CN110857464A - 一种新的真空镀膜设备的偏压系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及绝缘板共同构成的,所述驱动马达安置于支撑架上表面,所述齿轮驱动装置安置于驱动马达的旋转端上,所述绝缘零件安置于齿轮驱动装置内,三对所述第一固定螺栓安置于绝缘零件上,本发明涉及真空镀膜设备领域,该装置为两套独立的旋转偏压系统,提高薄膜粘附性、增加离子透过率、改善膜层均匀性和达到复杂曲面形状的镀膜的目的,使用起来更加的方便,结构相对简单。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜设备领域,具体为一种新的真空镀膜设备的偏压系统。
背景技术
真空镀膜是一种由物理或者化学方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术可以用于生产光学镜片,如航海望远镜镜片等;以及其他功能薄膜,唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等,如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜,改变加工硬性。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀和纯离子镀膜。
当前的真空镀膜设备,只有一路旋转型的产品偏压装置,不能改变膜层性能,薄膜粘附性不好,离子透过率不高,因此为了解决这一问题,设计一种新的真空镀膜设备的偏压系统是非常有必要的。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了一种新的真空镀膜设备的偏压系统,解决了不能改变膜层性能,薄膜粘附性不好,离子透过率不高的问题。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架、驱动马达、齿轮驱动装置、绝缘零件、三对相同结构的第一固定螺栓、旋转轴、偏压引入装置、两对相同结构的碳刷、固定板、一对相同结构的轴承、真空密封装置、四对相同结构的第二固定螺栓以及绝缘板共同构成的,所述驱动马达安置于支撑架上表面,所述齿轮驱动装置安置于驱动马达的旋转端上,所述绝缘零件安置于齿轮驱动装置内,三对所述第一固定螺栓安置于绝缘零件上,所述旋转轴插装于绝缘零件内,所述偏压引入装置套装于旋转轴上,两对所述碳刷安置于偏压引入装置上,所述固定板上开设有第一圆形开口,所述第一圆形开口处开设有环形凹槽,所述真空密封装置套装于旋转轴上,且位于真空密封装置位于环形凹槽内,一对所述轴承套装于旋转轴上,且一对所述轴承安置于环形凹槽内,所述绝缘板安置于真空密封装置上。
优选的,所述绝缘板下表面设有防滑板:该防滑板用于增加摩擦力。
优选的,所述支撑架上开设有一对固定孔:该固定孔用于固定。
优选的,所述旋转轴上设有固定卡扣:该固定卡扣用于固定。
优选的,所述旋转轴上开设有第一圆形通孔:该第一圆形通孔用于固定。
优选的,所述驱动马达通过螺栓与支撑架连接:该螺栓用于拆卸。
有益效果
本发明提供了一种新的真空镀膜设备的偏压系统。具备以下有益效果:该装置为两套独立的旋转偏压系统,提高薄膜粘附性、增加离子透过率、改善膜层均匀性和达到复杂曲面形状的镀膜的目的,使用起来更加的方便,结构相对简单。
附图说明
图1为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的结构示意图。
图2为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的主视图。
图3为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的俯视图。
图4为本发明所述一种新的真空镀膜设备的偏压系统的侧视图。
图中:1-支撑架;2-驱动马达;3-齿轮驱动装置;4-绝缘零件;5-第一固定螺栓;6-旋转轴;7-偏压引入装置;8-碳刷;9-固定板;10-轴承;11-真空密封装置;12-第二固定螺栓;13-绝缘板;14-防滑板;15-固定卡扣。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4,本发明提供一种技术方案:一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架1、驱动马达2、齿轮驱动装置3、绝缘零件4、三对相同结构的第一固定螺栓5、旋转轴6、偏压引入装置7、两对相同结构的碳刷8、固定板9、一对相同结构的轴承10、真空密封装置11、四对相同结构的第二固定螺栓12以及绝缘板13共同构成的,所述驱动马达2安置于支撑架1上表面,所述齿轮驱动装置3安置于驱动马达2的旋转端上,所述绝缘零件4安置于齿轮驱动装置3内,三对所述第一固定螺栓5安置于绝缘零件4上,所述旋转轴6插装于绝缘零件4内,所述偏压引入装置7套装于旋转轴6上,两对所述碳刷8安置于偏压引入装置7上,所述固定板9上开设有第一圆形开口,所述第一圆形开口处开设有环形凹槽,所述真空密封装置11套装于旋转轴6上,且位于真空密封装置11位于环形凹槽内,一对所述轴承10套装于旋转轴6上,且一对所述轴承10安置于环形凹槽内,所述绝缘板13安置于真空密封装置11上;所述绝缘板13下表面设有防滑板14:该防滑板14用于增加摩擦力;所述支撑架1上开设有一对固定孔:该固定孔用于固定;所述旋转轴6上设有固定卡扣15:该固定卡扣15用于固定;所述旋转轴6上开设有第一圆形通孔:该第一圆形通孔用于固定;所述驱动马达2通过螺栓与支撑架1连接:该螺栓用于拆卸。
实施例:在本装置空闲处,安置所有电器件与其相匹配的驱动器,并且通过本领域人员,将上述中所有驱动件,其指代动力元件、电器件以及适配的电源通过导线进行连接,具体连接手段,应参考下述工作原理中,各电器件之间先后工作顺序完成电性连接,其详细连接手段,为本领域公知技术,下述主要介绍工作原理以及过程,不在对电气控制做说明,具体工作如下:支撑架1上表面的驱动马达2用于驱动,驱动马达2的旋转端上的齿轮驱动装置3用于转动,齿轮驱动装置3内的绝缘零件4用于绝缘,绝缘零件4上的第一固定螺栓5用于固定,绝缘零件4内的旋转轴6用于旋转,旋转轴6上的偏压引入装置7用于偏压,固定板9上的第一圆形开口用于固定,第一圆形开口处的环形凹槽用于固定,旋转轴6上的真空密封装置11用于真空密封,旋转轴6上的轴承10用于转动,真空密封装置11上的绝缘板13用于绝缘。
作为优选方案,更进一步的,所述绝缘板13下表面设有防滑板14:该防滑板14用于增加摩擦力。
作为优选方案,更进一步的,所述支撑架1上开设有一对固定孔:该固定孔用于固定。
作为优选方案,更进一步的,所述旋转轴6上设有固定卡扣15:该固定卡扣15用于固定。
作为优选方案,更进一步的,所述旋转轴6上开设有第一圆形通孔:该第一圆形通孔用于固定。
作为优选方案,更进一步的,所述驱动马达2通过螺栓与支撑架1连接:该螺栓用于拆卸。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下。由语句“包括一个......限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素”。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种新的真空镀膜设备的偏压系统,包括支撑架(1)、驱动马达(2)、齿轮驱动装置(3)、绝缘零件(4)、三对相同结构的第一固定螺栓(5)、旋转轴(6)、偏压引入装置(7)、两对相同结构的碳刷(8)、固定板(9)、一对相同结构的轴承(10)、真空密封装置(11)、四对相同结构的第二固定螺栓(12)以及绝缘板(13)共同构成的,其特征在于,所述驱动马达(2)安置于支撑架(1)上表面,所述齿轮驱动装置(3)安置于驱动马达(2)的旋转端上,所述绝缘零件(4)安置于齿轮驱动装置(3)内,三对所述第一固定螺栓(5)安置于绝缘零件(4)上,所述旋转轴(6)插装于绝缘零件(4)内,所述偏压引入装置(7)套装于旋转轴(6)上,两对所述碳刷(8)安置于偏压引入装置(7)上,所述固定板(9)上开设有第一圆形开口,所述第一圆形开口处开设有环形凹槽,所述真空密封装置(11)套装于旋转轴(6)上,且位于真空密封装置(11)位于环形凹槽内,一对所述轴承(10)套装于旋转轴(6)上,且一对所述轴承(10)安置于环形凹槽内,所述绝缘板(13)安置于真空密封装置(11)上。
2.根据权利要求1所述的一种新的真空镀膜设备的偏压系统,其特征在于,所述绝缘板(13)下表面设有防滑板(14):该防滑板(14)用于增加摩擦力。
3.根据权利要求1所述的一种新的真空镀膜设备的偏压系统,其特征在于,所述支撑架(1)上开设有一对固定孔:该固定孔用于固定。
4.根据权利要求1所述的一种新的真空镀膜设备的偏压系统,其特征在于,所述旋转轴(6)上设有固定卡扣(15):该固定卡扣(15)用于固定。
5.根据权利要求1所述的一种新的真空镀膜设备的偏压系统,其特征在于,所述旋转轴(6)上开设有第一圆形通孔:该第一圆形通孔用于固定。
6.根据权利要求1所述的一种新的真空镀膜设备的偏压系统,其特征在于,所述驱动马达(2)通过螺栓与支撑架(1)连接:该螺栓用于拆卸。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110857466A (zh) * | 2018-08-24 | 2020-03-03 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 一种真空镀膜设备的产品装夹装置 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0379764A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-04 | Ulvac Japan Ltd | 長尺物用イオンプレーティング装置 |
US20030073310A1 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-17 | Applied Materials, Inc. | Planarization of metal layers on a semiconductor wafer through non-contact de-plating and control with endpoint detection |
WO2003034478A2 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for electro chemical plating using backside electrical contacts |
JP2005248194A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜蒸着装置及び薄膜蒸着方法 |
CN1846013A (zh) * | 2003-09-05 | 2006-10-11 | 新明和工业株式会社 | 真空成膜方法、装置、以及用其制造的滤光片 |
WO2009154196A1 (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-23 | 株式会社シンクロン | バイアススパッタ装置 |
CN102102180A (zh) * | 2009-12-22 | 2011-06-22 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 |
CN102412339A (zh) * | 2011-10-28 | 2012-04-11 | 深圳市创益科技发展有限公司 | 具有高反射背电极的薄膜太阳能电池制造方法 |
CN104412355A (zh) * | 2013-03-14 | 2015-03-11 | 迪姆肯公司 | 旋转真空腔室连接组件 |
JP2015093997A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-18 | 株式会社島津製作所 | 成膜装置 |
US20150167144A1 (en) * | 2013-12-16 | 2015-06-18 | Huys Industries Limited | Electrode coating apparatus and method |
CN204589290U (zh) * | 2015-04-27 | 2015-08-26 | 昆山浦元真空技术工程有限公司 | 一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置 |
CN105463413A (zh) * | 2016-01-02 | 2016-04-06 | 刘南林 | 非真空dlc塑料容器生产装置 |
CN208762568U (zh) * | 2018-08-24 | 2019-04-19 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 一种新的真空镀膜设备的偏压系统 |
-
2018
- 2018-08-24 CN CN201810970215.4A patent/CN110857464A/zh active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0379764A (ja) * | 1989-08-23 | 1991-04-04 | Ulvac Japan Ltd | 長尺物用イオンプレーティング装置 |
US20030073310A1 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-17 | Applied Materials, Inc. | Planarization of metal layers on a semiconductor wafer through non-contact de-plating and control with endpoint detection |
WO2003034478A2 (en) * | 2001-10-16 | 2003-04-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for electro chemical plating using backside electrical contacts |
CN1846013A (zh) * | 2003-09-05 | 2006-10-11 | 新明和工业株式会社 | 真空成膜方法、装置、以及用其制造的滤光片 |
JP2005248194A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜蒸着装置及び薄膜蒸着方法 |
WO2009154196A1 (ja) * | 2008-06-17 | 2009-12-23 | 株式会社シンクロン | バイアススパッタ装置 |
CN102102180A (zh) * | 2009-12-22 | 2011-06-22 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 |
CN102412339A (zh) * | 2011-10-28 | 2012-04-11 | 深圳市创益科技发展有限公司 | 具有高反射背电极的薄膜太阳能电池制造方法 |
CN104412355A (zh) * | 2013-03-14 | 2015-03-11 | 迪姆肯公司 | 旋转真空腔室连接组件 |
JP2015093997A (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-18 | 株式会社島津製作所 | 成膜装置 |
US20150167144A1 (en) * | 2013-12-16 | 2015-06-18 | Huys Industries Limited | Electrode coating apparatus and method |
CN204589290U (zh) * | 2015-04-27 | 2015-08-26 | 昆山浦元真空技术工程有限公司 | 一种电弧离子真空镀膜机偏压辅助装置 |
CN105463413A (zh) * | 2016-01-02 | 2016-04-06 | 刘南林 | 非真空dlc塑料容器生产装置 |
CN208762568U (zh) * | 2018-08-24 | 2019-04-19 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 一种新的真空镀膜设备的偏压系统 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110857466A (zh) * | 2018-08-24 | 2020-03-03 | 安徽纯源镀膜科技有限公司 | 一种真空镀膜设备的产品装夹装置 |
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