CN110777371A - 表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法 - Google Patents

表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110777371A
CN110777371A CN201910674848.5A CN201910674848A CN110777371A CN 110777371 A CN110777371 A CN 110777371A CN 201910674848 A CN201910674848 A CN 201910674848A CN 110777371 A CN110777371 A CN 110777371A
Authority
CN
China
Prior art keywords
rinsing
medium
surface treatment
working medium
deionization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910674848.5A
Other languages
English (en)
Inventor
G·弗勒利希
J·舒尔茨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eisenman Ltd
Eisenman Mechanical Equipment Shanghai Co ltd
Halo Investment Cxliv
Original Assignee
Eisenmann SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102018118089.6A external-priority patent/DE102018118089A1/de
Priority claimed from DE102018130593.1A external-priority patent/DE102018130593A1/de
Application filed by Eisenmann SE filed Critical Eisenmann SE
Publication of CN110777371A publication Critical patent/CN110777371A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J41/00—Anion exchange; Use of material as anion exchangers; Treatment of material for improving the anion exchange properties
    • B01J41/02—Processes using inorganic exchangers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/73—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J47/00—Ion-exchange processes in general; Apparatus therefor
    • B01J47/02—Column or bed processes
    • B01J47/026—Column or bed processes using columns or beds of different ion exchange materials in series
    • B01J47/028—Column or bed processes using columns or beds of different ion exchange materials in series with alternately arranged cationic and anionic exchangers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
    • C02F1/62—Heavy metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/34—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing fluorides or complex fluorides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/78—Pretreatment of the material to be coated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/82—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/86—Regeneration of coating baths
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • C02F2001/422—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using anionic exchangers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • C02F2001/425—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using cation exchangers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/10—Inorganic compounds
    • C02F2101/12—Halogens or halogen-containing compounds
    • C02F2101/14—Fluorine or fluorine-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/10—Inorganic compounds
    • C02F2101/20—Heavy metals or heavy metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2222/00—Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
    • C23C2222/20—Use of solutions containing silanes

Abstract

一种用于处理物体(14)、尤其是机动车车身的表面处理设备(10)，包括：薄膜转换过程(20)，在其中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加在物体(14)上；随后的冲洗步骤(22，24)，在该冲洗步骤中物体(14)在薄膜转换过程(20)之后被利用冲洗介质(33)冲洗；和脱离子设备(28)，其具有阳离子交换器(52)和下游的阴离子交换器(54)和被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子。为了实现经济的运行，在脱离子设备(28)上游连接有预处理装置(30)，其被设置用于，将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。还提出一种相应的预处理装置和用于处理的方法。

Description

表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法
技术领域
本发明涉及一种用于处理物体的表面处理设备，所述物体尤其是机动车车身，所述表面处理设备包括：
a)薄膜转换过程，在该薄膜转换过程中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加在物体上，
b)随后的冲洗步骤，在该冲洗步骤中，物体在薄膜转换过程之后被利用冲洗介质冲洗，和
c)脱离子设备，该脱离子设备
-具有阳离子交换器和下游的阴离子交换器，
-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质脱离子。
本发明还涉及一种预处理装置以及用于处理物体的表面处理中的工作介质和/或冲洗介质的方法。
背景技术
金属材料必须被保护防止出现有害腐蚀。因此，物体的金属表面在表面处理设备中通常被涂上保护层。对此证明为有效的是如下的漆，该漆形成由有机聚合物组成的封闭薄膜。
为了使漆能执行其保护功能，在材料上的良好的附着是重要的。为了确保可靠的漆附着，必须在涂漆之前对金属材料预处理。
在涂漆之前的预处理通常包括用于去除污染物的清洁方法和/或用于去除例如铁锈附着物或氧化层的着色方法以及尤其是用于在工件表面上施加基层的转换方法。
对于在预处理中所使用方法的概述可以参考申请人的还未公开的文献DE 102018 115 289。
作为优选的转换方法，多年以来使用所谓的磷化处理。在此通过涂覆相应的化学材料到工件表面上而形成由金属磷酸氢盐组成的转换层。该磷酸氢盐层由于其结构化的表面提供用于后面的漆层的良好的附着性。具有磷酸氢盐层和后面的漆层的工件的腐蚀保护特性比没有相应的磷酸氢盐层好很多倍。
在工业的表面处理设备中证明为有利的是湿化学的预处理。在那里，在多个彼此连续的处理区中执行清洁方法、着色方法和/或转换方法。待处理的物体通过输送系统输送经过所述区并且在那里与相应的含水的过程介质接触。
接触通常通过喷射或喷淋工作介质进行或通过将物体浸入过程池中进行或通过上述方式的组合进行。独立于所选择的、被设置用于专用于各种应用情况的过程控制，在物体与工作介质接触之后，工作介质的残余物残留在物体的表面上。该残余物被粘带到后续的处理区中或甚至多个后续的处理区中，由此该处理区被弄得更脏。脏污可能对于所述后续的处理区中的处理过程产生不利影响。
为了使这种粘带对于后续的处理区的不利影响最小化，在清洁区、着色区和转换区下游连接有附加的冲洗区。在冲洗区中用原水和/或脱离子水(VE-水)冲洗物体，由此工作介质的残余物被容纳在冲洗用水中。在冲洗用水中积聚的脏污可以通过连续的或通过断续的排出管道作为废水排出并通过输入新鲜水稀释。
用于将干扰的脏污从冲洗用水中、但也从其它预处理过程液体中去除的另一种可能性在于，使用所谓的池浴维护措施。脏污在此通过技术分隔方法分隔，由此能实现延长使用工作介质和/或冲洗介质。由此可以减少工作介质消耗、新鲜水消耗和/或废水产生量。
经常使用的池浴维护措施显示出离子交换器(IAT)的使用。利用该技术可以去除以溶于水的形式存在的离子。在预处理中的现有技术是，在应用磷化处理作为转换方法之后通过离子交换器清洁最后的冲洗区、也就是说冲洗用水。在此，待清洁的冲洗用水首先通过过滤器、至少一个砂石过滤器输送，以便去除较粗的颗粒、例如氢氧化铁泥浆。随后，冲洗用水流过阳离子交换器(KAT)，在该阳离子交换器中存在由特殊颗粒形成的固体填料，该特殊颗粒能够将过程用水中的带正电离子与氢离子(H+-离子)交换。
随后，冲洗用水流过阴离子交换器(ANT)，在该阴离子交换器中以类似的方式将带负电的离子与氢氧化物离子(OH--离子)交换。
氢离子和氢氧化物离子相互中和形成正常水(H2O)，因此几乎无离子的水离开整个离子交换器。
被清洁的冲洗用水可以随后被返回引导到冲洗区中并且因此被重新使用。如果离子交换器耗尽——这是因为该离子交换器达到其对于脏离子的容纳容量，因此离子交换器必须被再生。为此，阳离子交换器通常利用酸性的盐酸溶液(HCl)再生，而阴离子交换器利用碱性的氢氧化钠溶液(NaOH)再生。
然而在近年以来，磷化处理作为既定的转换方法在预处理中被基于锆化合物，钛化合物和/或硅化合物的另选的方法代替。在这种所谓的薄膜转换中，在化学材料作用下在物体的表面上产生毫微的陶瓷转换层。因此也涉及纳米陶瓷。形成的转换层则主要由氧化的化合物(例如ZrO2，TiO2，SiO2)形成。
但是，基于锆化合物、钛化合物和/或硅化合物的薄膜转换过程不仅被用于完全代替磷化处理，而且也可以被用作传统的磷化处理的补充。在这种情况下，薄膜转换过程经常也被称为再次冲洗溶液或钝化。尤其在提出更高质量要求的机动车车身表面处理中，经常在磷化处理之后首先跟随进行了冲洗，随后进行被称为钝化的薄膜转换以及随后重新进行冲洗。假定，通过钝化变得自由的金属面——该金属面没有被足够地磷化处理——通过薄膜转换钝化并且由此提高了腐蚀保护。代替磷化处理的薄膜转换过程和补充磷化处理的薄膜转换过程的化学成分在很大程度上相似。
发明内容
本发明的目的是，提出一种用于薄膜转换处理的表面处理设备，该表面处理设备还允许处理/回收利用工作介质和/或冲洗介质。
根据本发明，该目的通过一种开头所述类型的表面处理设备实现，其中，
d)在脱离子设备上游连接有预处理装置，该预处理装置被设置用于，将在薄膜转换过程中产生和/或存在的络合物阴离子/复杂阴离子从工作介质和/或冲洗介质中去除。
发明人发现，在用于处理工作介质和/或冲洗介质的脱离子设备中的砂石过滤器，阳离子交换器和阴离子交换器的迄今的串联不再能没有问题地实现。因为在应用已知的技术时会导致在脱离子设备中的固体沉淀，这已经在少许的运行周期之后引起离子交换器的阻塞。这与流动压力损失的升高和离子交换容量的减少相联系。
发明人还发现，如果在冲洗介质中含有源于薄膜转换过程的溶解的锆化合物、钛化合物和/或硅化合物，那么在脱离子设备中、尤其是在处理冲洗介质时出现不期望的固体沉淀。
此外发明人发现，阴离子交换器的循环的再生在含有氢氧化钠溶液的脱离子设备中形成对于固体沉淀的溶剂
Figure BDA0002142938790000041
分析随后显示出，沉淀的固体包含在水中和/或在酸中难以溶解的、锆、钛和/或硅的(氢-)氧化化合物。
已经发现，在薄膜转换过程中应用的、锆(Zr)、钛(Ti)和硅(Si)的化合物、例如六氟锆酸(H2ZrF6)、六氟钛酸(H2TiF6)，氟硅酸(H2SiF6)和/或其容易溶解的碱金属盐、铵盐和/或(有机-)硅烷形式的薄膜转换溶液在工作介质和/或冲洗介质中作为可溶于水的复杂离子存在。例如所述离子是[ZrF6]2--离子，[TiF6]2--离子和/或[SiF6]2--离子。然而，复杂离子的稳定性依赖于溶液的pH值，由此，当阴离子交换器在含有氢氧化钠溶液的脱离子设备中再生时，难以溶解的氢氧化物、氧化物和/或氢氧化合物作为固体沉淀。
根据本发明，发明人因此提出，设有预处理装置，该预处理装置在络合物阴离子/复杂阴离子到达脱离子设备中之前将络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质中去除。由此还可以将常见的根据现有技术的VE-水设备用作脱离子设备。其主要用途可以在于，由原水或新鲜水产生VE-水。通过预处理装置可以在此在一定程度上还使用工作介质和/或冲洗介质。
在本发明的意义中，去除络合物阴离子至少在以下程度上包括去除络合物阴离子，即，脱离子设备可以经济地运行。
优选地规定，预处理装置具有阴离子交换器，该阴离子交换器被设置用于，将络合物阴离子与其它阴离子交换。
如下面还要说明的，阴离子交换器作为预处理装置显示出一种经济上有意义的可能性，用于在脱离子设备之前去除干扰的络合物阴离子。所述另外的阴离子、所谓的交换离子应该尤其是这样的，其对于后面的脱离子设备既不在脱离子运行中也不在再生时是有问题的，例如导致交换器材料的阻塞。在预处理装置中因此进行流过的工作介质和/或冲洗介质的重新盐化。在重新盐化时，干扰的络合物阴离子通过其它盐-阴离子(也就是说尤其不通过OH--离子)交换，其在后面的VE-水设备中未引起干扰。
作为交换阴离子一般可以考虑酸根阴离子、例如磷酸氢盐(PO4 3-)和/或磷酸氢盐(HPO4 2-和H2PO4 -)。然而优选是强酸至中等强度的酸的酸根阴离子，如盐酸、硝酸或硫酸的酸根。例如它也可以是碘化物(I-)、溴化物(Br-)、氟化物(F-)和/或硫酸氢盐(HSO4 -)的酸根阴离子。尤其有利的是，交换因此通过氯化物(Cl-)，硝酸盐(NO3 -)或硫酸盐(SO4 2-)实现。
作为预处理装置证明为尤其有利的是阴离子交换器，该阴离子交换器具有弱碱的交换器材料，该交换器材料对于真正的过程优选地被加载氯化物(Cl-)。脱离子设备在此还可以以常见的方式首先包括含有强酸性的交换器材料的阳离子交换器以及随后包括含有弱碱的交换器材料的阴离子交换器。
酸根阴离子与工作介质和/或冲洗介质一起离开预处理装置。
络合物阴离子残留在阴离子交换器中，从而该阴离子交换器必须时不时地被再生。这通过再生剂进行，该再生剂包含浓缩的形式的酸根阴离子。包含再生剂和络合物阴离子的再生物在此被导出和/或聚集。在最有利的情况下，络合物阴离子可以例如通过再生装置分离并且返回引导到薄膜转换过程中。
优选地规定，预处理装置的阴离子交换器包括选择性的交换器材料。
由此，预处理装置仅能被设置用于交换络合物阴离子。对于后面的脱离子设备没有问题的其它阴离子可以残留在工作介质和/或冲洗介质中。这导致在预处理装置中阴离子交换器的负荷降低。
优选地规定，预处理装置的阴离子交换器被利用再生剂再生，该再生剂具有小于大约6的pH值。
由于预处理装置的阴离子交换器在酸中再生，所以络合物阴离子没有脱离、而是以溶解的形式存在于再生物中。为此，再生剂优选地应该具有强酸的酸根离子。强酸的酸根离子(例如盐酸HCl；硝酸HNO3或硫酸H2SO4)不改变pH值，相反地，中等强度的酸或弱酸的酸根离子可以提高pH值。下述的再生剂被视为合适的，其含有酸根离子连同其相应的酸。因此，由具有硝酸的硝酸盐(例如硝酸钠)或由具有硫酸的硫酸盐(例如硫酸钠)组成的含水的溶液是合适的。证明为尤其合适的是由具有盐酸(HCl)的氯化钠溶液(NaCl)组成的含水的溶液。另选地当然也仅能应用HCl或仅能应用NaCl，也就是说仅能应用酸或仅能应用盐。
重要的是，在再生时预处理装置中的阴离子交换器的pH值未升高，这是因为否则可能导致固体沉淀。
在再生之后优选地还用水冲洗，并且重新提供阴离子交换器用于清洁工作介质和/或冲洗介质。
优选地规定，预处理装置除了阴离子交换器之外还具有另一阴离子交换器，从而两个阴离子交换器可以被交替运行和再生。
这促使连续地排出工作介质和/或冲洗介质，由此，脱离子设备可以被连续馈送和运行。
优选地规定，预处理装置具有用于使络合物阴离子从工作介质或冲洗介质中沉淀的装置以及随后的分离装置。
这相对于阴离子交换器提供另一种可能性，用于保护脱离子设备免受络合物阴离子的影响，该络合物阴离子对于包含在其中的交换器的运行或再生是有问题的和有害的。为此，在预处理装置中向工作介质和/或冲洗介质添加沉淀剂(必要时也添加絮凝剂和/或絮凝助剂)，以便使干扰的络合物阴离子沉淀。其在最简单的情况下是一种使pH值改变到碱性范围中的试剂。该试剂可以例如是氢氧化钠溶液或石灰乳。
作为分离装置可以应用不同方法用于使固体与溶液分离。其例如是过滤、沉降、离心、气旋或类似方法。
用于沉淀的装置和分离装置也可以被组合在共同的单元中。
最后，可以设置阴离子交换器和用于沉淀的装置，并且也可以补充地设置分离装置。
优选地规定，将冲洗介质输送到预处理装置的多个冲洗槽。
这允许进一步降低新鲜水需求和/或减少安装花费。
优选地规定，表面处理设备具有控制器，该控制器被设置用于，使预处理装置这样运行和再生，即，络合物阴离子最多以无害的浓度到达脱离子设备中。
控制器可以为此利用不同的泵、阀和/或ESMR-测量点。
根据本发明的另一个方面提出一种预处理装置，其被设置用于，连接在表面处理设备的脱离子设备上游，其还被设置用于，将在表面处理设备的薄膜转换过程中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质中去除。
如果存在的表面处理设备应该被从已知的磷化处理过程转换到薄膜转换过程，那么所述预处理装置可以被插入该存在的表面处理设备中。以这种方式可以继续使用迄今应用的脱离子设备。
根据本发明的另一个方面，提出一种用于处理来自表面处理设备中的薄膜转换涂装过程的工作介质和/或处理来自随后的冲洗步骤的冲洗介质的方法，所述方法包括以下步骤：
a)提供脱离子设备，该脱离子设备
-具有阳离子交换器和下游的阴离子交换器，
-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质脱离子；
b)提供预处理装置，该预处理装置被连接在脱离子设备上游并且被设置用于，将在薄膜转换过程中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质中去除；
c)从工作介质和/或冲洗介质中去除络合物阴离子。
利用所述方法也可以在薄膜转换过程中处理工作介质和/或冲洗介质。
根据本发明的另一个方面，提出一种用于处理物体、尤其是机动车车身的表面处理设备，所述表面处理设备包括：
a)薄膜转换过程，在该薄膜转换过程中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加在物体上，
b)随后的冲洗步骤，在该冲洗步骤中物体在薄膜转换过程之后被利用冲洗介质冲洗，和
c)膜过滤设备，该膜过滤设备
-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质脱离子，
其中，
d)在膜过滤设备上游连接有预处理装置，该预处理装置被设置用于，将在薄膜转换过程中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质中去除。
由于预处理装置能以简单的方式被连接在已知的脱离子设备上游，因此也可以将预处理装置的优点转用于其它处理设备、如膜过滤设备、例如反渗透-设备。
优选地可以将所有在独立权利要求中给出的附加特征——所述附加特征有利地在具有离子交换器的脱离子设备之前进一步改进预处理装置——也应用在通过膜过滤设备修改的表面处理设备上。
附图说明
下面根据附图详细说明本发明的实施例。图中：
图1示出具有脱离子设备和根据本发明的预处理装置的表面处理设备；
图2示出根据另一个实施例的、具有脱离子设备和根据本发明的预处理装置的表面处理设备；
图3示出根据另一个实施例的、具有脱离子设备和根据本发明的预处理装置的表面处理设备。
具体实施方式
图1示出整体上用10表示的表面处理设备，其具有输送系统12，该输送系统引导物体14——在此是机动车车身的形式——经过表面处理设备的各个处理步骤/处理部分。
在图1中示出的、源自表面处理设备10的局部首先包括两个冲洗槽16和18，这两个冲洗槽跟随在先前的处理步骤、例如清洁之后。
此外，用于执行薄膜转换过程的表面处理设备10具有薄膜转换槽20，该薄膜转换槽在此被构造为浸槽。
在薄膜转换过程之后跟随的是两个形式为冲洗级联(Spülkaskade)的冲洗步骤。为此，在这里随后在薄膜转换槽20处布置喷射冲洗槽22，该喷射冲洗槽被利用来自后面的冲洗槽24的溢流水运行，其被设置用于浸槽。溢流水可以在此从冲洗槽24外溢到或被主动地泵送到喷射冲洗槽22。
反之，从管道26向冲洗槽24馈送脱离子水(VE-水)。
管道26又通过脱离子设备28馈送，该脱离子设备产生VE-水并因此通常也被称为VE-水设备。
表面处理设备10还具有预处理装置30。
预处理装置30通过排泄管道32被从冲洗槽24馈送弄脏的冲洗用水33。预处理装置30的输出端34与原水箱36连接，从该原水箱又通过管道38向脱离子设备28馈送。
原水箱36附加地还具有原水-馈送管道40，通过该原水-馈送管道可以从市政供水网将原水或井水引入到设备中。
最后，还有废水管道42从喷射冲洗槽22引导到未示出的下水道或企业的化学-物理的废水处理设备中。
如图1所示，表面处理设备10还具有控制器44，该控制器被设置用于，通过不同的测量点46、泵48和阀50监视和控制设备的过程。
脱离子设备28在其内部具有阳离子交换器柱52以及阴离子交换器柱54。借助于阳离子交换器柱52将带正电离子与氢离子(H+-离子)交换。反之，在后面的阴离子交换器柱54中将带负电的离子与氢氧化物离子(OH--离子)交换。由于相应的离子交换材料随时间耗尽，因此其必须被时不时地再生。为此，脱离子设备对于每个柱具有再生剂输入端56和58以及相应的再生物输出端60和62。
在根据图1的实施例中，预处理装置30具有阴离子交换器柱64，该阴离子交换器柱带有选择性的交换器材料。也在此设置再生剂输入端66以及再生物输出端68。
表面处理设备10如下述地工作：
在薄膜转换槽20中，物体被覆盖上毫微的陶瓷层。在此应用的化学材料含有锆(Zr)、钛(Ti)和硅(Si)的化合物作为氟化物化合物。它们例如是六氟锆酸(H2ZrF6)、六氟钛酸(H2TiF6)和氟硅酸(H2SiF6)或其容易溶解的碱金属盐和/或铵盐。也可以使用(有机-)硅烷的形式的薄膜转换溶液。
这些化合物通过在物体处的粘带从薄膜转换过程到达两个后面的冲洗槽22和24中。
在预处理装置30中，包含在流出的冲洗用水33中的、来自薄膜转换过程的含有锆、钛或硅的络合物阴离子被与其它阴离子交换，其中在此一般考虑酸根阴离子。在预处理装置30的阴离子交换柱64中因此通过选择性的交换器材料对那些对于脱离子设备28有问题的络合物阴离子进行重新盐化(Umsalzung)。
酸根阴离子接下来和剩余的冲洗用水33一起通过管道34离开预处理装置30并被引入原水箱36中。酸根阴离子从那里和必要时被新鲜地计量的原水到达脱离子设备28中以用于接收在表面处理设备10的系统中的液体总量。
在脱离子设备28中以本身已知的方式首先将阳离子与氢-阳离子交换并且随后将阴离子与氢氧化物-阴离子交换，其中，通过在预处理装置30中的重新盐化将没有问题的阴离子储藏在脱离子设备28的交换器材料中用于以后的再生。脱离子设备28因此能以已知的方式再生，更确切地说通过以下方式，即，阳离子交换器柱52酸性地再生和阴离子交换器柱54碱性地再生。因此在脱离子设备28中不会由于络合物阴离子在碱性再生时的沉淀而导致离子交换器材料的阻塞。
为了使预处理装置30的阴离子交换器柱66再生，代替碱性再生执行在酸性的或中性的范围中的再生。为此，在阴离子交换器柱64的再生剂输入端66上使用具有小于6的pH值的再生剂。这可以通过强酸的酸根-离子实现，因为其不改变pH值，相反地，中等强度的酸或弱酸的酸根-离子可能提高pH值，由此，阴离子交换器柱64中的络合物阴离子可能在预处理装置30中沉淀。
由于在根据图1的实施例中在预处理装置30上相比于现有技术积累附加的再生物，图2示出相对此改进的实施例，其中，类似功能或相同功能的部件用相同的附图标记表示。
如可从图2得知的，在脱离子设备28上产生的再生物在此至少在预处理装置30的部分中被作为再生剂输送。
对此，脱离子设备28的两个再生物输出端60，62或这两个再生物输出端之一与再生物箱70连接。未示出的变化可能性是，丢弃再生物而不是将其引导到再生物箱70。再生物箱70还与预处理装置30的再生剂输入端66连接。由此可以多次应用再生剂和/或减少安装花费。
例如阳离子交换器柱52可以利用盐酸(HCl)以过量的方式作为再生剂再生。在所谓的再生物初馏物中，也就是说在再生开始时，来自阳离子交换柱52的杂质离子首先以高浓度包含。这种再生物初馏物可以通过分支可能性丢弃。随后，再生物中的杂质离子的浓度降低并且其随后聚集在再生物箱70中。包含在再生物箱70中的再生物相对于输入端上的再生剂然而具有略低的含酸量、也就是说略高的pH值。
利用所述较少浓缩的盐酸作为再生剂，随后馈送预处理装置30的阴离子交换器柱64。
另一种可能性在于，重新应用在阴离子交换器柱64中与络合物阴离子(例如Cl--离子)交换并且通过原水到达脱离子设备28中的离子。因为该离子在脱离子设备28的正常运行中首先积聚在阴离子交换器柱54中并且与OH--离子交换。在再生时，该Cl--离子可以聚集在再生物箱70中，其从那里作为再生剂重新到达预处理装置30的阴离子交换器柱64中。因此产生循环，由此再生剂需求减少并且附加地还进一步降低了原水消耗。
当然也需要用于监视再生物的附加的测量技术和其它计量可能性。
最后，图3示出另一个实施例，在该实施例中，预处理装置30包括用于沉淀络合物阴离子的装置72以及随后的分离装置74、例如沉淀和/或过滤，用于从含水的冲洗用水33中分离沉淀的固体。
在这个实施例中，对于脱离子设备28有问题的络合物阴离子因此从薄膜转换过程通过在沉淀剂输入端76上添加相应的沉淀化学材料从冲洗用水中沉淀。例如可以改变碱性的pH值。也可以应用辅助固体絮凝的絮凝剂。
分离装置74与原水箱36连接，在该原水箱中原水如同在前面的实施例中一样为了进一步的处理归集在脱离子设备28中。
如还可从图3得知的，冲洗用水33也可以从喷射冲洗槽22中提取。这适用于所有实施例。
根据所述设备的设计方案，本领域技术人员也可以随意地采用上述实施例的组合。
因此例如可以考虑，在根据图3的实施例中在分离装置74之后还相应于图1和图2在预处理装置30中设置阴离子交换器柱64。
冲洗用水也可以被冲洗槽22和24集合在一起。
原则上也可以考虑，以类似的方式处理薄膜转换过程的工作介质。因为也对于薄膜转换涂装槽20有意义的可以是，通过包括预处理装置30的组合和脱离子设备28处理和/或清除流出的工作介质。
在上述实施例的变型方案中可以作为在预处理装置之前的预过滤器相对于砂石过滤器附加地或另选地使用活性炭过滤器。该活性炭过滤器可以作为起吸附作用的过滤器去除例如干扰的表面活性剂、杀虫剂和/或消毒剂。尤其当产生的VE-水不仅应被返回引导到冲洗过程中、而且也应被输入其它过程部分中时，可以根据特殊的应用情况设置活性炭过滤器。跟随预处理装置和/或脱离子设备的活性炭过滤器也可以是有利的。
独立于本发明的目前的主题已知的是，根据本发明的预处理装置有利地也可以被设置在膜过滤设备、例如反渗透-设备之前，以用于去除络合物阴离子。因为所述的络合物阴离子也可以在那里由于膜阻塞(也称为污垢或结垢)引起干扰。因此含有薄膜转换内部材料的水迄今未通过膜过滤设备引导。上游的根据本发明的预处理装置也可能在此去除干扰的络合物阴离子，由此可以通过膜过滤设备进一步脱离子。
在图中随后可将脱离子设备28理解为具有一个或多个膜过滤器52和54的膜过滤设备28。
申请人保留以下权利：例如在分案申请的范围内继续遵循所述思想。
本发明的思想尤其可以被普遍地视为，从表面处理设备的任意的水中在预处理的范围内借助于阴离子交换器去除络合物阴离子，其pH值和前述的一样。

Claims (11)

1.一种用于处理物体(14)的表面处理设备(10)，所述物体尤其是机动车车身，所述表面处理设备包括：
a)薄膜转换过程(20)，在该薄膜转换过程中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加到物体(14)上，
b)随后的冲洗步骤(22，24)，在该冲洗步骤中，物体(14)在薄膜转换过程(20)之后被利用冲洗介质(33)冲洗，和
c)脱离子设备(28)，该脱离子设备
-具有阳离子交换器(52)和下游的阴离子交换器(54)，和
-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子，
其特征在于，
在脱离子设备(28)上游连接有预处理装置(30)，该预处理装置被设置用于，将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。
2.根据权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)具有阴离子交换器(64)，该阴离子交换器被设置用于，将络合物阴离子与其它阴离子交换。
3.根据权利要求2所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)的阴离子交换器(64)包括选择性的交换器材料。
4.根据权利要求2至3中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)的阴离子交换器(64)被利用再生剂再生，该再生剂具有小于约6的pH值。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)除了所述阴离子交换器(64)之外还具有另一阴离子交换器，从而两个阴离子交换器被交替运行和再生。
6.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，预处理装置(30)具有用于使络合物阴离子从工作介质或冲洗介质(33)中沉淀的装置(72)以及随后的分离装置(74)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，将冲洗介质(33)输送到预处理装置(30)的多个冲洗槽(22，24)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理设备，其特征在于，表面处理设备具有控制器(44)，该控制器被设置用于，使预处理装置(30)这样运行和再生，即，络合物阴离子最多以无害的浓度到达脱离子设备(28)中。
9.一种预处理装置，其被设置为连接在表面处理设备(10)的脱离子设备(28)上游，其还被设置用于将在表面处理设备(10)的薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。
10.一种用于处理来自表面处理设备(10)中的薄膜转换涂装过程(20)的工作介质和/或处理来自随后的冲洗步骤(22，24)的冲洗介质(33)的方法，所述方法包括以下步骤：
a)提供脱离子设备(28)，该脱离子设备
-具有阳离子交换器(52)和连接在下游的阴离子交换器(54)，
-被设置用于，使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子；
b)提供预处理装置(30)，该预处理装置被连接在脱离子设备(28)上游并且被设置用于，将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除；
c)从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除络合物阴离子。
11.一种用于处理物体(14)的表面处理设备(10)，所述物体尤其是机动车车身，所述表面处理设备包括：
a)薄膜转换过程(20)，在该薄膜转换过程中在使用工作介质的情况下将陶瓷薄膜施加在物体(14)上，
b)随后的冲洗步骤(22，24)，在该冲洗步骤中，物体(14)在薄膜转换过程(20)之后被利用冲洗介质(33)冲洗，和
c)膜过滤设备(28)，该膜过滤设备
-被设置用于使工作介质和/或冲洗介质(33)脱离子，
其特征在于，
在膜过滤设备(28)上游连接有预处理装置(30)，该预处理装置被设置用于将在薄膜转换过程(20)中产生和/或存在的络合物阴离子从工作介质和/或冲洗介质(33)中去除。
CN201910674848.5A 2018-07-26 2019-07-25 表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法 Pending CN110777371A (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018118089.6 2018-07-26
DE102018118089.6A DE102018118089A1 (de) 2018-07-26 2018-07-26 Oberflächenbehandlungsanlage, Präkonditionierungseinrichtung und Verfahren zum Aufbereiten von Prozessmedium und/oder Spülmedium
DE102018130593.1A DE102018130593A1 (de) 2018-11-30 2018-11-30 Oberflächenbehandlungsanlage, Präkonditionierungseinrichtung und Verfahren zum Aufbereiten von Prozessmedium und/oder Spülmedium
DE102018130593.1 2018-11-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110777371A true CN110777371A (zh) 2020-02-11

Family

ID=67211568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910674848.5A Pending CN110777371A (zh) 2018-07-26 2019-07-25 表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20200032398A1 (zh)
EP (1) EP3715335A1 (zh)
CN (1) CN110777371A (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5087373A (en) * 1990-06-11 1992-02-11 Metallgesellschaft Aktiengesellschaft Process for removing titanium and zirconium from aqueous solutions
US5876685A (en) * 1996-09-11 1999-03-02 Ipec Clean, Inc. Separation and purification of fluoride from industrial wastes
US20050145572A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-07 Juzer Jangbarwala Selective fluoride and ammonia removal by chromatographic separation of wastewater
US20090288738A1 (en) * 2007-02-05 2009-11-26 Henkel Ag & Co. Kgaa Process for obtaining desalted water from zirconium-containing wash water
JP2013119487A (ja) * 2011-12-06 2013-06-17 Kurita Water Ind Ltd ケイフッ化水素酸含有液の処理方法
CN103214115A (zh) * 2013-03-15 2013-07-24 曾小芳 一种强酸阳离子交换树脂贫再生的水处理方法
CN103255466A (zh) * 2013-05-23 2013-08-21 中山中粤马口铁工业有限公司 一种镀铬薄钢板的含铬废水在线回收再利用装置及方法
US20130274357A1 (en) * 2012-04-12 2013-10-17 Lehigh University Hybrid anion exchanger impregnated with hydrated zirconium oxide for selective removal of contaminating ligand and methods of manufacture and use thereof
CN104909508A (zh) * 2015-06-08 2015-09-16 佛山市新泰隆环保设备制造有限公司 一种电镀含铬废水的处理方法及处理装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008038653A1 (de) * 2008-08-12 2010-03-25 Henkel Ag & Co. Kgaa Sukzessive korrosionsschützende Vorbehandlung von Metalloberflächen in einem Mehrstufenprozess
DE102018115289A1 (de) 2018-06-26 2019-05-23 Eisenmann Se Tauchlackieranlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5087373A (en) * 1990-06-11 1992-02-11 Metallgesellschaft Aktiengesellschaft Process for removing titanium and zirconium from aqueous solutions
US5876685A (en) * 1996-09-11 1999-03-02 Ipec Clean, Inc. Separation and purification of fluoride from industrial wastes
US20050145572A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-07 Juzer Jangbarwala Selective fluoride and ammonia removal by chromatographic separation of wastewater
US20090288738A1 (en) * 2007-02-05 2009-11-26 Henkel Ag & Co. Kgaa Process for obtaining desalted water from zirconium-containing wash water
JP2013119487A (ja) * 2011-12-06 2013-06-17 Kurita Water Ind Ltd ケイフッ化水素酸含有液の処理方法
US20130274357A1 (en) * 2012-04-12 2013-10-17 Lehigh University Hybrid anion exchanger impregnated with hydrated zirconium oxide for selective removal of contaminating ligand and methods of manufacture and use thereof
CN103214115A (zh) * 2013-03-15 2013-07-24 曾小芳 一种强酸阳离子交换树脂贫再生的水处理方法
CN103255466A (zh) * 2013-05-23 2013-08-21 中山中粤马口铁工业有限公司 一种镀铬薄钢板的含铬废水在线回收再利用装置及方法
CN104909508A (zh) * 2015-06-08 2015-09-16 佛山市新泰隆环保设备制造有限公司 一种电镀含铬废水的处理方法及处理装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20200032398A1 (en) 2020-01-30
EP3715335A1 (de) 2020-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8425768B2 (en) System and method for wastewater treatment
US5192418A (en) Metal recovery method and system for electroplating wastes
CN101481157B (zh) 一种集成膜深度处理电镀废水工艺
US20040108277A1 (en) Reverse osmosis pretreatment using low pressure filtration
WO2018166503A1 (zh) 不锈钢酸洗废水处理系统
JP3742264B2 (ja) リン酸塩被膜化成処理の水洗水の回収方法及び金属表面処理装置
CN108012533A (zh) 用于移除二氧化硅的陶瓷膜系统和相关方法
CN101863570B (zh) 含重金属废水处理与回用方法及设备
CN110777371A (zh) 表面处理设备，预处理装置和处理工作和/或冲洗介质的方法
DE102018115289A1 (de) Tauchlackieranlage und Verfahren zum Betreiben einer solchen
JP4098669B2 (ja) りん酸塩化成処理液の回収再利用方法
JP4490565B2 (ja) 金属表面処理水洗水中の処理剤成分の回収方法
JP2002285363A (ja) 塗装前処理方法
US20050167005A1 (en) Pretreatment of aluminum surfaces
JP5535967B2 (ja) 車両洗浄システム
CN211445340U (zh) 一种电镀锡钝化含铬废水回收再利用系统
DE102018130593A1 (de) Oberflächenbehandlungsanlage, Präkonditionierungseinrichtung und Verfahren zum Aufbereiten von Prozessmedium und/oder Spülmedium
Aly A new development of wastewater treatment unit for paint shop in vehicle industry
JP7113915B1 (ja) 塗装設備の排水リサイクルシステム
CN205347026U (zh) 铜片研磨废水处理回用系统
FI119248B (fi) Prosessi ja laitteisto metallikappaleen peittaamiseksi hitsauksen jälkeen
JP2008155112A (ja) ジルコニウム化成処理水洗排水回収方法
KR100667974B1 (ko) 구리 폐수의 재생처리 장치 및 그 방법
KR101469844B1 (ko) 아노다이징 공정의 청정생산 시스템 개발
KR101327385B1 (ko) 표면 처리의 전처리 공정에서 발생하는 처리액의 재사용을 위한 청정 시스템 및 이의 구동 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20221109

Address after: German Bobulingen

Applicant after: Eisenman Ltd.

Address before: Holland, Zeist

Applicant before: Halo investment cxliv

Effective date of registration: 20221109

Address after: Unit 606, building D, phase I, Vientiane City, 1799 Wuzhong Road, Minhang District, Shanghai

Applicant after: Eisenman mechanical equipment (Shanghai) Co.,Ltd.

Address before: German Bobulingen

Applicant before: Eisenman Ltd.

Effective date of registration: 20221109

Address after: Holland, Zeist

Applicant after: Halo investment cxliv

Address before: German Bobulingen

Applicant before: EISENMANN SE