光区域A的位置上具有至少一个第四通孔结构36。

在该实施例中，一整层所述像素定义层30均为所述遮光材料层25，以实现偏光片的功能。

但是，当一整层所述像素定义层30均为所述遮光材料层25时，光的透过率较低，因此，通过对所述像素定义层30相对应所述透光区域A的位置上进行挖孔设计，形成至少一个第四通孔结构36，降低了像素定义层30对光的吸收和反射，间接增加了光的透过率。

具体的，在该实施例中，通过同一膜层，即所述像素定义层30，在实现像素单元区域定义的情况下还实现了偏光片的功能，进而可以取代偏光片，增加了光的透过率。

并且，该像素定义层30可以遮挡显示区像素单元之间的走线间隙，进而降低走线对光的衍射，以提高拍摄质量。

需要说明的是，该遮光材料层25可以同时设置在两个或三个不同的膜层中，例如同时设置在平坦化层24和有机层33中。

可选的，所述第四通孔结构36、所述第三通孔结构35、所述第二通孔结构26和所述第一通孔结构22的数量相同，且在所述第一方向上，所述第一通孔结构22、所述第二通孔结构26、第三通孔结构35和所述第四通孔结构36一一对应。

在该实施例中，将第一通孔结构22、第二通孔结构26、第三通孔结构35和第四通孔结构36一一对应设置，可以极大程度的提高光的传播质量，进而提高光的透过率。

基于本发明上述全部实施例，在本发明另一实施例中还提供了一种电子设备，参考图14，图14为本发明实施例提供的一种电子设备的示意图。

该电子设备包括上述显示面板37，以及对应所述显示面板37的半透区12设置的感光器件38。

在该实施例中，该显示面板37可以提高光的透过率，以使位于显示面板37下方的感光器件38更好的进行感光处理，进而提高了电子设备的使用性能。

以上对本发明所提供的一种显示面板及电子设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备所固有的要素，或者是还包括为这些过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (11)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板具有至少一个半透区和至少部分围绕所述半透区的正常显示区，所述半透区包括设置在基底上的像素阵列，所述像素阵列包括：

依次设置在所述基底上的阳极层、发光层和阴极层；

所述阳极层具有多个独立的阳极单元，所述发光层具有多个独立的发光单元，在第一方向上，所述阳极单元和所述发光单元一一相对设置，所述第一方向垂直于所述基底，相邻两个所述阳极单元之间的间隙构成透光区域；

设置在所述阴极层和所述基底之间的遮光材料层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阴极层具有至少一个第一通孔结构；

其中，所述第一通孔结构位于所述透光区域相对应的位置上。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述半透区还包括：

设置在所述基底和所述阳极层之间的平坦化层；

其中，所述遮光材料层位于所述平坦化层和所述阳极单元之间。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光材料层为设置在所述基底和所述阳极层之间的平坦化层；

其中，所述平坦化层相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第二通孔结构。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述半透区还包括：

设置在所述阳极层和所述基底之间的阵列层；

所述阵列层包括一有机层，所述有机层中至少对应所述阳极单元的区域掺杂有遮光材料。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述阵列层相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第三通孔结构。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光材料层为设置在所述基底和所述阳极层之间的平坦化层；

其中，所述平坦化层的有效遮光区域为在所述第一方向上所述平坦化层相对应所述阳极单元的区域。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层为一整层结构；

其中，位于所述有效遮光区域的平坦化层中填充有遮光材料。

9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述平坦化层具有互补的第一结构层和第二结构层；

所述第一结构层相对应所述透光区域，所述第二结构层相对应所述有效遮光区域；

其中，所述第一结构层为高透过率材料层，所述第二结构层为遮光材料层。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮光材料层为设置在所述基底和所述阴极层之间的像素定义层；

其中，所述像素定义层相对应所述透光区域的位置上具有至少一个第四通孔结构。

11.一种电子设备，其特征在于，包括上述如权利要求1-10任一项所述的显示面板；

对应所述显示面板的半透区设置的感光器件。

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