CN110709979A - 用于清洗阵列板上的样品的方法、设备和装置 - Google Patents
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Abstract
一种用于清洗颗粒物的方法,包括:获取具有由一个或多个疏水区域环绕的亲水区域阵列的阵列板,其中,含有样品的相应溶液位于所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域;所述相应亲水区域包括自所述一个或多个疏水区域的一个相应环绕疏水区域形成的一个或多个缺口;所述相应亲水区域包括偏离所述相应环绕疏水区域界定的参考面的第一缺口面。所述方法还包括:将吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距预定距离;以及当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距预定距离的位置时,通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液。
Description
技术领域
本公开的实施例通常涉及用于清洗样品(如细胞、颗粒物等)的方法、设备和装置。特别地,本公开的实施例涉及用于清洗阵列板和载玻片上的样品的方法、设备和装置。
背景技术
阵列板又称为微量滴定板、微量板或微孔板。阵列板通常用于分别容纳分别与生物和/或化学反应相对应的液滴。例如,孔状阵列板包括多个孔,以便每个液滴或每个样品都可以添加到单个孔中进行进一步的处理。通常,孔的数量选自6、24、96、384、1536、3456和9600。
样品(如细胞)清洗频繁。清洗通常包括向载玻片上含有样品(如细胞)的样品溶液中添加洗涤溶液,以及除去所述洗涤溶液和所述样品溶液的混合物。通过重复对所述样品溶液的稀释和部分去除,降低了样品以外的化学试剂和/或生物试剂的浓度。然而,某些细胞(如悬浮细胞、非粘附细胞和弱粘附细胞)对载玻片的粘附力不强。因此,在去除所述混合物的过程中,细胞可能会随着混合物一起被除去,从而减少了清洗后留在载玻片亲水区域的细胞的数量。由于基于细胞的反应的可靠性通常需要足够数量的细胞,因此清洗过程中的细胞损失会对基于细胞的反应产生负面影响。
此外,样品清洗的差异增加了测量误差,不利于实验准确性。
发明内容
因此,需要在清洗过程中更好地保留细胞的方法、设备和装置。这些方法、设备和装置可以取代传统的用于清洗细胞的方法、设备和装置。这些方法、设备和装置减少或消除了清洗过程中的细胞损失,从而提高了细胞反应的可靠性。类似地,这些方法、设备和装置也可用于清洗其他类型的样品,如与目标分子结合的珠状物或颗粒物。此外,这些方法、设备和装置提高了实验准确性,减少了清洗样品所需的时间。
下面更详细地介绍一些克服了现有方法、设备和装置的局限性和缺点的实施例。这些实施例提供了用于清洗溶液中的样品的方法、设备和装置。
如下详述,根据一些实施例,一种用于清洗阵列板的装置,包括:一个或多个分液器。所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到所述阵列板上。所述相应分液器包括:第一活塞,其配置为至少部分在第一通道内滑动;以及第一阀门,其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一通道分配所述第一通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一通道。
根据一些实施例,一种用于清洗阵列板的装置,包括:一个或多个吸液器。所述一个或多个吸液器中的一个相应吸液器用于吸取阵列板上的液体。所述相应吸液器包括:活塞,其配置为至少部分在通道内滑动;以及阀门,其配置为允许通过所述阀门将所述阵列板上的所述液体吸入所述通道中,以及防止所述通道中的液体通过所述阀门流出所述通道。
根据一些实施例,一种用于清洗阵列板的装置,包括:一个或多个分液器,其中,所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到所述阵列板上;以及与所述一个或多个分液器不同的一个或多个吸液器,其中,所述一个或多个吸液器中的一个相应吸液器包括配置为吸取所述阵列板上的液体的容积泵。
根据一些实施例,一种用于清洗样品的方法,包括:获取具有由一个或多个疏水区域环绕的亲水区域阵列的阵列板。含有样品的相应溶液位于所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域。所述相应亲水区域包括自所述一个或多个疏水区域的一个相应环绕疏水区域形成的一个或多个缺口。所述相应亲水区域包括偏离所述相应环绕疏水区域界定的参考面的第一缺口面。所述方法还包括:将吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少100μm;以及当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距至少100μm的位置时,通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液。
根据一些实施例,一种装置配置用于执行本文所述的任一方法。
根据一些实施例,一种用于清洗样品的设备,包括:板,所述板具有:亲水区域阵列,以及环绕所述亲水区域阵列的一个或多个疏水区域。所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域偏离所述一个或多个疏水区域的环绕疏水区域。所述相应亲水区域包括一个主区域和在所述主区域界定的平面上自所述主区域延伸的两个或多于两个辅区域。
附图说明
为了更好地理解上述实施例以及其他实施例,应参考下面的具体实施方式,并结合以下附图,其中,类似的附图标记在所有图中指代相应的部分。
图1A至图1F示出了使用传统的微量滴定板执行的清洗操作。
图2A至图2E示出了根据一些实施例的使用具有亲水区和疏水区域的阵列板执行的清洗操作。
图3A至图3G示出了根据一些实施例的清洗操作。
图3H示出了根据一些实施例的清洗装置的部件。
图4A至图4C为根据一些实施例的阵列板的立体图。
图4D至图4F为根据一些实施例的示例阵列板的部分平面图。
图4G至图4H示出了根据一些实施例的分液器和吸液器的设置。
图5A至图5I为根据一些实施例的示例阵列板的部分截面图。
图5J至图5K示出了根据一些实施例的示例阵列板。
图5L示出了根据一些实施例的阵列板。
图5M示出了根据一些实施例的阵列板。
图5N示出了根据一些实施例的配置用于与示例阵列板配合使用的格网。
图6A示出了根据一些实施例的使用传统的微量滴定板执行的清洗操作的结果。
图6B示出了使用本文所述的示例方法执行的清洗操作的结果。
图6C示出了根据一些实施例的使用传统方法清洗的淋巴细胞的荧光激活细胞分选结果。
图6D示出了根据一些实施例的使用本文所述的方法清洗的淋巴细胞的荧光激活细胞分选结果。
图7A示出了根据一些实施例的使用无圆角阵列板执行的清洗操作的结果。
图7B示出了根据一些实施例的使用圆角阵列板执行的清洗操作的结果。
图7C示出了根据一些实施例的使用无圆角阵列板执行的清洗操作的结果。
图7D示出了根据一些实施例的使用圆角阵列板执行的清洗操作的结果。
类似的附图标记在所有图中指代相应的部分。
具体实施方式
描述用于清洗样品的方法、设备和装置,将参考到某些实施例,其示例将在附图中进行说明。虽然权利要求将结合实施例进行描述,但应理解,所述权利要求并不限于这些特定的实施例。相反,所述实施例意图包含不脱离所附权利要求的精神和范围的替换、修改和等同物。
此外,以下描述中提供了大量的具体细节,以便透彻理解所述实施例。然而,对于本领域普通技术人员来说,显而易见的是,所述实施例可以在没有这些特定细节的情况下实施。在其他实例中,并未详细描述本领域普通技术人员所熟知的方法、过程、组件和网络,以避开所述实施例中模糊的方面。
还应理解,虽然本文可以使用第一、第二等术语来描述各种要素,但这些要素不应受限于这些术语。这些术语仅用于将一个要素与另一个要素区分开来。例如,在不脱离所述实施例的范围的情况下,第一活塞可以称为第二活塞,第二活塞同样也可以称为第一活塞。所述第一活塞和所述第二活塞都是活塞,但不是同一个活塞。
这里,所述实施例的描述中使用的术语仅用于描述特定的实施例,并非用于限定本发明。还应理解,本文使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何和所有可能组合。可以进一步地理解的是,本文中使用的术语“包括”和/或“组成”指定了陈述的特性、整数、步骤、操作、元素和/或组件的存在,但并不排除一个或多个其他特性、整数、步骤、操作、元素、组件和/或组的存在或增加。
这里所说的“液滴”指“液体”。液滴可以为任何形状。本文的术语“液滴”并非用于描述特定的形状。
图1A-1F示出了使用传统的微量滴定板执行的清洗操作。
图1A示出了微量滴定板102中界定的孔内含有样品114(如细胞、颗粒物等)的溶液104。
图1B示出了含有洗涤液106(如磷酸盐缓冲液、Tris缓冲盐水、硼酸盐缓冲液、TE缓冲液等洗涤缓冲液)的分液器110用于清洗样品114。
例如,如图1C所示,分液器110中的洗涤液106被滴加到溶液104,从而形成溶液104与洗涤液106的混合物108(如液体)。因此,稀释了溶液104中的化学试剂和生物试剂(例如,降低了溶液104中化学试剂和生物试剂的浓度)。图1C还示出受洗涤液106引入溶液104时引起的液体流动的影响,至少一部分样品114升离孔底、悬浮在混合物108中。
图1D示出样品114随时间发生沉降。
图1E示出吸液器120用于吸取(例如,去除)部分混合物108。
图1F示出吸液器120吸取了部分混合物108。所述部分混合物108被吸取之后,所述微量滴定板102中界定的孔内剩余的混合物108的体积至少在一定程度上取决于吸液器120的高度V(例如,吸液器120的吸嘴尖端与所述微量滴定板102中界定的孔的底部之间的距离)。
图1F还示出部分样品114也被吸液器120吸取。微量滴定板102的孔的高宽比(如孔的高度与孔的直径之间的比率)大。因此,一旦样品114被搅动,样品114需要很长时间才能沉降下来。如果要在样品114完全沉降下来之前吸取部分混合物108,则增加样品114的被吸取部分。
此外,图1F还示出当混合物108的体积减小时,样品114向孔的角落方向聚集。此外,混合物108也向孔的角落贴近。这两种方法都会降低清洗效率。
图2A-2E示出了根据一些实施例的使用具有亲水区和疏水区域的阵列板执行的清洗操作。
图2A为阵列板的部分横截面,其中,亲水区204被疏水区域206所环绕。在图2A中,含有样品114的溶液104位于亲水区204之上。由于环绕疏水区域206阻止了溶液104扩散到亲水区204之外,溶液104被保持在亲水区204之上。
图2A还示出了分液器210和吸液器220。分液器210中含有用于清洗溶液104中的样品114的液体106(通过稀释溶液104来清洗)。
图2A所示的阵列板配置为容纳溶液104,和传统的微量滴定板一样,也没有高的侧壁。因此,图2A所示的配置中没有溶液104和样品114聚集的角落。
此外,图2A中的溶液104的宽高比小(如阵列板上的溶液104的高度与溶液104的宽度或直径之间的比率小于传统微量滴定板中的溶液104的高度与溶液104的直径之间的比率,有时因数为2、4、6、8、10或20)。因此,与传统微量滴定板内溶液104中的样品(如图1F所示)相比,当阵列板上溶液104中的样品114被搅动时,样品114能够以更快的速度沉降。
在一些实施例中,配置为与细胞耦合的磁性颗粒物(例如,涂覆有能够与所述细胞可逆或不可逆地结合的材料的颗粒物)包含在溶液104中(例如,通过将磁性颗粒物引入溶液104中)。一旦所述磁性颗粒物与溶液104中的所述细胞相结合,则对溶液104中的磁性颗粒物施加磁场,以加速所述磁性颗粒物(以及相关细胞)的沉降。
本申请的发明人还发现,亲水区204与吸液器220之间的距离(例如,亲水表面204与吸液器220的吸嘴尖端之间的距离)对于提高样品114的保留率至关重要。在一些实施例中,吸液器220需要放置在与亲水区204相距至少100μm的位置。在一些实施例中,吸液器220需要放置在与亲水区204相距至少200μm的位置。在一些实施例中,吸液器220需要放置在与亲水区204相距至少300μm的位置。
图2B示出了改进了体积控制的分液器210和吸液器220。分配量和/或吸取量的变化引发了稀释因子的变化,从而导致实验误差的增加。因此,减少液体的分配量和/或吸取量的变化提高实验准确性(例如,利用清洗操作进行的实验的准确性)。
在图2B中,分液器210包括阀门212(例如,单向阀,又称为止回阀,或瓣阀)以减少液体的分配量的变化;吸液器220包括阀门222(例如,单向阀或止回阀)以减少液体的吸取量的变化。例如,一个相应阀门允许液体沿一个方向流动,但阻止液体沿相反的方向流动(例如,阀门212允许分液器210中的液体通过阀门212流出分液器210,但阻止液体通过阀门212进入分液器210;阀门222允许混合物108通过阀门222进入吸液器220,但阻止吸液器220中的混合物108通过阀门222流出吸液器220)。
图2C与图2B相似,不同之处在于:图2C中用分液器230代替了分液器210,用吸液器240代替了吸液器220。分液器230包括活塞232(如柱塞),其配置为在通道234内滑动,以通过阀门212分配通道234内的洗涤液106。吸液器240包括活塞242(如柱塞),其配置为在通道244内滑动,以通过阀门222将液体(混合物108)吸入通道244中。在一些实施例中,通道234由管235界定。在一些实施例中,通道244由管245界定。
在一些实现方式中,液体的吸取量是通过活塞242的运动来控制的(例如,通道244的直径以及活塞242的运动距离)。在一些实施例中,活塞242的直径小于混合物108的直径,以利于准确控制溶液的吸取量。类似地,液体的吸取量是通过活塞232的运动来准确控制的。在一些实现方式中,液体的吸取量(和/或剩余量)取决于吸液器的高度(例如,吸取位于吸液器240尖端上方的那一部分液体,保留位于吸液器240尖端之下的那一部分液体,如图1F所示)。
图2D与图2C相似,不同之处在于:活塞236界定了活塞236内的通道238,且活塞236与阀门252(如单向阀、止回阀等)相耦合;活塞246界定了活塞246内的通道248,且活塞246与阀门262(如单向阀、止回阀等)相耦合。通道238和阀门252配置为将精确体积的洗涤液106输送至通道234。通道248和阀门262用于去除通道244中的混合物108。下文将结合图3A-3G进一步说明这些部件的操作。
图2E与图2D相似,不同之处在于:过滤器250与吸液器240的尖端相耦合。在一些实现方式中,过滤器250减少或阻止了细胞吸取。在一些实施例中,过滤器250具有多个孔隙。在一些实施例中,所述多个孔隙的孔径介于0.1μm和20μm之间。在一些实施例中,所述多个孔的孔径介于1μm和10μm之间。在一些实施例中,所述多个孔的孔径介于1μm和5μm之间。在一些实施例中,所述多个孔的孔径介于2μm和8μm之间。
图2E还示出吸液器240与振动器254相耦合。图2E中,振动器254与过滤器250相邻。振动器25配置为给过滤器250提供振动,以通过防止细胞在过滤器250上的堆积来减少过滤器250的堵塞。在一些实施例中,振动器254为压电振动器。
图3A示出分液器230包含位于第一位置的活塞236。所述在活塞236内界定的通道含有洗涤液106。
图3B示出活塞236向上移动至第二位置,这使得在活塞236内界定的通道中的液体106流入通道234。在活塞236向上运动的过程中,通道234中存在负压,使得阀门212处于关闭状态。
一旦通道234中加入了预设体积的洗涤液106,活塞236便会向下移动,从而将洗涤液106推出通道234。图3C示出活塞236向下移动,引起阀门252被关闭。通道234内的增压使阀门212被打开,使得通道234内的洗涤液106被分配(如释放)到样品溶液104中,从而形成混合物108。
图3D示出活塞236回到了所述第一位置。图3D中,吸液器240的活塞246位于第三位置。
图3E示出活塞246向上运动至第四位置。通道244内的负压使阀门222被打开,从而允许部分混合物108流入通道244。通道244内的负压使阀门262被关闭,使得混合物108不会流入通道248。
一旦通道244中填入了预设体积的混合物108,活塞246便会向下运动,从而将通道244内的混合物108移动到通道248中。图3F示出活塞246向下运动,引起阀门222被关闭。通道244内的增压使阀门262被打开,使得通道244内的混合物108流入通道248。
图3G示出活塞246回到了所述第三位置。
在一些实施例中,分液器230与洗涤液源头(如含有洗涤液的储液器,可选地,所述容器与配置为提供所述洗涤液的泵相组合)相耦合。例如,洗涤液106由所述洗涤液源头提供给通道238。在一些实施例中,吸液器240与抽吸泵相耦合。例如,通过所述抽吸泵去除通道248中的混合物108。在一些实施例中,吸液器240与储液器相耦合。例如,当活塞246向上运动时,通道248中的混合物108被排至所述储液器。
在一些实施例中,在分配洗涤液106之后、吸取部分混合物108之前,摇动和/或搅动混合物108(例如,通过将混合物108所在的所述阵列板放在振动器上并启动所述振动器,以摇动和/或搅动所述阵列板)。
在一些实施例中,图3A-3G中示出的一个或多个阀门(如阀门212、222、252和262)上装有弹簧。弹簧阀配置为当施加在阀门上的压差小于预先设定的阀值时自动关闭和/或保持关闭状态。
虽然图3A-3G示出单个分液器和单个吸液器用于单个样品点,但是在一些实施例中,针对单个样品点使用了多个分液器和/或多个吸液器(例如,针对特定的样品点使用多个分液器和多个吸液器可以减少清洗时间,特别是对于较大的样品点)。在一些实施例中,多个分液器配置用于并发的操作;并且/或者多个吸液器配置用于并发的操作。例如,多个分液器置于单个块中,多个吸液器置于单个块中,如图3H所示。
在一些实施例中,单个分液器被用来将洗涤液滴加到多个点上。例如,单个分液器与一个分开的通道相耦合(如2通道、4通道、8通道、12通道、16通道、32通道、64通道、128通道或256通道分离器)。在一些实施例中,单独的吸液器被用来从多个点吸取液体(如混合物)。例如,单个吸液器与一个分开的通道相耦合(如2通道、4通道、8通道、16通道、32通道、64通道、128通道或256通道分离器)。
在一些实施例中,分液器和吸液器中的一个或多个与容积泵(如微型电磁泵等隔膜泵)相耦合。所述容积泵减少了液体的分配量或吸取量的变化。在一些实施例中,分液器与容积泵之间无阀耦合。在一些实施例中,吸液器与容积泵之间无阀耦合。
虽然图2A-2E和图3A-3G示出的配置中分液器和吸液器同时接触液体(如溶液104或混合物108),本领域普通技术人员可以理解,分液器和吸液器可只有一者与所述液体相接触(例如,分液器首先接触溶液104以分配洗涤液,而吸液器与溶液104保持分离;然后,将从溶液104和洗涤液的混合物108中取出分液器,吸液器与混合物108接触以吸取部分混合物108,而分液器与混合物108保持分离)。在一些实施例中,在第一时间,分液器脱离吸液器单独使用;在与所述第一时间不同的第二时间(如所述第二时间在所述第一时间之后),吸液器脱离分液器单独使用。为了简洁,省略了此类细节。
在图1A-1F、图2A-2E和图3A-3G中,为简化绘图,截去了分液器和吸液器的顶部部分。
虽然图2A-2E和图3A-3G示出了清洗操作,但是也可以通过类似的操作来将试剂引入所述阵列板(或所述阵列板上的所述细胞)。例如,在一些实现方式中,使用的不是洗涤液,而是试剂液(如,含有用于细胞反应的试剂的液体)。此类操作可以在不搅动所述阵列板上的所述细胞的情况下引入试剂,从而提高所述试剂与所述细胞之间的反应的准确性和可靠性。此外,细胞损失通过这种操作得到了改善。
虽然图2A-2E和图3A-3G示出吸液器远离分液器设置(例如,所述吸液器和所述分液器朝向溶液104的两个相对端设置),但是在一些实现方式中,所述吸液器和所述分液器彼此相邻设置(例如,所述吸液器和所述分液器朝向溶液104的同一端或溶液104的中心设置)。
图4A-4C为根据一些实施例的阵列板的立体图。
图4A示出了具有基座420的阵列板400。在基座420的顶部,亲水区412(如412-1、412-2、412-3、412-4、412-5、412-6、412-7和412-8)被疏水区域410所环绕。
图4B示出了阵列板402,其与阵列板400相似,不同之处在于:亲水区412偏离环绕疏水区域410。
在一些实施例中,相应亲水区412(如图4A或图4B中的亲水区412)的形状为圆形或椭圆形。
图4C示出了阵列板404,其与阵列板400相似,不同之处在于:亲水区412(本文称为“主区域”)与辅区域414(如414-1)和416(如416-1)等一个或多个辅区域相耦合。虽然图4C中的每个亲水区412都与两个辅区域相耦合,但一个相应亲水区可只有一个辅区域,也可有多于两个的辅区域(如三个或四个辅区域)。辅区域是配置用于放置分液器和/或吸液器的亲水区。然而,在一些实施例中,使用了没有任何辅区域的亲水区(如图4A和图4B中所示的阵列板400和阵列板402),并且分液器和吸液器放在了亲水区(如主区域)。
图4D-4F为根据一些实施例的示例阵列板的部分平面图。在图4D-4F中,一个相应亲水区(或主区域)为圆形,一个相应辅区域为圆形的一部分(如月牙形)。
图4D示出亲水区(本文也称为主区域)和辅区域位于同一平面上。
图4E示出亲水区(或主区域)位于与辅区域所在平面不同的平面上。对应于图4E的不同实施例的部分截面如图5A-5D所示。
图4F示出根据一些实施例的含有四个相邻的辅区域的亲水区(或主区域)。
图4G-4H示出了根据一些实施例的分液器和吸液器的设置。
图4G示出使用了一排分液器210和一排吸液器220。如图4G所示,一排分液器210用于将洗涤液分配到一排斑点(或相关的亲水辅区域),一排吸液器220用于从同一排斑点(或相关的亲水辅区域)吸取混合物。在某些情况下,在清洗了一排斑点之后,移动所述阵列板和/或所述分液器和吸液器就可以清洗下一排斑点。
图4H示出使用了分液器210二维阵列和吸液器220二维阵列。
图5A示出了阵列板520的部分截面。阵列板520包括具有辅区域514和516的基座502,其中,辅区域514和516与环绕疏水区域506位于同一平面。主区域512偏离辅区域514和516所在的平面(例如,主区域512为缺口型,使得主区域512位于比辅区域514和516更深的位置)。
在一些实施例中,所述亲水区域(如所述主区域和/或所述辅区域)含有聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮等亲水材料,或由所述材料制成。在一些实施例中,所述疏水区域含有聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene,PTFE)基质、聚甲基丙烯酸甲酯等疏水材料,或由所述材料制成。
在一些实施例中,所述亲水区域(如所述主区域和/或所述辅区域)含有玻璃或由玻璃制成(如所述主区域和/或所述辅区域蚀刻在玻璃上)。在一些实施例中,所述疏水区域含有一层疏水材料(如疏水涂层),例如,聚四氟乙烯层(如PTFE带)。例如,所述聚四氟乙烯基质在载玻片(如显微镜载玻片)上成型,使得所述PTFE基质覆盖所述显微镜载玻片的一部分并且所述显微镜载玻片的其余部分未被所述PTFE基质覆盖。所述PTFE基质具有疏水性,而所述显微镜载玻片的未被所述PTFE基质覆盖的部分具有亲水性。含有样品(如细胞)的水溶液通常置于所述载玻片的亲水区域。
图5B示出了阵列板522的部分截面。在阵列板522中,辅区域514和516偏离环绕疏水区域506所在的平面,主区域512偏离辅区域514和516所在的平面(例如,主区域512位于与环绕疏水区域506相距主区域深度的位置,辅区域514和516位于与环绕疏水区域506相距辅区域深度的位置,其中,所述主区域深度大于所述辅区域深度)。
图5C示出了阵列板524的部分截面。在阵列板524中,辅区域514和516与环绕疏水区域506位于同一平面。主区域512偏离辅区域514和516所在的平面(例如,主区域512突出于辅区域514和516)。
图5D示出了阵列板526的部分截面。在阵列板526中,辅区域514和516偏离环绕疏水区域506所在的平面。主区域512偏离辅区域514和516所在的平面(例如,主区域512位于与环绕疏水区域506相距主区域深度的位置,辅区域514和516位于与环绕疏水区域506相距辅区域深度的位置,所述主区域深度小于所述辅区域深度)。在一些实施例中,主区域512位于环绕疏水区域506所在的平面(例如,所述主区域深度为零)。
尽管图5A-5D示出了分液器210和吸液器220,以说明分液器210置于辅区域514上方,吸液器220置于辅区域516上方,但分液器210和吸液器220并非所述阵列板的一部分。
图5E示出了阵列板528的部分截面。阵列板528与图5D所示的阵列板526相似,不同之处在于:阵列板528包括壁518。
在一些实施例中,如图5D所示,壁518通过疏水区506与亲水区(如主区域512和辅区域514和516)分离。在一些实施例中,壁518自亲水区直接延伸而成。
在一些实施方式中,壁518界定了孔,因此与主区域和辅区域能够容纳的液体相比,孔可以容纳的液体体积更大。这使得清洗采用了更大体积的洗涤液,从而增强了清洗效率。
在一些实施例中,壁518由疏水材料(如聚四氟乙烯)制成。在一些实施例中,壁518由亲水材料制成。
在一些实施例中,壁518放置在与所述主区域512相距预定距离(例如,至少1mm、至少2mm、至少3mm、至少4mm、至少5mm、至少6mm、至少7mm、至少8mm、至少9mm、至少10mm等)的位置。这减少了细胞进入壁518周围的角落的可能性。
在一些实施例中,壁518配置为与盖530可拆卸耦合(如紧密配合),如图5E所示。盖530放置在壁518之上,以防止阵列板528上的液体(如样品溶液或混合物508)向外溢出。例如,盖530放置在壁518之上,便于阵列板528的运输和/或阵列板528的摇动或搅动。在一些实施例中,壁518和/或盖530具有将盖530保持在适当位置的机械特性(例如,壁518和盖530具有配套的螺纹,或盖530具有闩锁而盖518具有相应的用于防止闩锁滑动的缺口)。
虽然图5E所示的阵列板528是以阵列板526为基础进行描述的,但其他任何阵列板(包括本文所示的阵列板,如阵列板520、522、524和526)都可以经过修改具有壁518。在一些实施例中,壁518与基座502集成在一起。在一些实施例中,壁518与基座502独立地成形,后来才与基座502(如图5N所示的可拆除格网552)相连。
图5F示出了阵列板532的部分截面。阵列板532与图5B所示的阵列板522相似,不同之处在于:切圆了主区域512周围的区542(如主区域512四周的边为圆角)。在一些实施例中,主区域512周围的所述区(如区542)被倒角(例如,主区域512周围的边具有斜角)。在一些实施例中,通过从阵列板532中去除材料形成所述被倒角的区。在一些实施例中,通过塑造(如注塑成型)形成所述被倒角的区。
使用带有圆角或倒角的阵列板532可减少细胞在角落邻近处的残留(清洗后),从而减少位于角落邻近处的细胞(例如,细胞与角落周围的板面之间的毛细力)对一个或多个液滴的捕获。因此,阵列板532提高了清洗效率。在一些实施例中,(圆角的)曲率半径不小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm或1mm。例如,所述曲率半径为0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm或0.9mm。在一些实施例中,倒角宽度不小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm或1mm。例如,所述倒角宽度为0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm或0.9mm。在一些实施例中,倒角深度不小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm或1mm。例如,所述倒角深度为0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm或0.9mm。在一些实施例中,倒角长度不小于0.14mm、0.28mm、0.42mm、0.56mm、0.7mm或1.4mm。例如,所述倒角长度为0.7mm、0.84mm、0.98mm、1.12mm或1.26mm。
图5G示出了阵列板534的部分截面。阵列板534与图5F所示的阵列板532相似,不同之处在于:切圆了辅区域514和516周围的区544(如辅区域514和516周围的边为圆角)。在一些实施例中,辅区域514和516周围的所述区(如区544)被倒角(例如,辅区域514和516周围的边具有斜角)。在一些实施例中,通过从阵列板534中去除材料形成所述被倒角的区。在一些实施例中,通过塑造(如注塑成型)形成所述被倒角的区。
图5H示出了阵列板536的部分截面。阵列板536与如图5G所示的阵列板534相似,不同之处在于:主区域512中界定有多个结构,所述多个结构配置为:在从分液器210分配液体和/或通过吸液器220吸取所述样品溶液或混合物时,保留样品溶液或混合物508中的细胞。在一些实施例中,所述多个结构包括涟漪型阵列。在一些实施例中,一个相应涟漪的特征尺寸(如直径、宽度、深度等)为1μm至100μm(例如,半球面涟漪的直径为20μm)。在一些实施例中,一个相应涟漪的特征尺寸为10μm至50μm。在一些实施例中,所述涟漪具有不对称的形状(如,图5H所示的正三角形截面),使得当液体从分液器210流向吸液器220时,涟漪能够更好地保留细胞。
图5I示出了阵列板538的部分截面。阵列板538与图5G中示出的阵列板534相似,不同之处在于:多个结构568至少位于主区域512之上。在一些实施例中,所述多个结构568为柱形。在一些实施例中,多个结构568为图5I所示的爪形。在一些实施例中,所述多个结构568含有磁性材料(如铁磁材料),且所述多个结构568由磁力(如阵列板538下方的磁铁572的磁场所产生的磁力)保持。在一些实施例中,阵列板538包括磁铁572。在一些实施例中,磁铁572与阵列板538可拆卸耦合。
图5J-5K示出了根据一些实施例的示例阵列板。
图5J为根据一些实施例的阵列板的部分立体图。图5G所示的阵列板部分包括被区542环绕的主区域512。如上所述,对于图5F,区542被切圆或倒角。在一些实施例中,区542被切圆,相应的曲率半径(R1)不小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.6mm、1.8mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。在一些实施例中,区542的曲率半径(R1)小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.6mm、1.8mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。在一些实施例中,区542的曲率半径为0.1mm至1mm。在一些实施例中,区542的曲率半径为0.2mm至0.8mm。
图5J所示的阵列板部分还包括辅区域514和516。图5J中,一个相应辅区域(如辅区域514或辅区域516)被区544所环绕。在一些实施例中,区544被切圆或倒角。在一些实施例中,区544被切圆,相应的曲率半径(R3)不小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.6mm、1.8mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。在一些实施例中,区544的曲率半径(R3)小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.6mm、1.8mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。在一些实施例中,区544的曲率半径为0.1mm至1mm。在一些实施例中,区544的曲率半径为0.2mm至0.8mm。在一些实施例中,区544的曲率半径(R3)小于区542的曲率半径(R1)。
图5J还示出朝向主区域512的辅区域514的边在一些实施例中具有曲率半径(R2)。在一些实施例中,所述曲率半径(R2)不小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.6mm、1.8mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。在一些实施例中,所述曲率半径(R2)小于0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、1.2mm、1.4mm、1.6mm、1.8mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm。在一些实施例中,所述曲率半径(R2)为0.1mm至1mm。在一些实施例中,所述曲率半径(R2)为0.2mm至0.8mm。在一些实施例中,所述曲率半径(R2)与区域512的曲率半径(R1)相同。在一些实施例中,所述曲率半径(R2)与区544的曲率半径(R3)相同。
图5K为图5J所示的阵列板的部分截面图。
图5J-5K所示的阵列板的主区域和辅区域均为圆角,从而进一步提高了清洗操作的效率。
图5L示出了根据一些实施例的阵列板。
图5L所示的阵列板与图5K所示的阵列板相似,不同之处在于:图5L所示的阵列板界定了两个或多个通道562和564。在一些实施例中,通道562配置为将液体(如洗涤液、试剂液等)引入所述阵列板或提供给所述阵列板。在一些实施例中,通道562配置为与分液器耦合(例如,通过配置为与分液器的喷嘴可拆卸耦合的耦合器,如夹子等)。在一些实施例中,通道564配置为去除阵列板上的液体(如样品溶液或样品溶液与其他液体的混合物)。在一些实施例中,通道564配置为与吸液器耦合(例如,通过配置为与吸液器的吸嘴可拆卸耦合的耦合器,如夹子等)。在一些实施例中,辅区域514和辅区域516相互偏离。例如,辅区域514位于第一平面,而辅区域516位于远离第一平面的第二平面(例如,第二平面位于第一平面的下方)。
图5M示出了根据一些实施例的阵列板。
图5M所示的阵列板与图5L所示的阵列板相似,不同之处在于:图5M所示的阵列板仅界定了一个通道564。
在一些实施例中,通道564配置为去除阵列板上的液体(如样品溶液或所述样品溶液与其他液体的混合物)。在一些实施例中,类似于图5M所示的阵列板,通道564配置为与吸液器耦合(例如,通过配置为与吸液器的吸嘴可拆卸耦合的耦合器,如夹子等)。在此类实施例中,液体(如洗涤液或试剂溶液)是通过位于阵列板上方的分液器210引入的。在一些实施例中,辅区域516位于第一平面,而主区域512位于远离第一平面的第二平面(例如,第二平面位于第一平面的下方)。在一些实施例中,第一平面与第二平面相距预定距离(例如,为提高细胞保留率和清洗效率而选择的孔高)。
在一些实施例中,通道564用于将液体(如洗涤液、试剂液等)引入所述阵列板或提供给所述阵列板。在一些实施例中,通道564用于与分液器耦合(例如,通过配置为与分液器的喷嘴可拆卸耦合的耦合器,如夹子等)。在此类实施例中,液体(如样品溶液或所述样品溶液与其他液体的混合物)是通过位于阵列板上方的吸液器去除的。
图5N示出了根据一些实施例的用于与示例阵列板配合使用的格网552。在一些实施例中,格网552含有聚四氟乙烯(PTFE)。在一些实施例中,格网552由聚四氟乙烯(PTFE)制成。格网552界定了一个或多个壁。格网552配置用于放置在所述阵列板上,以界定一个或多个孔(例如,针对每个亲水区,都有一个对应孔)。格网552增加了每个亲水区域上或周围可放置的液体的体积。在一些实施例中,弹性体层554位于格网552与所述阵列板之间。在某些情况下,这种设置减少了液体通过毛细作用进入格网552与所述阵列板之间的空隙。在一些实施例中,所述阵列板的所述疏水区域涂覆有不相溶的疏水液体,因此减少或防止了亲水液体(如水)的毛细渗透现象。
图6A示出了根据一些实施例的使用传统的微量滴定板执行的清洗操作的结果。在每个步骤中,通过保留25μL混合物和添加75μL新鲜洗涤缓冲液,每个样品都经过了稀释倍数为四的清洗。
前三排微量滴定板显示珠状物保留测试的结果。含有微珠的溶液被清洗了六次。如图所示,微量滴定板中的珠状物倾向于沿孔壁聚集,降低了实验效果。
接下来的三排(如第四、第五和第六排)微量滴定板显示清洗效率测试的结果。含有预定浓度油墨的溶液被清洗多次。第三列表示第一次清洗后的溶液,第四列表示第二次清洗后的溶液,第五列表示第三次清洗后的溶液,第六列表示第四次清洗后的溶液,第七列表示第五次清洗后的溶液,第八列表示第六次清洗后的溶液。若使用传统的微量滴定板,即使清洗了六次,油墨的颜色仍然清晰可见。这可能是由于残留的混合物通过毛细力附着在其边上。此外,颜色的变化也反映了各个孔之间清洗效率的变化。这种颜色的变化会导致实验结果的变化和误差。
图6B示出了根据本文所述方法的执行的清洗操作的结果。在每个步骤中,通过保留25μL混合物和添加75μL新鲜洗涤缓冲液,每个样品都再次经过了稀释倍数为四的清洗。
每一行都表示在不同喷嘴深度下进行的样品清洗。第一列表示第一次清洗后的溶液,第二列表示第二次清洗后的溶液,第三列表示第三次清洗后的溶液,第四列表示第四次清洗后的溶液,第五列表示第五次清洗后的溶液,第六列表示第六次清洗后的溶液。如
图6B所示,在第六次清洗后,每个溶液都变得清澈了。图6B示出本文所述清洗方法的清洗效率与图6A所示的清洗结果相比,要高出很多。此外,与图6A中观察到的变化相比,减少了样品之间的变化。
此外,从图6C和图6D中可以看出,本文所述的方法有利于细胞分选。图6C示出了使用传统方法清洗的淋巴细胞的荧光激活细胞分选结果。图6D示出了使用本文所述的方法清洗的淋巴细胞的荧光激活细胞分选结果。如图6C和6D所示,本文所述的清洗方法提高了荧光激活细胞分选的分辨率和数据质量。此外,与使用传统方法相比,制备流式细胞术分析用样品时,使用本文所述的阵列板需要较少的时间。
图7A和7B为根据一些实施例的阵列板上的柱状物的显微镜图像。图7A为根据一些实施例的使用无圆角阵列板(如尖角阵列板)执行的清洗操作的结果,图7B为根据一些实施例的使用圆角阵列板(如图5F-5K)执行的清洗操作的结果。对于每个阵列板,在其辅区域上分配含有直径为7μm的聚苯乙烯珠的溶液(以模拟细胞保留),使用振动器摇动含有所述溶液的所述阵列板,然后静置所述阵列板以允许所述聚苯乙烯珠状物沉降。随后,缓慢吸取所述溶液,以便在保留所述阵列板上的大部分聚苯乙烯珠的同时去除所述溶液。之后,通过加入流式细胞仪(FACS)缓冲液清洗所述阵列板,摇动阵列板,并吸取所述流式细胞仪缓冲液。重复这些清洗步骤(例如,重复一次、两次、三次等)。最后,滴加磷酸盐缓冲液(PBS)溶液,摇动所述阵列板,通过显微镜观察所述阵列板(如主区域周围)。
如图7A所示,使用无圆角阵列板进行清洗操作会在角落附近留下大量的珠状物(如主区域的外围)。如图7B所示,使用圆角阵列板进行清洗操作减少了角落附近遗留的珠状物数量,从而提高了清洗效率。此外,与无圆角阵列板相比,使用圆角阵列板时所需的清洗步骤更少。
同样,从图7C和图7D中可以看出,使用无圆角阵列板(如尖角阵列板)执行的清洗操作会在角落附近留下大量的细胞,如图7C所示;使用圆角阵列板执行的清洗操作减少了角落附近遗留的细胞数,如图7D所示。
接下来将根据这些原则,描述具体的实施例。
根据一些实施例,一种用于清洗阵列板的装置,包括:一个或多个分液器(如图3A中的分液器230)。所述一个或多个分液器中的一个相应分液器用于将第一液体分配到所述阵列板上(例如,分液器230配置为将洗涤液106分配到所述阵列板上)。所述相应分液器包括:第一活塞,其配置为至少部分在第一通道内滑动(例如,活塞236配置为在通道234内滑动);以及第一阀门(如阀门212),其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一通道分配所述第一通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一通道。
在一些实施例中,所述相应分液器包括界定所述第一通道的配置用于盛装所述第一液体的第一管(如界定通道234的管235)。所述第一活塞以可滑动的方式与所述第一管耦合(例如,活塞236配置为在与管235保持接触的同时在管235内滑动)。所述第一阀门与所述第一管相耦合,配置为允许通过所述第一阀门从所述第一管分配所述第一管中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一管。
在一些实施例中,所述第一活塞界定了与所述第一通道不同的第二通道(如通道238)。所述相应分液器还包括与所述第一阀门不同的第二阀门(如阀门252)。所述第二阀门配置为允许通过所述第二阀门从所述第二通道分配所述第二通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第二阀门进入所述第二通道。
在一些实施例中,所述第一活塞包括界定所述第二通道的第二管(如活塞236的外壳)。在一些实施例中,所述第二管与所述第一管不同。所述第二管配置用于盛装所述第一液体。所述第二阀门与所述第二管相耦合,配置为允许通过所述第二阀门从所述第二管分配所述第二管中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第二阀门进入所述第二管。
在一些实施例中,所述装置还包括一个或多个吸液器(如吸液器240)。所述一个或多个吸液器中的一个相应吸液器用于吸取所述阵列板上的液体。所述相应吸液器包括:第二活塞(如活塞246),配置为至少部分在第三通道(如通道244)内滑动;以及第三阀门(如阀门222),配置为允许通过所述第三阀门将所述阵列板上的所述液体吸入所述第三通道,以及防止所述第三通道中的液体通过所述第三阀门流出所述第三通道。
在一些实施例中,所述相应吸液器包括界定所述第三通道的第三管(如管245)。所述第三管与所述第一管不同。所述第二活塞以可滑动的方式与所述第三管耦合。(例如,活塞246配置为在通道244中滑动)。所述第三阀门与所述第三管相耦合,用于允许通过所述第三阀门将所述阵列板上的所述液体吸入所述第三通道,以及防止液体通过所述第三阀门流入所述第三管。
在一些实施例中,所述第二活塞界定了与所述第三通道不同的第四通道(如通道248)。所述相应吸液器还包括与所述第三阀门不同的第四阀门(如阀门262)。所述第四阀门配置为允许所述第三通道内的所述液体进入所述第四通道,以及防止所述第四通道内的液体通过所述第四阀门流出所述第四通道。
在一些实施例中,所述第二活塞包括界定所述第四通道的第四管(如活塞246的外壳)。在一些实施例中,所述第四管与所述第三管不同。所述第四阀门与所述第四管相耦合,配置为允许所述第三管中的所述液体通过所述第四阀门进入所述第四管,以及防止所述第四管中的液体通过所述第四阀门流出所述第四管。
在一些实施例中,所述一个或多个分液器包括设置在第一阵列中的多个分液器(如图4F中的分液器210)。在一些实施例中,所述一个或多个吸液器包括设置在第二阵列中的多个吸液器(如图4F中的吸液器220)。
在一些实施例中,所述多个分液器设置在具有多行和多列分液器的二维阵列中,如图4G所示。在一些实施例中,所述多个吸液器设置在具有多行和多列吸液器的二维阵列中,如图4G所示。
在一些实施例中,所述多个分液器的两个或多于两个第一通道界定在第一块中(如图3H中的圆柱块)。
在一些实施例中,所述多个分液器的两个或多于两个第二通道界定在第二块中(如图3H中的分液器活塞块)。在一些实施例中,所述第一活塞与所述第二块集成在一起。在一些实施例中,所述第二块与所述第一块不同。
在一些实施例中,所述多个吸液器的两个或多于两个第三通道界定在第一块中(如图3H中的圆柱块)。
在一些实施例中,所述多个吸液器的两个或多于两个第四通道界定在第三块中(如图3H中的吸液器活塞块)。在一些实施例中,所述第二活塞与所述第三块集成在一起。在一些实施例中,所述第三块与所述第一块不同。在一些实施例中,所述第三块与所述第二块不同。
根据一些实施例,一些用于清洗阵列板的装置包括:一个或多个分液器,其中,所述一个或多个分液器中的相应分液器配置为将第一液体分配到所述阵列板上;以及与所述一个或多个分液器不同的一个或多个吸液器。所述一个或多个吸液器中的相应吸液器包括配置为吸取所述阵列板上的液体的容积泵。在一些实施例中,所述容积泵配置为吸取预设或预定体积的所述阵列板上的液体。
根据一些实施例,装置配置用于清洗具有一个主区域和至少两个辅区域的阵列板。所述装置包括:第一组一个或多个吸液管,其配置为在第一时间将第一液体分配到所述阵列板的第一辅区域;以及与所述第一组一个或多个吸液管不同(且互斥)的第二组一个或多个吸液管,其中,所述第二组一个或多个吸液管配置为在所述第一时间或者与所述第一时间不同的第二时间(例如,所述第二时间在所述第一时间之后)从所述阵列板的第二辅区域吸取所述阵列板上的液体。所述第一组一个或多个吸液管还配置为在所述第二时间或者与所述第二时间不同的第三时间(例如,所述第三时间在所述第二时间之后)从所述第一辅区域吸取所述阵列板上的所述液体。例如,在某些情况下,使用所述第一组一个或多个吸液管(如一个或多个分液器),在第一时间将所述第一液体分配到与所述阵列板的所述第一辅区域相邻的位置;然后,使用所述第二组一个或多个吸液管(如一个或多个吸液器),从所述阵列板的所述第二辅区域吸取所述阵列板上的液体的第一部分。随后,使用所述第一组一个或多个吸液管,从所述阵列板的所述第一辅区域吸取所述阵列板上的液体的第二部分。在与所述第一辅区域相邻的位置分配所述第一液体使得在分配所述第一液体前位于所述阵列板的所述第一辅区域的所有细胞被推离所述阵列板的所述第一辅区域(例如,推向所述主区域),从而减少了在后续吸取过程中可以被吸离(以至丢失)与所述第一辅区域相邻位置的细胞的数量。这使得更大一部分的所述液体可以在没有细胞损失(或减少细胞损失)的情况下被吸取。
根据一些实施例,一种用于清洗具有一个主区域和至少两个辅区域的阵列板的方法,包括:使用第一组一个或多个吸液管,在第一时间将第一液体分配到所述阵列板的第一辅区域。所述方法还包括:使用与所述第一组一个或多个吸液管不同(且互斥)的第二组一个或多个吸液管,在所述第一时间或者与所述第一时间不同的第二时间(例如,所述第二时间在所述第一时间之后)从所述阵列板的第二辅区域吸取所述阵列板上的液体。所述方法还包括:使用所述第一组一个或多个吸液管(或与所述第一组一个或多个吸液管以及所述第二组一个或多个吸液管不同且互斥的第三组一个或多个吸液管),在所述第二时间或者与所述第二时间不同的第三时间(例如,所述第三时间在所述第二时间之后)从所述第一辅区域吸取所述阵列板上的所述液体。
根据一些实施例,一种用于清洗样品的方法,包括:获取具有由一个或多个疏水区域环绕的亲水区域阵列的阵列板。含有样品的相应溶液位于所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域。所述相应亲水区域包括自所述一个或多个疏水区域的一个相应环绕疏水区域形成的一个或多个缺口。所述相应亲水区域包括偏离所述相应环绕疏水区域界定的参考面的第一缺口面(如辅区域514和/或辅区域516)。所述方法还包括:将吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少100μm;以及当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距至少100μm的位置时,通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液,例如如图2A所示。
在一些实施例中,当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距至少200μm的位置时,通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液。在一些实施例中,当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距至少300μm的位置时,通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液。
在一些实施例中,所述第一缺口面相对所述参考面偏离第一距离;所述相应亲水区域包括相对所述参考面偏离第二距离的第二缺口面。
在一些实施例中,所述第二距离与所述第一距离不同,例如如图5B所示。在一些实施例中,所述第二距离大于所述第一距离。在一些实施例中,所述第一距离大于所述第二距离。
在一些实施例中,所述第二距离等于所述第一距离。
在一些实施例中,所述第二距离小于3000μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于2000μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于1750μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于1500μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于1250μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于1000μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于750μm。在一些实施例中,所述第二距离小于等于500μm。
在一些实施例中,所述第一距离小于等于1000μm。在一些实施例中,所述第一距离小于等于750μm。在一些实施例中,所述第一距离小于等于500μm。在一些实施例中,所述第一距离小于等于250μm。
在一些实施例中,所述方法包括:将所述吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少100μm。在一些实施例中,所述方法包括:将所述吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少200μm。在一些实施例中,所述方法包括:将所述吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少300μm。
在一些实施例中,所述溶液的吸取速率介于1μL/s和50μL/s之间。在一些实施例中,所述溶液的吸取速率介于2μL/s和20μL/s之间。在一些实施例中,所述溶液的吸取速率小于等于20μL/s。在一些实施例中,所述溶液的吸取速率小于等于10μL/s。在一些实施例中,所述溶液的吸取速率小于等于5μL/s。
在一些实施例中,所述方法包括:在通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,摇动所述阵列板。摇动所述阵列板有利于将所述洗涤液和所述样品溶液相混合。在某些情况下,摇动所述阵列板还可以促使化学试剂和/或生物试剂从表面释放出来,从而提高这些化学试剂和/或生物试剂的去除率。
在一些实施例中,所述方法包括:在摇动所述阵列板之后、通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,使所述样品在所述相应溶液中沉降多于10分钟。在一些实施例中,所述方法包括:在摇动所述阵列板之后、通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,使所述样品在所述相应溶液中沉降多于15分钟。
在一些实施例中,所述方法包括:在摇动所述阵列板之后、通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,使所述样品在所述相应溶液中沉降少于90分钟。在一些实施例中,所述方法包括:在摇动所述阵列板之后、通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,使所述样品在所述相应溶液中沉降少于60分钟。
在一些实施例中,所述相应溶液的体积小于200μL。在一些实施例中,所述相应溶液的体积小于70μL。
在一些实施例中,所述方法包括:将液体(如洗涤液、试剂液等)引入所述溶液(例如,将所述液体分配到所述溶液中)。在一些实施例中,所述液体的引入速率介于1μL/s和50μL/s之间。在一些实施例中,所述液体的引入速率介于2μL/s和20μL/s之间。在一些实施例中,所述液体的引入速率小于等于20μL/s。在一些实施例中,所述液体的引入速率小于等于10μL/s。在一些实施例中,所述液体的引入速率小于等于5μL/s。
在一些实施例中,引入所述液体的操作和吸取所述溶液的操作重复至少三次。在一些实施例中,引入所述液体的操作和吸取所述溶液的操作重复不超过九次。
根据一些实施例,一种用于清洗样品的方法,包括:获取具有由一个或多个疏水区域环绕的亲水区域阵列的阵列板。含有样品的相应溶液位于所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域。所述相应亲水区域包括自所述一个或多个疏水区域的一个相应环绕疏水区域形成的一个或多个缺口。所述相应亲水区域包括至少两个偏离所述相应环绕疏水区域界定的参考面的缺口面(如辅区域514和辅区域516)。所述方法还包括:在第一时间将第一液体(如洗液体)分配到所述阵列板的具有第一组一个或多个吸液管的第一缺口面;在与所述第一时间不同的第二时间从所述阵列板的具有与所述第一组一个或多个吸液管不同的第二组一个或多个吸液管的第二缺口面上吸取所述阵列板上的液体。在一些实施例中,所述方法还包括:在所述第二时间从所述阵列板的具有所述第一组一个或多个吸液管的所述第一缺口面吸取所述阵列板上的所述液体。
根据一些实施例,一种装置配置用于执行本文所述的任一方法。
在一些实施例中,所述装置包括:一个或多个分液器,其中,所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到阵列板上。所述相应分液器包括:第一活塞,其配置为至少部分在第一通道内滑动;以及第一阀门,其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一通道分配所述第一通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一通道。
根据一些实施例,一种用于清洗样品的设备,包括:板,具有:亲水区域阵列,以及环绕所述亲水区域阵列的一个或多个疏水区域。所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域偏离所述一个或多个疏水区域的环绕疏水区域。所述相应亲水区域包括一个主区域和在所述主区域界定的平面上自所述主区域延伸的两个或多于两个辅区域。
在一些实施例中,所述环绕疏水区域涂覆有疏水油。
在一些实施例中,所述主区域的形状为圆形,所述两个或多于两个辅区域的每个辅区域的形状为部分圆。
在一些实施例中,所述主区域位于第一平面上,所述两个或多于两个辅区域中的第一辅区域位于偏离所述第一平面的第二平面上,所述两个或多于两个辅区域中的第二辅区域位于偏离所述第一平面的第三平面上。在一些实施例中,所述第二平面与所述第一平面相互重叠。在一些实施例中,所述第二平面偏离所述第三平面。
在一些实施例中,所述设备界定含有通孔的第一通道(如图5L中的通道562),其中,所述通孔自所述两个或多于两个辅区域中的第一辅区域延伸至所述设备的底部,以便液体可以通过所述第一通道在所述设备的底部和所述第一辅区域之间进行传输。
在一些实施例中,所述设备界定与所述第一通道不同的含有通孔的第二通道(如图5L中的通道564),其中,所述通孔自所述两个或多于两个辅区域中的第一辅区域延伸至所述设备的底部,以便液体可以通过所述第一通道在所述设备的底部和所述第二辅区域之间进行传输。在一些实施例中,所述设备在不界定第二通道的情况下界定了第一通道,例如如图5M所示。
在一些实施例中,所述主区域上界定有多个结构,例如如图5H所示。
在一些实施例中,多个结构位于所述主区域上,例如如图5I所示。
在一些实施例中,所述多个结构含有磁性材料,使得所述多个结构可以通过磁力来保持。
采用上文描述的阵列板的方法的各个方面和特点均适用于阵列载玻片(例如,添加一种或多种溶液到所述相应液体的一个或多个液滴中、执行免疫测定、清洗相应液体),反之亦然。这些方面和特点如上文所述。为了简洁,此处不再赘述。
本领域普通技术人员所熟知的是,阵列载玻片和阵列板可用于许多其他生物和化学反应。因此,为了简洁,省略了此类细节和具体例子。
为了便于解释,以上参照具体实施例进行了描述。然而,上述说明性论述并不是详尽无遗的,也不是为了将实施例限制于已描述的明确形式。鉴于上述教义,可以做出许多修改和变化。所述实施例的选择和描述是为了更好地说明本发明的原理及其实际应用,从而使得本领域其他技术人员能够最大化利用本发明和各种实施例进行各种修改,以满足预期的特定用途。
Claims (43)
1.一种用于清洗阵列板的装置,所述装置包括:
一个或多个分液器,所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到所述阵列板上,所述相应分液器包括:
第一活塞,其配置为至少部分在第一通道内滑动;以及
第一阀门,其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一通道分配所述第一通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一通道。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,
所述相应分液器包括界定所述第一通道的配置为盛装所述第一液体的第一管;
所述第一活塞以能滑动的方式与所述第一管耦合;以及
所述第一阀门与所述第一管相耦合,其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一管分配所述第一管中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一管。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其中,
所述第一活塞界定了与所述第一通道不同的第二通道;以及
所述相应分液器还包括与所述第一阀门不同的第二阀门,其中,所述第二阀门配置为允许通过所述第二阀门从所述第二通道分配所述第二通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第二阀门进入所述第二通道。
4.根据权利要求3所述的装置,其中,
所述第一活塞包括界定所述第二通道的第二管;
所述第二管配置为盛装所述第一液体;以及
所述第二阀门与所述第二管相耦合,配置为允许通过所述第二阀门从所述第二管分配所述第二管中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第二阀门进入所述第二管。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的装置,所述装置还包括:
一个或多个吸液器,所述一个或多个吸液器中的一个相应吸液器配置为吸取所述阵列板上的液体,所述相应吸液器包括:
第二活塞,其配置为至少部分在第三通道内滑动;以及
第三阀门,其配置为允许通过所述第三阀门将所述阵列板上的所述液体吸入所述第三通道,以及防止所述第三通道中的液体通过所述第三阀门流出所述第三通道。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,
所述相应吸液器包括界定所述第三通道的第三管;
所述第二活塞以能滑动的方式与所述第三管耦合;以及
所述第三阀门与所述第三管相耦合,配置为允许通过所述第三阀门将所述阵列板上的所述液体吸入所述第三通道,以及防止液体通过所述第三阀门流入所述第三管。
7.根据权利要求5或6所述的装置,其中,
所述第二活塞界定了与所述第三通道不同的第四通道;以及
所述相应吸液器还包括与所述第三阀门不同的第四阀门,其中,所述第四阀门配置为允许所述第三通道中的所述液体进入所述第四通道,以及防止所述第四通道中的液体通过所述第四阀门流出所述第四通道。
8.根据权利要求7所述的装置,其中,
所述第二活塞包括界定所述第四通道的第四管;以及
所述第四阀门与所述第四管相耦合,配置为允许所述第三管中的所述液体通过所述第四阀门进入所述第四管,以及防止所述第四管中的液体通过所述第四阀门流出所述第四管。
9.根据权利要求1至8中任一所述的装置,其中,
所述一个或多个分液器包括设置在第一阵列中的多个分液器;以及/或者所述一个或多个吸液器包括设置在第二阵列中的多个吸液器。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,
所述多个分液器设置在具有多行和多列分液器的二维阵列中。
11.根据权利要求9或10所述的装置,其中,
所述多个吸液器设置在具有多行和多列吸液器的二维阵列中。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的装置,其中,
所述多个分液器的两个或多于两个第一通道界定在第一块中。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的装置,其中,
所述多个分液器的两个或多于两个第二通道界定在第二块中。
14.根据权利要求9至13中任一项所述的装置,其中,
所述多个吸液器的两个或多于两个第三通道界定在第一块中。
15.根据权利要求9至14中任一项所述的装置,其中,
所述多个吸液器的两个或多于两个第四通道界定在第三块中。
16.一种用于清洗阵列板的装置,所述装置包括:
一个或多个分液器,所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到所述阵列板上;以及
与所述一个或多个分液器不同的一个或多个吸液器,所述一个或多个吸液器中的一个相应吸液器与配置为吸取所述阵列板上的液体的泵相耦合。
17.根据权利要求16所述的装置,其中,
所述泵为容积泵。
18.根据权利要求17所述的装置,其中,
所述容积泵配置为吸取预定体积的所述阵列板上的液体。
19.根据权利要求16所述的装置,其中,
所述泵配置为吸取位于所述吸液器的吸嘴下方的大部分液体。
20.根据权利要求16至19中任一项所述的装置,其中,
所述装置包括多个吸液器,所述多个吸液器与同一个泵相耦合。
21.根据权利要求16至20中任一项所述的装置,所述装置还包括:
过滤器,所述过滤器位于所述相应吸液器的尖端,用于防止细胞被吸入。
22.根据权利要求21所述的装置,所述装置还包括:
振动器,所述振动器位于所述过滤器附近,用于为所述过滤器提供振动,以防止或减少细胞在所述过滤器上的堆积。
23.一种用于清洗样品的方法,所述方法包括:
获取具有由一个或多个疏水区域环绕的亲水区域阵列的阵列板,其中,
含有样品的相应溶液位于所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域;
所述相应亲水区域包括自所述一个或多个疏水区域中的一个相应环绕疏水区域形成的一个或多个缺口;
所述相应亲水区域包括偏离所述相应环绕疏水区域界定的参考面的第一缺口面;
将吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少100μm;以及
当所述吸液器吸嘴位于与所述第一缺口面相距至少100μm的位置时,通过所述吸液器吸嘴吸取所述溶液。
24.根据权利要求23所述的方法,其中,
所述第一缺口面相对所述参考面偏离第一距离;以及
所述相应亲水区域包括相对所述参考面偏离与所述第一距离不同的第二距离的第二缺口面。
25.根据权利要求24所述的方法,其中,
所述第二距离小于3000μm。
26.根据权利要求23至25中任一项所述的方法,所述方法包括:
将所述吸液器吸嘴放置于所述相应亲水区域的上方、与所述第一缺口面相距至少300μm。
27.根据权利要求23至26中任一项所述的方法,其中,
所述溶液的吸取速率小于等于20μL/s。
28.根据权利要求27所述的方法,其中,
所述溶液的吸取速率小于等于5μL/s。
29.根据权利要求23至28中任一项所述的方法,所述方法包括:
在通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,摇动所述阵列板。
30.根据权利要求29所述的方法,所述方法包括:
在摇动所述阵列板之后、通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,使所述样品在所述相应溶液中沉降多于10分钟。
31.根据权利要求29或30所述的方法,所述方法包括:
在摇动所述阵列板之后、通过所述吸液器吸嘴吸取所述相应溶液之前,使所述样品在所述相应溶液中沉降少于90分钟。
32.根据权利要求23至31中任一项所述的方法,其中,
所述相应溶液的体积小于200μL。
33.一种用于执行权利要求23至32中任一项所述的方法的装置。
34.根据权利要求33所述的装置,所述装置还包括:
一个或多个分液器,所述一个或多个分液器中的一个相应分液器配置为将第一液体分配到阵列板上,所述相应分液器包括:
第一活塞,其配置为至少部分在第一通道内滑动;以及
第一阀门,其配置为允许通过所述第一阀门从所述第一通道分配所述第一通道中的所述第一液体,以及防止液体通过所述第一阀门进入所述第一通道。
35.一种用于清洗样品的设备,所述设备包括:
板,具有:
亲水区域阵列,以及
环绕所述亲水区域阵列的一个或多个疏水区域,其中,
所述亲水区域阵列的一个相应亲水区域偏离所述一个或多个疏水区域的环绕疏水区域;
所述相应亲水区域包括一个主区域和在所述主区域界定的平面上自所述主区域延伸的两个或多于两个辅区域。
36.根据权利要求35所述的设备,其中,所述环绕疏水区域涂覆有疏水油。
37.根据权利要求35或36所述的设备,其中,所述主区域的形状为圆形,所述两个或多于两个辅区域中的每个辅区域的形状为部分圆。
38.根据权利要求35至37中任一项所述的设备,其中,所述主区域位于第一平面,所述两个或多于两个辅区域中的第一辅区域位于偏离所述第一平面的第二平面上,所述两个或多于两个辅区域中的第二辅区域位于偏离所述第一平面的第三平面上。
39.根据权利要求35至38中任一项所述的设备,其中,所述设备界定含有通孔的第一通道,所述通孔自所述两个或多于两个辅区域中的第一辅区域延伸至所述设备的底部,以便液体能够通过所述第一通道在所述设备的底部和所述第一辅区域之间进行传输。
40.根据权利要求39所述的设备,其中,所述设备界定与所述第一通道不同的含有通孔的第二通道,其中,所述通孔自所述两个或多于两个辅区域中的第一辅区域延伸至所述设备的底部,以便液体能够通过所述第一通道在所述设备的底部和所述第二辅区域之间进行传输。
41.根据权利要求35至40中任一项所述的设备,其中,所述主区域上界定有多个结构。
42.根据权利要求35至41中任一项所述的设备,其中,多个结构位于所述主区域上。
43.根据权利要求42所述的设备,其中,所述多个结构含有磁性材料,使得所述多个结构能够通过磁力来保持。
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