CN110616418A - 一种管式pecvd设备的控制方法及管式pecvd设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种管式PECVD设备的控制方法，包括：S01、确定单个石墨舟的载片量；当石墨舟的载片量大于标准载片量时，将石墨舟分成多个子石墨舟；S02、将射频电源的输出端分成多组独立的与各子石墨舟一一对应连接的子输出端；S03、射频电源的时间周期不变，根据射频电源的工作波形及子石墨舟的个数，调整输出功率的时间段及次数；S04、在射频电源的同一个时间周期内，各子输出端在不同时间段按序输出功率至对应的子石墨舟。本发明还公开了一种管式PECVD设备，包括射频电源、石墨舟和转换单元，石墨舟包括多个子石墨舟；转换单元的输入端与射频电源的输出端相连，多组输出端分别与各子石墨舟相连。本发明的方法及设备均具有成本低等优点。

Description

一种管式PECVD设备的控制方法及管式PECVD设备
技术领域
本发明主要涉及光伏设备技术领域，特指一种管式PECVD设备的控制方法及管式PECVD设备。
背景技术
随着光伏产品的成本降低，光伏设备不可避免地需要降低成本，增大产能，管式PECVD是电池片产线中的重要设备，而管式PECVD中，射频电源是其中很重要的元器件，它的主要作用是在石墨舟两个电极之间施加交变的高频电压，使石墨舟两电极之间的反应气体变成等离子体，在等离子体条件下，反应会更迅速活跃。然而射频电源本身成本比较高，并且其价格随额定输出功率加大而升高，随着石墨舟载片量不断加大，需要的射频电源的输出功率也不断提高，所需成本也进一步增长。目前的管式PECVD设备中，都是一台射频电源给一个石墨舟提供等离子体环境，也就是单电源单输出至单个石墨舟。随着石墨舟载片量的增大，所需射频电源的输出功率也要加大，同时，成本也就要相应地增加。
发明内容
本发明要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本发明提供一种操作简便、降低成本的管式PECVD设备的控制方法及管式PECVD设备。
为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：
一种管式PECVD设备的控制方法，包括以下步骤：
S01、确定单个石墨舟的载片量；当单个石墨舟的载片量大于预设标准载片量时，将石墨舟分成多个子石墨舟；其中预设标准载片量依据管式PECVD设备中的原有射频电源的额定输出功率而定；
S02、将射频电源的输出端分成多组独立的子输出端，各子石墨舟均与各子输出端一一对应连接；
S03、在射频电源的时间周期不变的前提下，根据射频电源的工作波形及子石墨舟的个数，调整时间周期内射频电源输出功率的时间段及次数；
S04、在射频电源的同一个时间周期内，各子输出端在不同时间段按序输出功率至对应的子石墨舟。
作为上述技术方案的进一步改进：
在步骤S03中，在原有射频电源不输出功率的时间段内，根据子石墨舟的个数n划分n-1个时间段，各时间段与各子石墨舟一一对应。
各时间段之间的间隔时间相同。
各时间段的持续时间相同且对应的输出功率的幅值相同。
各时间段的持续时间与射频电源原有输出功率的持续时间相同，且各时间段输出功率的幅值与射频电源原有输出功率的幅值相同。
在步骤S01中，在单个石墨舟的长度方向上将单个石墨舟分成多个载片量相同的子石墨舟，各所述子石墨舟的载片量之和为单个石墨舟的载片量。
在步骤S01中，在单个石墨舟的宽度方向上将单个石墨舟分成多个载片量相同的子石墨舟，各所述子石墨舟的载片量之和为单个石墨舟的载片量。
本发明还公开了一种管式PECVD设备，包括射频电源和石墨舟，所述石墨舟包括多个子石墨舟；还包括转换单元，所述转换单元的输入端与所述射频电源的输出端相连，所述转换单元的多组输出端分别与各子石墨舟相连；所述转换单元用于在射频电源的一个时间周期的不同时间段按序将输入端与各组输出端相连。
作为上述技术方案的进一步改进：
所述转换单元为多路转换器。
所述子石墨舟的数量为2～6个。
与现有技术相比，本发明的优点在于：
本发明的管式PECVD设备的控制方法及管式PECVD设备，适用于单个石墨舟载片量增大，而原有射频电源无法提供足够输出功率的情况下，在不增加射频电源的额定输出功率的前提下，将单个石墨舟分成多个子石墨舟，再将射频电源的输出端分成与各子石墨舟一一对应的多组子输出端，各子输出端在不同时段输出特定功率至对应的子石墨舟，为各子石墨舟提供产生交变电场，从而使各子石墨舟的相邻石墨舟片之间的反应气体能被电离而生成等离子体；上述整体技术方案在单个石墨舟的载片量增大的情况下，将单个石墨舟分成多个子石墨舟，各子石墨舟对应所需总功率减小，从而不需要增加射频电源的额定输出功率，大大节约了成本。
附图说明
图1为本发明的PECVD设备在实施例一中的主视结构图。
图2为本发明的PECVD设备在实施例一中的俯视结构图。
图3为本发明的PECVD设备在实施例一中的侧视结构图。
图4为本发明的PECVD设备在实施例二中的主视结构图。
图5为本发明的PECVD设备在实施例二中的俯视结构图。
图6为本发明的PECVD设备在实施例二中的侧视结构图。
图7为本发明的射频电源输出功率波形示意图。
图中标号表示：1、石英管；2、石墨舟；201、子石墨舟；202、电极；3、射频电源；4、转换单元。
具体实施方式
以下结合说明书附图和具体实施例对本发明作进一步描述。
实施例一：
如图1至图3所示，本实施例的管式PECVD设备的控制方法，适用于单个石墨舟2载片量较大，而管式PECVD设备中原有射频电源3无法提供足够输出功率的情况，具体包括以下步骤：
S01、确定单个石墨舟2的载片量；当单个石墨舟2的载片量大于预设标准载片量时，将石墨舟2分成多个子石墨舟201；其中预设标准载片量依据管式PECVD设备中原有射频电源3的额定输出功率而定；
S02、将射频电源3的输出端分成多组独立的子输出端，各子石墨舟201均与各子输出端一一对应连接；
S03、在射频电源3的时间周期不变的前提下，根据射频电源3的工作波形及子石墨舟201的个数，调整时间周期内射频电源3输出功率的时间段及次数；
S04、在射频电源3的同一个时间周期内，各子输出端在不同时间段按序输出特定功率至对应的子石墨舟201。
本发明的管式PECVD设备的控制方法，适用于单个石墨舟2载片量增大，而原有射频电源3无法提供足够输出功率的情况下，在不增加射频电源3的额定输出功率的前提下，将单个石墨舟2分成多个子石墨舟201，再将射频电源3的输出端分成与各子石墨舟201一一对应的多组子输出端，各子输出端在不同时段输出特定功率至对应的子石墨舟201，为各子石墨舟201提供产生交变电场，从而使各子石墨舟201的相邻石墨舟片之间的反应气体能被电离而生成等离子体；上述整体技术方案在单个石墨舟2的载片量增大的情况下，将单个石墨舟2分成多个子石墨舟201，各子石墨舟201对应所需总功率减小，从而不需要增加射频电源3的额定输出功率，大大节约了成本。
如图1至图3所示，本实施例中，在步骤S01中，在单个石墨舟2的长度方向上将单个石墨舟2分成多个载片量相同的子石墨舟201。具体地，在本实施例中，将子石墨舟201在长度方向上分成两个大小一致的子石墨舟201，两个子石墨舟201的载片量之和与单个石墨舟2的载片量一致，即不会损失载片量。其中两个子石墨舟201的电极接口均位于外侧，电极接口通过电极202与射频电源3相连。
另外，射频电源3所对应的工作波形具有明显的周期性，周期为T，原始状态下，在单个时间周期内，射频电源3在起始T1时段内，对外输出功率，而在剩下的T2(T2＝T-T1，T2>T1)时段内，射频电源3不对外输出功率。在上述将单个石墨舟2分成两个子石墨舟201后，为了保证射频电源3能够顺利给两个子石墨舟201“同时”输出相同的特定功率，首先保持原有T1时段工作波形不变，如图7中的空白波形，对外输出功率，另外在T2时段内的特定位置，如(T1+T2)/2的时刻，开始持续对外输出功率，持续时间为T3(T3＝T1)，如图7中阴影波形，即该时段内的工作波形与T1时段一致(持续时间以及输出功率的幅值均相同)。调整工作波形之后，在单个时间周期内，在T1时段将射频电源3的输出端连接至其中一个子石墨舟201，向其输出特定的功率，而后延时特定时间，在(T1+T2)/2时刻之前，将射频电源3的输出端连接至另外一个子石墨舟201，向其输出相同的特定功率，从而实现宏观尺度上的同时向两个子石墨舟201输出特定功率。为了实现上述输出切换动作，需要在射频电源3与各子石墨舟201之间增设转换单元4(如多路转换器，具有单路输入及多路选择输出的功能)，多路转换器的输入端与射频电源3的输出端相连，多路转换器的两组输出端则分别与子石墨舟201的电极202相连，该转换单元4兼具切换和隔离功能，以保证两个子石墨舟201安全、独立工作。当然，在其它实施例中，子石墨舟201的数量可以根据实际情况(如射频电源3的输出功率)来定，可以选择三个、四个或更多个，对应射频电源3中各输出功率的输出时间段按上述原理进行相应变化。
如图1至图3所示，本发明还相应公开了一种管式PECVD设备，包括射频电源3和石墨舟2，石墨舟2位于石英管1内，石墨舟2包括多个子石墨舟201；还包括转换单元4(如多路转换器)，转换单元4包括输入端和多组输出端，转换单元4的输入端与射频电源3的输出端相连，转换单元4的多组输出端分别与各子石墨舟201的电极202相连；转换单元4用于在射频电源3的一个时间周期的不同时间段按序将输入端与各组输出端相连。本发明的管式PECVD设备，用于执行上述控制方法，同样具有如上控制方法所述的优点，整体结构简单、成本低。
本发明将石墨舟2一分为二，这样，每个单独的子石墨舟201对应所需的总的电源输出功率减小，同时，改变射频电源3原有的工作波形，通过在其所属时间周期不对外输出功率的时段，增加对外输出功率的波形，即对外输出功率，达到在同一个单时间周期内使其提供两组输出的目的，同时满足两个子石墨舟201的功率需求，这样射频电源3的总输出功率减小，解决了因为石墨舟2装片量增加，射频电源3要求的额定输出功率增加带来的成本问题。相比于传统技术方案，成本大大降低。
实施例二：
如图4至图6所示，本实施例与实施例一的区别仅在于石墨舟2的划分方式不一样，在本实施例中，单个石墨舟2从其宽度方向上分成多个载片量相同的子石墨舟201，各子石墨舟201的载片量之和为单个石墨舟2的载片量，具体子石墨舟201的数量为两个，各子石墨舟201的电极202均位于同一侧。其它未述内容与实施例一相同，在此不再赘述。
以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，包括以下步骤：
S01、确定单个石墨舟(2)的载片量；当单个石墨舟(2)的载片量大于预设标准载片量时，将石墨舟(2)分成多个子石墨舟(201)；其中预设标准载片量依据管式PECVD设备中的原有射频电源(3)的额定输出功率而定；
S02、将射频电源(3)的输出端分成多组独立的子输出端，各子石墨舟(201)均与各子输出端一一对应连接；
S03、在射频电源(3)的时间周期不变的前提下，根据射频电源(3)的工作波形及子石墨舟(201)的个数，调整时间周期内射频电源(3)输出功率的时间段及次数；
S04、在射频电源(3)的同一个时间周期内，各子输出端在不同时间段按序输出功率至对应的子石墨舟(201)。
2.根据权利要求1所述的管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，在步骤S03中，在原有射频电源(3)不输出功率的时间段内，根据子石墨舟(201)的个数n划分n-1个时间段，各时间段与各子石墨舟(201)一一对应。
3.根据权利要求2所述的管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，各时间段之间的间隔时间相同。
4.根据权利要求2所述的管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，各时间段的持续时间相同且对应的输出功率的幅值相同。
5.根据权利要求4所述的管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，各时间段的持续时间与射频电源(3)原有输出功率的持续时间相同，且各时间段输出功率的幅值与射频电源(3)原有输出功率的幅值相同。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，在步骤S01中，在单个石墨舟(2)的长度方向上将单个石墨舟(2)分成多个载片量相同的子石墨舟(201)，各所述子石墨舟(201)的载片量之和为单个石墨舟(2)的载片量。
7.根据权利要求1至5中任意一项所述的管式PECVD设备的控制方法，其特征在于，在步骤S01中，在单个石墨舟(2)的宽度方向上将单个石墨舟(2)分成多个载片量相同的子石墨舟(201)，各所述子石墨舟(201)的载片量之和为单个石墨舟(2)的载片量。
8.一种管式PECVD设备，包括射频电源(3)和石墨舟(2)，其特征在于，所述石墨舟(2)包括多个子石墨舟(201)；还包括转换单元(4)，所述转换单元(4)的输入端与所述射频电源(3)的输出端相连，所述转换单元(4)的多组输出端分别与各子石墨舟(201)相连；所述转换单元(4)用于在射频电源(3)的一个时间周期的不同时间段按序将输入端与各组输出端相连。
9.根据权利要求8所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述转换单元(4)为多路转换器。
10.根据权利要求8或9所述的管式PECVD设备，其特征在于，所述子石墨舟(201)的数量为2～6个。
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60101934A (ja) * 1983-11-08 1985-06-06 Nec Corp プラズマｃｖｄ装置
US5175021A (en) * 1990-02-01 1992-12-29 Advanced Semiconductor Materials America, Inc. Transmission line for providing power to an electrode boat in a plasma enhanced chemical vapor deposition system
CN101555592A (zh) * 2008-04-09 2009-10-14 福建钧石能源有限公司 相位控制式制备功能薄膜的方法和系统
CN101555593A (zh) * 2008-04-09 2009-10-14 福建钧石能源有限公司 非同步脉冲式制备功能薄膜的方法和系统
CN102856176A (zh) * 2012-09-27 2013-01-02 合肥海润光伏科技有限公司 一种管式pecvd镀膜方法
CN205258602U (zh) * 2015-11-04 2016-05-25 广东爱康太阳能科技有限公司 一种太阳能电池管式pecvd设备
CN108950515A (zh) * 2018-06-19 2018-12-07 上海治臻新能源装备有限公司 一种基于pecvd的燃料电池金属极板碳基涂层制备装置
CN109440085A (zh) * 2018-12-21 2019-03-08 无锡华源晶电科技有限公司 一种10管高产能pecvd设备

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60101934A (ja) * 1983-11-08 1985-06-06 Nec Corp プラズマｃｖｄ装置
US5175021A (en) * 1990-02-01 1992-12-29 Advanced Semiconductor Materials America, Inc. Transmission line for providing power to an electrode boat in a plasma enhanced chemical vapor deposition system
CN101555592A (zh) * 2008-04-09 2009-10-14 福建钧石能源有限公司 相位控制式制备功能薄膜的方法和系统
CN101555593A (zh) * 2008-04-09 2009-10-14 福建钧石能源有限公司 非同步脉冲式制备功能薄膜的方法和系统
CN102856176A (zh) * 2012-09-27 2013-01-02 合肥海润光伏科技有限公司 一种管式pecvd镀膜方法
CN205258602U (zh) * 2015-11-04 2016-05-25 广东爱康太阳能科技有限公司 一种太阳能电池管式pecvd设备
CN108950515A (zh) * 2018-06-19 2018-12-07 上海治臻新能源装备有限公司 一种基于pecvd的燃料电池金属极板碳基涂层制备装置
CN109440085A (zh) * 2018-12-21 2019-03-08 无锡华源晶电科技有限公司 一种10管高产能pecvd设备

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