CN110764376B - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及显示面板的制作方法，该方法包括：提供一基板，在基板上依次形成显示结构层，显示结构层设置有至少一个对位标识；在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部，透光部一一对应的覆盖对位标识；在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，透光部使对位标识可识别；通过对位标识进行对位，图形化黑色材料层，形成黑色遮光层。本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，在黑色遮光层形成之前，通过制作对位标识的透光部，实现对位标识区域的可识别，从而使黑色材料层在图形化过程中可以精确对位，从而形成位置精确的黑色遮光层，简单实用。

Description

显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

随着全面屏应用的发展，要求显示屏正面的利用率越来越高。其中摄像头模组部分的空间一直是大家希望利用起来的。为了能利用好摄像头这个部分的空间，就需要将此处的摄像头藏在显示屏下面。由于要实现屏下摄像头拍摄技术，不仅要求摄像头正面的屏体透过率高，同时还要减少环境光及反射光对摄像的影响，因此，存在如何降低环境光及反射光对摄像干扰的问题。

发明内容

为此，本发明提出了一种显示面板及其制作方法，以解决光刻过程中曝光机识别对位标识时存在困难，从而导致无法进行精确的曝光对位的问题。

根据第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：提供一基板，在基板上依次形成显示结构层，显示结构层设置有至少一个对位标识；在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部，透光部一一对应的覆盖对位标识；在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，透光部使对位标识可识别；通过对位标识进行对位，图形化黑色材料层，形成黑色遮光层。

可选地，在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部包括：在显示结构层上远离基板的一侧涂覆透明材料层；利用对位标识对透明材料层图形化，形成透光部。

可选地，在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部，包括：在显示结构层上远离基板的一侧设置透明微型真空吸盘，透明微型真空吸盘一一对应的覆盖对位标识，形成透光部。

可选地，在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，包括：在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，并暴露透光部，透光部的厚度大于黑色材料层的厚度。

可选地，透光部的厚度是黑色材料层的厚度的1－2倍。

可选地，通过对位标识进行对位，图形化黑色材料层，形成黑色遮光层之后，包括：剥离透光部。

可选地，在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，包括：在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，并覆盖透光部，透光部的厚度小于黑色材料层的厚度。

可选地，透光部远离基板的一端至黑色材料层远离基板的一侧的距离小于黑色材料层厚度的一半。

可选地，在基板上依次形成显示结构层，包括：在基板上制备像素电路层，像素电路层包括有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层以及源漏层；在像素电路层上依次制备平坦化层、第一电极、对位标识以及像素限定层。

根据第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板采用如上述任意实施例的显示面板制作方法制成。

本发明实施例有益效果：

1.提供了一种显示面板的制作方法，在黑色遮光层形成之前，通过制作对位标识的透光部，实现对位标识区域的可识别，从而使黑色材料层在图形化过程中可以精确对位，从而形成位置精确的黑色遮光层，简单实用。

2.在显示结构层上远离基板的一侧涂覆透明材料层，利用对位标识对透明材料层图形化，形成透光部，可以利用现有设备对透明材料层图形化，形成透光部以使对位标识区域可识别，便于异物管控，且透光部不会对其他膜层造成损伤，又能使透光部能够使对位标识可识别，从而实现黑色材料层图形化过程中的精确对位。

3.将对位标识的透光部设置成透明微型真空吸盘，通过将透明微型真空吸盘覆盖对位标识，通过透明微型真空吸盘使对位标识可识别，从而实现黑色材料层图形化过程中的精确对位，操作简单、灵活，成本低。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本发明实施例显示面板的制作方法的示意图；

图2示出了本发明实施例透光部的示意图；

图3示出了本发明另一实施例透光部的示意图；

图4示出了本发明实施例黑色材料层与透光部的高度示意图；

图5示出了本发明另一实施例黑色材料层与透光部的高度示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。

针对上述技术问题，发明人在设置有摄像头等感光器件的透明屏上采用黑色的支撑柱(SPC)或黑色遮光层，既能够实现支撑柱的作用，同时还能够遮挡金属等对环境光的反射，以及自发光的反射、散射。发明人在透明显示面板的制作过程中，在做完像素限定层之后，在像素限定层上制备一层黑色支撑柱或黑色遮光层。黑色支撑柱或黑色遮光层是通过曝光机采用旋涂的方式在像素限定层上整面涂布一层黑色材料层，然后对黑色材料层进行光刻形成的。为了提高黑色材料层光刻的对位精度，通常在显示结构层上设置对位标识(MARK)。而该工艺方法存在由于整面的黑色材料层，导致了将对位mark遮挡，在黑色材料层图形化的时候，曝光机透过黑色材料层识别对位标识时存在困难，导致无法抓取到对位mark，无法对位的问题。

针对上述问题，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，如图1所示，

S101.提供一基板，在基板上依次形成显示结构层，显示结构层设置有至少一个对位标识。

在本实施例中，基板可以为刚性基板，如玻璃基板、石英基板或者塑料基板等；基板也可为柔性基板，如PI薄膜等。基板可以为阵列基板，在同一基板上可以阵列地形成多块重复的屏体，当然，基板也可以为仅包含一块屏体的单个基板，本实施例以基板为包含一块屏体的单个基板为例进行说明。基板包括无效区域、有效区域、以及设置于无效区域和有效区域之间的用于基板测试的测试区域，在基板上依次形成显示结构层包括：在基板有效区域和测试区域上制备像素电路层，像素电路层包括有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层以及源漏层；在像素电路层上依次制备平坦化层、第一电极、对位标识以及像素限定层，使对位标识可位于像素电路层、平坦化层、第一电极以及像素限定层中的任意一层上，且对位标识位于测试区域。在本实施例中，以对位标识位于第一电极为例进行说明。

S102.在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部，透光部一一对应的覆盖对位标识。

在本实施例中，在像素限定层上形成透光部，透光部材料为透明材料，例如透明材料可以为透明有机胶等，透光部可以为柱状结构，透光部的个数与对位标识的个数相同，透光部在基板上的投影覆盖对位标识在基板上的投影，且透光部在基板上的投影的尺寸略大于或等于对位标识在基板上的投影的尺寸。

S103.在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层，透光部使对位标识可识别。

在本实施例中，在形成透光部之后，曝光机采用旋涂的方式，在像素限定层上整面涂覆黑色材料层。本发明对黑色材料不做具体的限定，本实施例以黑色材料为黑色有机胶为例进行说明。透光部上没有黑色有机胶或仅有一层薄薄的黑色有机胶，使得曝光机可识别对位标识。

S104.通过对位标识进行对位，图形化黑色材料层，形成黑色遮光层。

在本实施例中，曝光机透过透光部可以准确识别对位标识，然后对黑色材料层曝光、显影、固化后形成黑色遮光层，该遮光层还可以作为封装层的支撑柱。

本实施例提供了一种显示面板的制作方法，在黑色遮光层形成之前，通过制作对位标识的透光部，实现对位标识区域的可识别，从而使黑色材料层在图形化过程中可以精确对位，从而形成位置精确的黑色遮光层，简单实用。

在可选的实施例中，在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部包括：在显示结构层上远离基板的一侧涂覆透明材料层；利用对位标识对透明材料层图形化，形成透光部。本发明对透明材料不做具体的限定，本实施例以透明材料为透明光学胶为例进行说明，曝光机采用旋涂的方式在像素限定层2上涂覆整面的透明光学胶，然后利用对位标识对透明材料层曝光、显影、固化后，形成透光部3，透光部3为柱状，也可为其他形状，对此不做限定，如图2所示，透光部3在基板上的投影覆盖对位标识1在基板上的投影，且透光部3在基板上的投影的尺寸略大于或等于对位标识1在基板上的投影的尺寸。采用这种方法形成透光部，可以利用现有设备对透明材料层图形化，形成透光部暴露对位标识区域，便于异物管控，且透光部不会对其他膜层造成损伤，又能使透光部暴露对位标识实现黑色材料层图形化过程中的精确对位。

在可选的实施例中，在显示结构层上远离基板的一侧形成透光部包括：在显示结构层上远离基板的一侧，设置透明微型真空吸盘，透明微型真空吸盘一一对应的覆盖对位标识，形成透光部。如图3所示，在像素限定层2上设置与对位标识1一一对应的透明微型真空吸盘4，透明微型真空吸盘4在基板上的投影覆盖对位标识1在基板上的投影，且透明微型真空吸盘4在基板上的投影的尺寸略大于或等于对位标识在基板上的投影的尺寸。将对位标识的透光部设置成透明微型真空吸盘，通过将透明微型真空吸盘覆盖对位标识，使透明微型真空吸盘暴露对位标识实现黑色材料层图形化过程中的精确对位，操作简单、灵活，成本低。

在可选的实施例中，在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层包括：在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层5，并暴露透光部3，透光部3的厚度大于黑色材料层的厚度。也即透光部3的高度大于黑色材料层5的高度，透光部3上方没有黑色材料层5，如图4所示。在一可选的实施例中，透光部的厚度是黑色材料层的厚度的1－2倍。通过这样设置，使黑色材料层不覆盖透光部，曝光机可以透过透光部准确识别对位标识，从而使黑色材料层在图形化的过程中实现精确对位。

在可选的实施例中，在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层包括：在显示结构层上远离基板的一侧整面涂覆黑色材料层5，并覆盖透光部3，透光部3远离基板的一端至黑色材料层5远离基板的一侧的距离小于黑色材料层5厚度的一半。也即透光部3的高度小于黑色材料层5的高度但大于黑色材料层5的高度的一半，透光部3的高度小于黑色材料层5的高度时，透光部3上方有一层薄薄的黑色材料层5，如图5所示。通过这样设置，使黑色材料层仅为薄薄的一层，曝光机仍然可以透过这层薄薄的黑色材料层和透光部准确识别对位标识，从而使黑色材料层在图形化的过程中实现精确对位。

在可选的实施例中，通过对位标识进行对位，图形化黑色材料层，形成黑色遮光层之后包括：剥离透光部。在本实施例中，设置透光部是为了暴露对位标识，使黑色材料层在图形化的过程中实现精确对位，所以在对黑色材料层图形化之后，透光部就可以剥离，透光部剥离可以采用激光剥离。

在可选的实施例中，设置透光部是为了暴露对位标识，使黑色材料层在图形化的过程中实现精确对位，而由于透光部为透明材料，在对黑色材料层图形化之后，透光部可以保留，不进行剥离，例如，可以在透光部的厚度小于黑色材料层的厚度时，不剥离透光部，因为透光部的厚度小于黑色材料层的厚度，所以在黑色材料层形成遮光层后，透光部低于遮光层，在遮光层上直接进行其他膜层的制备，透光部也不会对其他膜层造成影响，可以简化工艺过程。

本发明实施例还提供了一种显示面板，显示面板采用如上述任意实施例的显示面板制作方法制成。具体的实施方式详见上述实施例显示面板的制作方法的描述，在此不再赘述。

虽然结合附图描述了本发明的实施例，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，在所述基板上依次形成显示结构层，所述显示结构层设置有至少一个对位标识；

在所述显示结构层上远离所述基板的一侧形成透光部，所述透光部一一对应的覆盖所述对位标识；

在所述显示结构层上远离所述基板的一侧整面涂覆黑色材料层，所述透光部使所述对位标识可识别；

通过所述对位标识进行对位，图形化所述黑色材料层，形成黑色遮光层。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述显示结构层上远离所述基板的一侧形成透光部，包括：

在所述显示结构层上远离所述基板的一侧涂覆透明材料层；

利用所述对位标识对所述透明材料层图形化，形成所述透光部。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述显示结构层上远离所述基板的一侧形成透光部，包括：

在所述显示结构层上远离所述基板的一侧设置透明微型真空吸盘，所述透明微型真空吸盘一一对应的覆盖所述对位标识，形成所述透光部；

在形成黑色遮光层之后，剥离所述透光部。

4.根据权利要求1或2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述显示结构层上远离所述基板的一侧整面涂覆黑色材料层，包括：

在所述显示结构层上远离所述基板的一侧整面涂覆所述黑色材料层，并暴露所述透光部，所述透光部的厚度大于所述黑色材料层的厚度。

5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述透光部的厚度是所述黑色材料层的厚度的1－2倍。

6.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述通过所述对位标识进行对位，图形化所述黑色材料层，形成黑色遮光层之后，包括：

剥离所述透光部。

7.根据权利要求1或2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述显示结构层上远离所述基板的一侧整面涂覆黑色材料层，包括：

在所述显示结构层上远离所述基板的一侧整面涂覆所述黑色材料层，并覆盖所述透光部，所述透光部的厚度小于所述黑色材料层的厚度。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述透光部远离所述基板的一端至所述黑色材料层远离所述基板的一侧的距离小于所述黑色材料层厚度的一半。

9.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上依次形成显示结构层，包括：

在所述基板上制备像素电路层，所述像素电路层包括有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层以及源漏层；

在所述像素电路层上依次制备平坦化层、第一电极、对位标识以及像素限定层。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板采用如权利要求1－9任意一项所述的显示面板制作方法制成。

Images