CN110579901A - 彩膜基板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使第二对位图形在透明衬底上的正投影与第一对位图形在透明衬底上的正投影错开；基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。

Description

彩膜基板及其制造方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

为了避免诸如手机或平板电脑等显示装置所显示的内容被窥视，市面上出现一些具有防窥功能的显示装置。

目前，可以在显示装置的出光侧形成光栅结构，通过该光栅结构减小显示装置的可视角范围，以实现防窥功能。显示装置通常包括：相对的显示基板和彩膜基板，该光栅结构位于彩膜基板远离显示基板的一侧。通常情况下，光栅结构可以直接形成在彩膜基板中远离显示基板一侧的表面上，在形成光栅结构的过程中，需要将用于形成光栅结构的掩膜板与彩膜基板对位，在相关技术中，主要基于彩膜基板靠近显示基板一面上的对位图形将掩膜板与彩膜基板对位。

但是，由于彩膜基板中的透明衬底的厚度较大，基于彩膜基板靠近显示基板一侧上的对位图形将掩膜板与彩膜基板对位的对位精度较低，导致最终形成的光栅结构的精度较低，影响了显示装置的防窥效果。

发明内容

本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制造方法、显示装置。可以解决现有技术的制造出的光栅结构的精度较低，影响了显示装置的防窥效果问题，所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：

在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；

采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影错开；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

可选的，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，包括：

在所述透明衬底的第二表面上形成第二遮光胶层；

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并对所述第二遮光胶层进行曝光；

对曝光后的第二遮光胶层进行显影，在所述透明衬底的第二表面上形成所述第二对位图形。

可选的，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用目标掩膜板和曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第二表面之间，所述目标掩膜板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上的遮光图形和透光图形，所述遮光图形的结构与所述第一对位图形的结构相同，所述透光图形的结构与所述黑矩阵图形的结构相同。

可选的，采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第一表面之间。

可选的，所述第二遮光胶层为负性胶层。

可选的，基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构，包括：

在所述透明衬底的第二表面上依次形成反光层和第三遮光胶层；

基于所述第二对位图形，对所述反光层和所述第三遮光胶层进行图形化处理，形成所述光栅结构。

可选的，所述在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形，包括：

在所述透明衬底的第一表面上形成第一遮光胶层；

对所述第一遮光胶层进行图形化处理，形成所述黑矩阵图形和所述第一对位图形。

可选的，所述在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形之后，所述方法还包括：

在所述黑矩阵图形和所述第一对位图形上形成第一保护层；

基于所述第一对位图形，在所述第一保护层上形成彩色滤光片；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构之后，所述方法还包括：

在所述光栅结构上形成第二保护层。

第二方面，提供了一种彩膜基板，包括：由第一方面任一所述的方法制造出的彩膜基板；

所述彩膜基板包括：透明衬底，位于所述透明衬底的第一表面上的黑矩阵图形和第一对位图形，以及位于所述透明衬底的第二表面上的第二对位图形和光栅结构；

其中，所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影错开。

第三方面，提供了一种显示装置，包括：显示基板和第二方面所述的彩膜基板，所述显示基板位于靠近所述彩膜基板的第一表面的一侧。

本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

通过在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，且该第二对位图形在透明衬底上的正投影与透明衬底的第一表面上形成的第一对位图形在透明衬底上的正投影错开。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图；

图2是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图；

图3是本发明实施例提供的一种透明衬底的俯视图；

图4是本发明实施例提供的一种形成有黑矩阵图形和第一对位图形后透明衬底的俯视图；

图5是图4示出的透明衬底的侧视图；

图6是本发明实施例提供的一种初始对位图形的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种在黑矩阵图形和第一对位图形上形成第一保护层的示意图；

图8是本发明实施例通过的一种在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形的方法流程图；

图9是本发明实施例提供的一种在透明衬底的第二表面上形成的第二遮光胶层的示意图；

图10是本发明实施例提供的一种对第二遮光胶层进行曝光的示意图；

图11是本发明实施例提供的另一种对第二遮光胶层进行曝光的示意图；

图12是本发明实施例提供的一种在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形的示意图；

图13是本发明实施例提供的一种在透明衬底的第二表面上形成光栅结构的示意图；

图14是本发明实施例提供的另一种在透明衬底的第二表面上形成光栅结构的示意图；

图15是本发明实施例提供的一种在光栅结构上形成第二保护层的示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

请参考图1，图1是本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图，该彩膜基板的制造方法可以包括：

步骤101、在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形。

步骤102、采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使第二对位图形在透明衬底上的正投影与第一对位图形在透明衬底上的正投影错开。

其中，该遮光板在透明衬底上的正投影覆盖黑矩阵图形在透明衬底上的正投影。在本发明实施例中，在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形的过程中，是将与第一对位图形的结构相同的目标图形作为掩膜后，基于该目标图形在透明基板的第二表面上形成第二对位图形的。在形成第二对位图形的过程中，采用遮光板遮挡黑矩阵图形，能够避免在透明衬底的第二表面上用于形成光栅结构的区域内形成与黑矩阵图形类似的其他形状的图形，使得后续能够正常在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

需要说明的是，该透明衬底的第一表面和第二表面分别为透明衬底的上底面和下底面。

步骤103、基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

在本发明实施例中，基于透明衬底的第二表面上形成的第二对位图形，将用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底对位后，通过该用于形成光栅结构的掩膜板在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，且该第二对位图形在透明衬底上的正投影与透明衬底的第一表面上形成的第一对位图形在透明衬底上的正投影错开。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。

请参考图2，图2是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图。该彩膜基板的制造方法可以包括：

步骤201、在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形。

在本发明实施例中，在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形，可以包括以下几个步骤：

步骤A1、在透明衬底的第一表面上形成第一遮光胶层。

可选的，该第一遮光胶层可以为感光胶层。其可以为正性胶层，也可以为负性胶层。

在本发明实施例中，可以在透明衬底的第一表面上通过沉积、涂敷和溅射等多种方式中的任一种形成第一遮光胶层。

步骤B1、对该第一遮光胶层进行图形化处理，形成黑矩阵图形和第一对位图形。

在本发明实施例中，可以对该第一遮光胶层进行图形化处理，形成黑矩阵图形和第一对位图形。由于该第一遮光胶层为感光胶层，因此在对第一遮光胶层图形化处理的过程中，无需在该第一遮光胶层上涂覆光刻胶，只需要对该第一遮光胶层进行曝光，并对曝光后的第一遮光胶层进行显影，即可形成黑矩阵图形和第一对位图形，有效的简化了制备过程。

需要说明的是，对第一遮光层进行曝光之前，需要采用用于形成黑矩阵图形和第一对位图形的第一掩膜板与透明衬底对位。示例的，请参考图3，图3是本发明实施例提供的一种透明衬底的俯视图。该透明衬底10的形状可以为矩形。该透明衬底10上预先设置用于与第一掩膜板对位的初始对位图形10a，第一掩膜板可以基于该初始对位图形10a与透明衬底10对位。在第一掩膜板与透明衬底10对位后，采用曝光源对透明基板10上形成的第一遮光胶层进行曝光，并对曝光后的第一遮光胶层进行显影后即可形成图4或图5示出的黑矩阵图形20和第一对位图形30。

如图3所示，该初始对位图形10a有两个，分别靠近透明衬底10的两个长边，每个初始对位图形10a的中心与对应的长边的距离为5毫米。示例的，请参考图6，图6是本发明实施例提供的一种初始对位图形的结构示意图，该初始对位图形10a可以为由两条相交的直线形图形10a1构成的十字叉状图形，每条直线形图形10a1的宽度可以为0.05毫米，一条直线形图形10a1的一端与另一条直线形图形10a1的一端的距离为1毫米。为了提高对位精度，该初始对位图形10a的周围不能设置有其他类型的图形，通常需要保证与该初始对位图形10a的中心重合且边长为2毫米的正方形框内不能设置有其他类型的图形。需要说明的是，初始对位图形10a的形状还可以为圆形或椭圆形等其他类型的形状，本发明实施例对此不做限定。

在本发明实施例中，如图3所示，该透明衬底10上还预先设置有间隙检测窗口10b以及掩膜板标记图案10c。该掩膜板标记图案10c用于判断掩膜板的放置状态是否按照设计要求进行放置，该掩膜板标记图案10c可以位于透明衬底10的一个顶角位置处。该间隙检测窗口10b用于检测掩膜板(可以为第一掩膜板，或者后续过程中涉及的第二掩膜板等)与透明衬底10之间的距离。该间隙检测窗口10b的个数为4个，其均匀的分布在透明衬底10的四个顶角位置处，每个间隙检测窗口10b的可以均为矩形，且每个间隙检测窗口10b的长度为14毫米，宽度为4毫米。每个间隙检测窗口10b的中心与透明衬底10中的长边的最小距离为8毫米，与透明衬底10中的短边的最小距离为93毫米。

如图4所示，在透明衬底10上形成的第一对位图形30的个数可以为6个，其中，3个第一对位图形30靠近透明衬底10的一个长边，3个第一对位图形30靠近透明衬底10的另一个长边，每个第一对位图形30的中心与对应的长边的距离为8毫米。每个第一对位图形30的形状可以与初始对位图形10a的形状相同。

步骤202、在黑矩阵图形和第一对位图形上形成第一保护层。

可选的，该第一保护层可以为透明保护层，该第一保护层的材料可以为氮化硅、氧化硅，或者氮化硅与氧化硅的混合物。通过该第一保护层能够对黑矩阵图形与第一对位图形起到保护作用，避免出现在后续工艺过程损坏黑矩阵图形或第一对位图形，导致后续制备出的显示装置的显示效果较差的问题。

示例的，请参考图7，图7是本发明实施例提供的一种在黑矩阵图形和第一对位图形上形成第一保护层的示意图。可以在黑矩阵图形20和第一对位图形30上通过沉积、涂敷和溅射等多种方式中的任一种形成第一保护层40。

步骤203、采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使第二对位图形在透明衬底上的正投影与第一对位图形在透明衬底上的正投影错开。

在本发明实施例中，该透明衬底的第一表面与第二表面为透明衬底的上底面和下底面。请参考图8，图8是本发明实施例通过的一种在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形的方法流程图。该方法可以包括：

步骤2031、在透明衬底的第二表面上形成第二遮光胶层。

可选的，该第二遮光胶层可以为感光胶层。第二遮光胶层为感光胶层的有益效果可以参考上述第一遮光胶层中对应的部分，本发明实施例在此不在赘述。

示例的，请参考图9，图9是本发明实施例提供的一种在透明衬底的第二表面上形成的第二遮光胶层的示意图。可以在透明衬底10的第二表面上通过沉积、涂敷和溅射等多种方式中的任一种形成第二遮光胶层50a。

步骤2032、采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并对第二遮光胶层进行曝光。

在本发明实施例中，采用遮光板遮挡黑矩阵图形，还需要将与第一对位图形的结构相同的目标图形作为掩膜后，对第二遮光胶层进行曝光。由于目标图形有多种可实现方式，因此对第二遮光胶层进行曝光也有多种可实现方式，本发明实施例以以下两种可实现方式为例进行示意性说明：

在第一种可实现方式中，采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并对第二遮光胶层进行曝光可以包括：采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并采用目标掩膜板和曝光源对第二遮光胶层进行曝光。

示例的，请参考图10，图10是本发明实施例提供的一种对第二遮光胶层进行曝光的示意图。遮光板001可以位于曝光源002与透明衬底10的第二表面之间。目标掩膜板003可以包括：衬底基板0031，以及位于该衬底基板0031上的遮光图形0032和透光图形0033，该遮光图形0032的结构与第一对位图形30的结构相同，该透光图形0033的结构与黑矩阵图形20的结构相同，该衬底基板0031的结构与透明衬底10的结构相同。需要说明的是，该目标掩膜板可以为通过上述步骤上述步骤201或步骤203所制备的带有黑矩阵图形20和第一对位图形30的透明衬底10。由于衬底基板0031的结构与透明衬底10的结构相同，因此在目标掩膜板003与透明衬底10进行对位的过程中，仅需要保证衬底基板0031的边缘与透明衬底10的边缘重合即可。

此时，该目标掩膜板003中的遮光图形0032为目标图形，可以将该遮光图形0032作为掩膜对第二遮光胶层50a进行曝光。

还需要说明的是，图10是以遮光板001位于曝光源002与目标掩膜板003之间为例进行示意性说明的，在另一种示意性的实现方式中，该遮光板001还可以位于目标掩膜板003与透明衬底10的第二表面之间。

在第二种可实现方式中，采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并对第二遮光胶层进行曝光可以包括：采用遮光板遮挡黑矩阵图形，并采用曝光源对第二遮光胶层进行曝光。

示例的，请参考图11，图11是本发明实施例提供的另一种对第二遮光胶层进行曝光的示意图。遮光板001可以位于曝光源002与透明衬底10的第一表面之间。

此时，该透明衬底10的第一表面上设置的第一对位图形30为目标图形，可以将该第一对位图形30作为掩膜对第二遮光胶层50a进行曝光。

步骤2033、对曝光后的第二遮光胶层进行显影，在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形。

示例的，请参考图12，图12是本发明实施例提供的一种在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形的示意图。对曝光后的第二遮光胶层进行显影后，即可在透明衬底10的第二表面上形成第二对位图形50。

在本发明实施例中，步骤2031形成的第二遮光胶层可以为负性胶层，此时，对曝光后的第二遮光胶层进行显影后，第二遮光胶层中未被光线照射的区域(也即是，与遮光板与目标图形对应的区域)能够被去除，而第二遮光胶层中被光线折射的区域无法被去除，从而在透明衬底10的第二表面上形成了第二对位图形50，且该第二对位图形50在透明衬底10的上的正投影与第一对位图形在透明衬底10上的正投影错开。

需要说明的是，如图10和图11所示，对第二遮光胶层50a进行曝光时，需要保证遮光板001在透明衬底10上的正投影覆盖黑矩阵图形30在透明衬底10上的正投影，避免在透明衬底10的第二表面上用于形成光栅结构的区域内形成与黑矩阵图形20类似的其他形状的图形，使得后续能够正常在透明衬底10的第二表面上形成光栅结构。

步骤204、基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

在本发明实施例中，基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构可以有多种可选的实现方式，本发明实施例以以下两种可选的实现方式为例进行示意性说明：

在第一种可选的实现方式中，基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构可以包括以下几个步骤：

步骤A2、在透明衬底的第二表面上形成第三遮光胶层。

可选的，该第三遮光胶层可以为感光胶层。其可以为正性胶层，也可以为负性胶层。第三遮光胶层为感光胶层的有益效果可以参考上述第一遮光胶层中对应的部分，本发明实施例在此不在赘述。

在本发明实施例中，可以在透明衬底的第二表面上通过沉积、涂敷和溅射等多种方式中的任一种形成第三遮光胶层。

步骤B2、基于第二对位图形，对第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构。

在本发明实施例中，基于第二对位图形，对第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构可以包括以下几个步骤：

步骤B21、基于第二对位图形，将用于形成光栅结构的第二掩膜板与透明衬底对位。

在本发明实施例中，第二掩膜板能够基于第二对位图形与透明衬底对位。由于第二对位图形与第三遮光胶层均是形成在透明衬底的第二表面上的，因此第二掩膜板基于该第二对位图形与透明衬底对位的精度较高，从而有效的提高了后续所形成的光栅结构的精度。

步骤B22、采用第二掩膜板对第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构。

在本发明实施例中，在第二掩膜板与透明衬底对位后，可以采用该第二掩膜板对第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构。

示例的，如图13所示，图13是本发明实施例提供的一种在透明衬底的第二表面上形成光栅结构的示意图。可以采用第二掩膜板对第三遮光胶层进行曝光，然后对曝光后的第三遮光胶层进行显影，即可在透明衬底10的第二表面上形成光栅结构60。该光栅结构60具有间隔排布的遮光区60a和透光区60b。

通过上述步骤A2至步骤B2所形成的光栅结构60中的遮光区60a能够吸收光线，透光区60b能够透射光线。

在第二种可选的实现方式中，基于第二对位图形，在透明衬底的第二表面上形成光栅结构可以包括以下几个步骤：

步骤A3、在透明衬底的第二表面上依次形成反光层和第三遮光胶层。

可选的，该第三遮光胶层可以为感光胶层。其可以为正性胶层，也可以为负性胶层。第三遮光胶层为感光胶层的有益效果可以参考上述第一遮光胶层中对应的部分，本发明实施例在此不在赘述。该反光层可以为金属反光层，例如器可以金属铝、金属银或合金等材料。

在本发明实施例中，可以在透明衬底的第二表面上通过沉积、涂敷和溅射等多种方式中的任一种依次形成反光层和第三遮光胶层。

步骤B3、基于第二对位图形，对反光层和第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构。

在本发明实施例中，基于第二对位图形，对第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构可以包括以下几个步骤：

步骤B31、基于第二对位图形，将用于形成光栅结构的第二掩膜板与透明衬底对位。

该步骤B31可以参考上述步骤B21中的对应内容，在此不再赘述。

步骤B32、采用第二遮光板对反光层和第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构。

在本发明实施例中，在第二掩膜板与透明衬底对位后，可以采用该第二掩膜板对反光层和第三遮光胶层进行图形化处理，形成光栅结构。

示例的，如图14所示，图14是本发明实施例提供的另一种在透明衬底的第二表面上形成光栅结构的示意图。可以采用第二掩膜板对第三遮光胶层进行曝光，然后对曝光后的第三遮光胶层进行显影，最后对反光层进行刻蚀，即可在透明衬底10的第二表面上形成光栅结构60。该光栅结构60具有间隔排布的遮光区60a和透光区60b。

通过上述步骤A3至步骤B3所形成的光栅结构60的遮光区60a能够反射光线，透光区60b能够透射光线。该光栅结构60可以包括叠加设置的反光结构61和遮光结构62。在后续形成显示装置时，显示装置中的显示基板出射的光线能够被反光结构61反射，反射的光线经过显示基板中的金属层(例如像素电极)再次反射，最终能够让光线从光栅结构60的透光区60b出射，避免了光线直接被光栅结构60的遮光区60a吸收，从而有效的提高了显示装置的出光效率。

步骤205、在光栅结构上形成第二保护层。

可选的，该第二保护层可以为透明保护层，该第二保护层的材料可以为氮化硅、氧化硅，或者氮化硅与氧化硅的混合物。通过该第二保护层能够对光栅结构起到保护作用，避免出现在后续工艺过程损坏光栅结构，导致后续制备出的显示装置的防窥效果较差的问题。

示例的，请参考图15，图15是本发明实施例提供的一种在光栅结构上形成第二保护层的示意图。可以在光栅结构60上通过沉积、涂敷和溅射等多种方式中的任一种形成第二保护层70。

步骤206、基于第一对位图形，在第一保护层上形成彩色滤光片。

在本发明实施例中，基于第一对位图形，在第一保护层上形成彩色滤光片可以包括以下过程：首先在第一保护层上形成滤色层；然后基于第一对位图形将用于形成彩色滤光片的第三掩膜板与透明衬底进行对位；最后采用对位后的第三掩膜板对滤色层执行一次构图工艺，即可形成彩色滤光片。该一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。

需要说明的是，通常彩色滤色片可以包括：红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片，每形成一种颜色的滤光片均需要执行一次上述形成对应颜色的滤色层，以及对该滤色层进行沟通工艺的过程。

还需要说明的是，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法的步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。

综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过在透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，且该第二对位图形在透明衬底上的正投影与透明衬底的第一表面上形成的第一对位图形在透明衬底上的正投影错开。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。

本发明实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板可以为通过图1或图2示出的彩膜基板的制造方法所制备出的彩膜基板。示例的，该彩膜基板的结构可以参考图15。该彩膜基板可以包括：

透明衬底10，位于透明衬底10的第一表面上的黑矩阵图形20和第一对位图形30，以及位于透明衬底10的第二表面上的第二对位图形50和光栅结构60。其中，第一对位图形30在透明衬底10上的正投影与第二对位图形50在透明衬底10上的正投影错开。

在一种可实现方式中，该光栅结构60是由遮光胶层制备出的。

在另一种可实现方式中，该光上结构60是由叠加设置的反光层和遮光胶层制备出的。此时，该光栅结构60可以包括：反光结构和遮光结构。

可选的，该彩膜基板还可以包括：位于黑矩阵图形20和第一对位图形30上的第一保护层40，以及位于第一保护层40上的彩色滤光片(图15中未画出)。

可选的，该彩膜基板还可以包括：位于光栅结构60上的第二保护层70。

所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的彩膜基板的具体原理及其制造方法，可以参考前述彩膜基板的制造方法的实施例中的对应内容，在此不再赘述。

综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板，通过在透明衬底的第二表面上设置第二对位图形，且该第二对位图形在透明衬底上的正投影与透明衬底的第一表面上形成的第一对位图形在透明衬底上的正投影错开。由于该第二对位图形与后续需要形成的光栅结构位于透明衬底的同一侧，因此基于该第二对位图形，可以提高用于形成光栅结构的掩膜板与透明衬底的对位精度，进而提高了在透明基板的第二表面上形成的光栅结构的精度，使得通过该彩膜基板制备出的显示装置的防窥效果较好。

本发明实施例还提供了一种显示显示装置，该显示装置可以为：电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置可以包括：图15示出的彩膜基板，以及显示基板。该显示基板可以为阵列基板，此时，显示装置还可以包括：位于彩膜基板与阵列基板之间的液晶层；该显示基板还可以为有机发光二极管显示基板。该显示基板位于靠近彩膜基板的第一表面的一侧，此时，彩膜基板中的光栅结构位于透明基底远离显示基板的一侧。

通过该光栅结构减小显示装置的可视角范围，处于该可视角范围内的用户可以观看到显示装置所显示的内容；处于该可视角范围外的用户无法观看到显示装置所显示的内容，从而实现了显示装置的防窥功能。

需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间惟一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。

在本申请中，术语“第一”和“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。

以上所述仅为本发明的可选的实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形；

采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，以使所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影错开；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并在所述透明衬底的第二表面上形成第二对位图形，包括：

在所述透明衬底的第二表面上形成第二遮光胶层；

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并对所述第二遮光胶层进行曝光；

对曝光后的第二遮光胶层进行显影，在所述透明衬底的第二表面上形成所述第二对位图形。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述采用遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用目标掩膜板和曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第二表面之间，所述目标掩膜板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上的遮光图形和透光图形，所述遮光图形的结构与所述第一对位图形的结构相同，所述透光图形的结构与所述黑矩阵图形的结构相同。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，对所述第二遮光胶层进行曝光，包括：

采用所述遮光板遮挡所述黑矩阵图形，并采用曝光源对所述第二遮光胶层进行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源与所述透明衬底的第一表面之间。

5.根据权利要求2至4任一所述的方法，其特征在于，所述第二遮光胶层为负性胶层。

6.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构，包括：

在所述透明衬底的第二表面上依次形成反光层和第三遮光胶层；

基于所述第二对位图形，对所述反光层和所述第三遮光胶层进行图形化处理，形成所述光栅结构。

7.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形，包括：

在所述透明衬底的第一表面上形成第一遮光胶层；

对所述第一遮光胶层进行图形化处理，形成所述黑矩阵图形和所述第一对位图形。

8.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在透明衬底的第一表面上形成黑矩阵图形和第一对位图形之后，所述方法还包括：

在所述黑矩阵图形和所述第一对位图形上形成第一保护层；

基于所述第一对位图形，在所述第一保护层上形成彩色滤光片；

基于所述第二对位图形，在所述透明衬底的第二表面上形成光栅结构之后，所述方法还包括：

在所述光栅结构上形成第二保护层。

9.一种彩膜基板，其特征在于，包括：由权利要求1至8任一所述的方法制造出的彩膜基板；

所述彩膜基板包括：透明衬底，位于所述透明衬底的第一表面上的黑矩阵图形和第一对位图形，以及位于所述透明衬底的第二表面上的第二对位图形和光栅结构；

其中，所述第一对位图形在所述透明衬底上的正投影与所述第二对位图形在所述透明衬底上的正投影错开。

10.一种显示装置，其特征在于，包括：显示基板和权利要求9所述的彩膜基板，所述显示基板位于靠近所述彩膜基板的第一表面的一侧。