CN105093652B - 一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置,用以预防侧视角串色不良的产生。所述基板包括位于衬底基板上的第一有机膜和第二有机膜,第一有机膜和第二有机膜用作平坦层,第一有机膜的折射率与第二有机膜的折射率不同;所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。

Description

一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示面板(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)是目前常用的平板显示器,液晶显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点,被广泛地应用于现代数字信息化设备中。
随着产品的分辨率越来越高,像素的尺寸越来越小,产品的开口率越来越小,一般设计者通过减小黑矩阵的宽度来提升开口率,但是黑矩阵宽度的降低会导致串色不良的产生。另外,随着产品的色域提升,彩膜膜层越来越厚,导致光源和黑矩阵之间的距离越来越远,这进一步加剧了串色风险。
现有技术的串色现象如图1所示,液晶显示面板包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12,其中,阵列基板11包括衬底基板13、数据线14和有机膜15;彩膜基板12包括衬底基板13、黑矩阵16、彩膜层17和保护层18,彩膜层17包括红色(R)彩膜171、绿色(G)彩膜172和蓝色(B)彩膜173。当观察者从正面观看时,光线从R彩膜171的区域射出,此时观察者看到的图像颜色为红色,而当观察者以一定的侧视角从侧面观看时,部分光线很容易进入周边的像素区域,如图中的光线10从G彩膜172的区域射出,观察者看到的图像颜色为红色和绿色,即此时观察者看到的图像会发生串色。
综上所述,现有技术观察者以不同的侧视角观看液晶显示面板时,看到的颜色不同,现有技术的液晶显示面板会导致串色不良的产生。
发明内容
本发明实施例提供了一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置,用以预防侧视角串色不良的产生。
本发明实施例提供的一种基板,包括位于衬底基板上的第一有机膜和第二有机膜,所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第一有机膜的折射率与所述第二有机膜的折射率不同;
所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。
由本发明实施例提供的基板,包括第一有机膜和第二有机膜,第一有机膜和第二有机膜用作平坦层,第二有机膜的折射率与第一有机膜的折射率不同。当采用本发明实施例提供的基板形成显示面板时,观察者以一定的侧视角观看显示面板时,由于本发明实施例提供的基板包括的第一有机膜和第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转,与现有技术的显示面板相比,倾斜入射到本发明实施例中的基板的大部分的光线会照射到黑矩阵上,从而能够有效预防侧视角串色不良的产生。
较佳地,所述基板为阵列基板或彩膜基板。
较佳地,所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置;或,
所述第一有机膜和所述第二有机膜叠层设置。
较佳地,当所述基板为阵列基板,所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置时,
所述第二有机膜的区域与像素区对应设置,所述第一有机膜的区域与所述像素区外的区域对应设置。
较佳地,所述第一有机膜的截面形状为倒梯形或矩形,所述第一有机膜和所述第二有机膜的接触面与水平面之间的夹角为30度到90度。
较佳地,当所述基板为彩膜基板,所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置时,
所述第二有机膜的区域与黑矩阵区域对应设置,所述第一有机膜的区域与所述黑矩阵区域外的区域对应设置。
较佳地,所述第一有机膜的截面形状为梯形或矩形,所述第一有机膜和所述第二有机膜的接触面与水平面之间的夹角为30度到90度。
本发明实施例还提供了一种显示面板,所述显示面板包括上述的基板。
本发明实施例还提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述的显示面板。
本发明实施例还提供了一种基板的制作方法,所述方法包括在衬底基板上制作第一有机膜和第二有机膜的方法,所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第一有机膜的折射率与所述第二有机膜的折射率不同;
所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。
较佳地,所述基板为阵列基板或彩膜基板。
较佳地,当所述基板为阵列基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
在制作有栅极线和数据线的衬底基板上沉积一层第二有机膜层;
对所述第二有机膜层进行曝光和显影,去除像素区外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈倒梯形或矩形;
在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层;
对所述第一有机膜层进行曝光和显影,去除像素区对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜。
较佳地,当所述基板为阵列基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
在制作有栅极线和数据线的衬底基板上沉积一层第一有机膜层,形成第一有机膜;
在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层覆盖所述第一有机膜的第二有机膜层,形成第二有机膜。
较佳地,当所述基板为彩膜基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层;
对所述第二有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈梯形或矩形;
在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层;
对所述第一有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜。
较佳地,当所述基板为彩膜基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层,形成第二有机膜;
在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层覆盖所述第二有机膜的第一有机膜层,形成第一有机膜。
附图说明
图1为现有技术显示面板的截面结构示意图;
图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的截面结构示意图;
图3为本发明实施例提供的第一种显示面板的截面结构示意图;
图4为本发明实施例提供的另一阵列基板的截面结构示意图;
图5为本发明实施例提供的第二种显示面板的截面结构示意图;
图6为本发明实施例提供的一种彩膜基板的截面结构示意图;
图7为本发明实施例提供的第三种显示面板的截面结构示意图;
图8为本发明实施例提供的另一彩膜基板的截面结构示意图;
图9为本发明实施例提供的第四种显示面板的截面结构示意图;
图10为本发明实施例提供的第五种显示面板的截面结构示意图;
图11(a)和图11(b)为本发明实施例提供的基板为阵列基板时制作第一有机膜和第二有机膜的制作方法流程图;
图12-图15分别为本发明实施例提供的一种阵列基板在制作过程中的不同阶段的结构示意图;
图16(a)和图16(b)为本发明实施例提供的基板为彩膜基板时制作第一有机膜和第二有机膜的制作方法流程图。
具体实施方式
本发明实施例提供了一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置,用以预防侧视角串色不良的产生。
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例,目的只是示意说明本发明内容。
下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的基板。
本发明具体实施例提供的基板为阵列基板或彩膜基板,下面分别以阵列基板和彩膜基板为例进行具体介绍。
实施例一:
如图2和图4所示,本发明具体实施例提供了一种基板,该基板为阵列基板,包括位于衬底基板13上的数据线14、第一有机膜21和第二有机膜22,第一有机膜21和第二有机膜22用作平坦层,第一有机膜21的折射率与第二有机膜22的折射率不同;
第一有机膜21和第二有机膜22用于使得倾斜入射到阵列基板的入射光线经过该第一有机膜21和第二有机膜22的界面后,该入射光线的出射光线向远离阵列基板的方向偏转。
具体地,本发明具体实施例中的第一有机膜21和第二有机膜22同层间隔接触设置,如图2所示,倾斜入射到阵列基板的入射光线在第二有机膜22和第一有机膜21的界面处发射折射,此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率;或,
本发明具体实施例中的第一有机膜21和第二有机膜22叠层设置,第一有机膜21位于第二有机膜22的下方,如图4所示,倾斜入射到阵列基板的入射光线在第一有机膜21和第二有机膜22的界面处发射折射,此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率。
如图2所示,本发明具体实施例提供的阵列基板中的第一有机膜21和第二有机膜22用作平坦层,用于在阵列基板上制作其它膜层时起到平坦的作用,使得后续制作的膜层的性能较佳。以一定倾角入射到显示区的入射光线经过该第一有机膜21和该第二有机膜22的界面时,该入射光线与界面的法线的夹角小于出射光线与界面的法线的夹角,其中,该倾角与观察者观察阵列基板时眼睛与阵列基板之间的夹角相等。
具体实施时,当本发明具体实施例中第一有机膜21和第二有机膜22同层间隔接触设置时,由于本发明具体实施例中的第一有机膜21和第二有机膜22的折射率不同,因此入射到阵列基板中的光线经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时会发生折射现象,当以一定倾角入射到显示区的入射光线经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面后,该入射光线的出射光线的方向发生如图2所示的偏转,相对于现有技术,本发明具体实施例中的有机膜采用两种折射率不同的有机膜材料,可以使得入射到阵列基板显示区中的光线的传播方向发生改变。
优选地,如图2所示,在具体实施时,本发明具体实施例中第二有机膜22的区域与像素区对应设置,第一有机膜21的区域与像素区外的区域对应设置。具体地,在实际设计时,可以将第一有机膜21设置在像素单元之间的非显示区对应的区域,将第二有机膜22设置在像素单元对应的区域。
优选地,如图2所示,本发明具体实施例中的第一有机膜21的截面形状为倒梯形,该倒梯形的腰与水平方向的夹角大于等于30度,在实际设计中,将该倒梯形设计为等腰梯形。在实际设计中,本发明具体实施例中的第一有机膜21的截面形状还可以为矩形。
具体实施时,当本发明具体实施例的第一有机膜21和第二有机膜22叠层设置时,如图4所示,第二有机膜22覆盖第一有机膜21,具体地,本发明具体实施例第一有机膜21在衬底基板13上的正投影与第二有机膜22在衬底基板13上的正投影面积相同,当然,在实际设计中,第一有机膜21在衬底基板13上的正投影与第二有机膜22在衬底基板13上的正投影面积也可以不同。
本发明具体实施例中的第一有机膜21用作平坦层,使得后续制作的第二有机膜22的性能较佳;第二有机膜22用作平坦层,使得后续制作的膜层的性能较佳。以一定倾角入射到显示区的入射光线经过该第一有机膜21和该第二有机膜22的界面时,该入射光线与界面的法线的夹角大于出射光线与界面的法线的夹角,其中,该倾角与观察者观察阵列基板时眼睛与阵列基板之间的夹角相等。
如图3和图5所示,本发明具体实施例还提供了一种显示面板,包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12,其中,阵列基板11采用本发明具体实施例提供的上述的阵列基板,彩膜基板12采用现有技术的彩膜基板,下面分别介绍两种类型的显示面板。
如图3所示,当本发明具体实施例中阵列基板包括的第一有机膜21和第二有机膜22同层间隔接触设置时,以一定倾角入射到显示区的入射光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时入射光线10从第二有机膜22射向第一有机膜21,则第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,该入射光线10的出射光线的方向发生偏转,其中,该倾角与观察者观看显示面板时眼睛与显示面板之间的夹角相等。
当观察者从正面观看显示面板时,光线从R彩膜171的区域射出,观察者看到的图像颜色为红色,而当观察者以一定的侧视角从侧面观看显示面板时,观察者会接收到以与侧视角相等角度的方向入射到阵列基板中的光线的出射光线,本发明具体实施例仅以观察者接收到图中光线10的出射光线为例进行说明。
当第一有机膜21和第二有机膜22采用相同的材料,即有机膜采用现有技术的有机膜设计时,光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22后的方向不发生变化,此时光线10的出射光线从G彩膜172的区域射出,如图中的虚线方向,观察者看到的图像颜色为红色和绿色,即此时观察者看到的图像会发生串色。
当第一有机膜21和第二有机膜22采用不同折射率的材料时,即有机膜采用本发明具体实施例的有机膜设计时,光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,因此在第一有机膜21和第二有机膜22的界面处,光线10与界面的法线的夹角小于光线10的出射光线与界面的法线的夹角,出射光线的方向发生变化。在实际设计中,可以通过选择合适的第一有机膜21和第二有机膜22的折射率,并通过设置合适的第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面之间的夹角,可以使得出射光线射向黑矩阵,如图中带箭头的实线,此时光线10的出射光线不会从G彩膜172的区域射出,观察者看到的图像颜色仍然为红色,即本发明具体实施例提供的显示面板能有效预防侧视角串色不良的产生。
为了进一步验证本发明具体实施例提供的显示面板与现有技术的显示面板相比,能够有效预防侧视角串色不良的产生,本发明具体实施例分别对以下四种不同的显示面板在正视角和侧视角的情况下进行了色域的测试。
本发明具体实施例选择的第一种显示面板为现有技术的显示面板;第二种显示面板为第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面的夹角为30度角的显示面板,即本发明具体实施例中的第二种显示面板中的阵列基板上的截面形状为倒梯形的第一有机膜的腰与水平方向的夹角为30度,参见图3所示;第三种显示面板为第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面的夹角为60度角的显示面板,即本发明具体实施例中的第三种显示面板中的阵列基板上的截面形状为倒梯形的第一有机膜的腰与水平方向的夹角为60度;第四种显示面板为第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面的夹角为90度角的显示面板,即本发明具体实施例中的第四种显示面板中的阵列基板上的第一有机膜的截面形状为矩形。
首先,分别测试第一种显示面板、第二种显示面板、第三种显示面板和第四种显示面板在θ=0度,Ф=0度时的色域,测试结果显示第一种显示面板、第二种显示面板、第三种显示面板和第四种显示面板的色域均为70%NTSC。其中,θ为观察者眼睛与垂直于显示面板方向的夹角,Ф为显示面板上的象限角。θ=0度,Ф=0度时表示观察者以正视角观看显示面板,此时不容易发生串色不良,四种显示面板的色域相同。
接着,分别测试第一种显示面板、第二种显示面板、第三种显示面板和第四种显示面板在θ=60度,Ф=60度时的色域,测试结果显示第一种显示面板的色域为50%NTSC,第二种显示面板的色域为63%NTSC,第三种显示面板的色域为60%NTSC,第四种显示面板的色域为57%NTSC。测试结果显示,第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面的夹角越小,串色现象越轻。考虑到实际生产工艺的限制,第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面的夹角优选为30度到90度,当然,在工艺精度较高的情况下,第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面的夹角还可以设置的小于30度。
如图5所示,当本发明具体实施例中阵列基板包括的第一有机膜21和第二有机膜22叠层设置时,以一定倾角入射到显示区的入射光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时入射光线10从第一有机膜21射向第二有机膜22,则第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,该入射光线10的出射光线的方向发生偏转,其中,该倾角与观察者观看显示面板时眼睛与显示面板之间的夹角相等。
根据上面的分析,当第一有机膜21和第二有机膜22采用相同的材料,光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22后的方向不发生变化,此时光线10的出射光线从G彩膜172的区域射出,如图中的虚线方向,即此时观察者看到的图像会发生串色。
当第一有机膜21和第二有机膜22采用不同折射率的材料时,即有机膜采用本发明具体实施例的有机膜设计时,光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,因此在第一有机膜21和第二有机膜22的界面处,光线10与界面的法线的夹角大于光线10的出射光线与界面的法线的夹角,出射光线的方向发生变化。在实际设计中,可以通过选择合适的第一有机膜21和第二有机膜22的折射率,可以使得出射光线射向黑矩阵,如图中带箭头的实线,此时光线10的出射光线不会从G彩膜172的区域射出,能有效预防侧视角串色不良的产生。
实施例二:
如图6和图8所示,本发明具体实施例提供了一种基板,该基板为彩膜基板,包括位于衬底基板13上的黑矩阵16、彩膜层17、保护层18、第一有机膜21和第二有机膜22,第一有机膜21和第二有机膜22用作平坦层,第一有机膜21的折射率与第二有机膜22的折射率不同;
第一有机膜21和第二有机膜22用于使得倾斜入射到彩膜基板的入射光线经过该第一有机膜21和第二有机膜22的界面后,该入射光线的出射光线向远离彩膜基板的方向偏转。
具体地,本发明具体实施例中的第一有机膜21和第二有机膜22同层间隔接触设置,如图6所示,倾斜入射到彩膜基板的入射光线在第二有机膜22和第一有机膜21的界面处发射折射,此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率;或,
本发明具体实施例中的第一有机膜21和第二有机膜22叠层设置,如图8所示,倾斜入射到彩膜基板的入射光线在第一有机膜21和第二有机膜22的界面处发射折射,此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率。
如图6所示,本发明具体实施例提供的彩膜基板中的第一有机膜21和第二有机膜22用作平坦层,用于在彩膜基板后续制作配向膜时起到平坦的作用,使得制作的配向膜的性能较佳。以一定倾角入射到彩膜层17对应的区域的入射光线经过该第一有机膜21和该第二有机膜22的界面时,该入射光线与界面的法线的夹角小于出射光线与界面的法线的夹角,其中,该倾角与观察者观察彩膜基板时眼睛与彩膜基板之间的夹角相等。
具体实施时,当本发明具体实施例中第一有机膜21和第二有机膜22同层间隔接触设置时,由于本发明具体实施例中的第一有机膜21和第二有机膜22的折射率不同,因此入射到彩膜基板中的光线经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时会发生折射现象,使得入射到彩膜基板中的光线的传播方向发生改变。
优选地,如图6所示,在具体实施时,本发明具体实施例中第二有机膜22的区域与黑矩阵区域对应设置,第一有机膜21的区域与黑矩阵区域外的区域对应设置。当衬底基板13位于最下方时,本发明具体实施例中的第一有机膜21的截面形状为梯形,该梯形的腰与水平方向的夹角大于等于30度,在实际设计中,将该梯形设计为等腰梯形。在实际设计中,本发明具体实施例中的第一有机膜21的截面形状还可以为矩形。
具体实施时,当本发明具体实施例的第一有机膜21和第二有机膜22叠层设置时,如图8所示,本发明具体实施例中的第一有机膜21覆盖第二有机膜22,具体地,本发明具体实施例第一有机膜21在衬底基板13上的正投影与第二有机膜22在衬底基板13上的正投影面积相同,当然,在实际设计中,第一有机膜21在衬底基板13上的正投影与第二有机膜22在衬底基板13上的正投影面积也可以不同。
本发明具体实施例中的第二有机膜22用作平坦层,使得后续制作的第一有机膜21的性能较佳;第一有机膜21用作平坦层,使得后续制作的配向膜的性能较佳。以一定倾角入射到彩膜基板的入射光线经过该第一有机膜21和该第二有机膜22的界面时,该入射光线与界面的法线的夹角大于出射光线与界面的法线的夹角。
如图7和图9所示,本发明具体实施例还提供了一种显示面板,包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12,其中,阵列基板11采用现有技术的阵列基板,彩膜基板12采用本发明具体实施例提供的上述彩膜基板,下面分别介绍两种类型的显示面板。
如图7所示,当本发明具体实施例中彩膜基板包括的第一有机膜21和第二有机膜22同层间隔接触设置时,以一定倾角入射到彩膜基板的入射光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时入射光线10从第二有机膜22射向第一有机膜21,则第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,该入射光线10的出射光线的方向发生偏转,其中,该倾角与观察者观看显示面板时眼睛与显示面板之间的夹角相等。
本发明具体实施例中入射到彩膜基板上的光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,因此在第一有机膜21和第二有机膜22的界面处,光线10与界面的法线的夹角小于光线10的出射光线与界面的法线的夹角,出射光线的方向发生变化。在实际设计中,可以通过选择合适的第一有机膜21和第二有机膜22的折射率,并通过设置合适的第一有机膜21和第二有机膜22的界面与水平面之间的夹角,可以使得出射光线射向黑矩阵,如图中带箭头的实线,此时光线10的出射光线不会从G彩膜172的区域射出,能有效预防侧视角串色不良的产生。在实际生产过程中,由于光线10距离彩膜层17的距离较近,因此,为了能够更好的预防侧视角串色不良的产生,本发明具体实施例需要将保护层18的厚度制作的较厚,而保护层18的厚度较厚时容易导致膜层的脱落以及显示面板厚度增大的问题,因此,在实际生产过程中,保护层18的厚度需要制作在一定的厚度范围内,这个厚度范围值需要根据具体的生产工艺进行确定。
如图9所示,当本发明具体实施例中阵列基板包括的第一有机膜21和第二有机膜22叠层设置时,以一定倾角入射到彩膜基板的入射光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时入射光线10从第一有机膜21射向第二有机膜22,则第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,该入射光线10的出射光线的方向发生偏转,其中,该倾角与观察者观看显示面板时眼睛与显示面板之间的夹角相等。
本发明具体实施例中入射到彩膜基板上的光线10经过第一有机膜21和第二有机膜22的界面时,由于此时第二有机膜22的折射率大于第一有机膜21的折射率,因此在第一有机膜21和第二有机膜22的界面处,光线10与界面的法线的夹角大于光线10的出射光线与界面的法线的夹角,出射光线的方向发生变化。在实际设计中,可以通过选择合适的第一有机膜21和第二有机膜22的折射率,可以使得出射光线射向黑矩阵,如图中带箭头的实线,此时光线10的出射光线不会从G彩膜172的区域射出,能有效预防侧视角串色不良的产生。
如图10所示,本发明具体实施例提供的显示面板,包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12,其中,阵列基板11采用本发明具体实施例提供的上述阵列基板,彩膜基板12采用本发明具体实施例提供的上述彩膜基板。图10中仅示出了其中一种显示面板,从图中可以看到,本发明具体实施例中的显示面板可以使得以预设倾角入射到显示面板中的大部分的光照射到黑矩阵上,从而有效预防侧视角串色不良的产生。
本发明具体实施例还提供了一种显示装置,该显示装置包括上述的显示面板,该显示装置可以为液晶面板、液晶显示器、液晶电视、有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode,OLED)面板、OLED显示器、OLED电视或电子纸等显示装置。
本发明具体实施例还提供了一种基板的制作方法,该方法包括在衬底基板上制作第一有机膜和第二有机膜的方法,所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第一有机膜的折射率与所述第二有机膜的折射率不同;
所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。
具体地,如图11(a)所示,当本发明具体实施例中的基板为阵列基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
S1101a、在制作有栅极线和数据线的衬底基板上沉积一层第二有机膜层;
S1102a、对所述第二有机膜层进行曝光和显影,去除像素区外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈倒梯形或矩形;
S1103a、在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层;
S1104a、对所述第一有机膜层进行曝光和显影,去除像素区对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜。
具体地,如图11(b)所示,当本发明具体实施例中的基板为阵列基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
S1101b、在制作有栅极线和数据线的衬底基板上沉积一层第一有机膜层,形成第一有机膜;
S1102b、在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层覆盖所述第一有机膜的第二有机膜层,形成第二有机膜。
本发明具体实施例采用图11(a)所示的制作方法制作得到的第一有机膜和第二有机膜同层间隔接触设置;采用11(b)所示的制作方法制作得到的第一有机膜和第二有机膜叠层设置。
下面结合附图详细的介绍本发明具体实施例提供的阵列基板的制作方法,下面仅介绍第一有机膜和第二有机膜同层间隔接触设置时的制作方法,第一有机膜和第二有机膜叠层设置时的制作方法较简单,与现有技术制作平坦层的方法类似,这里不进行详细介绍。
首先,如图12所示,在衬底基板上通过构图工艺制作栅极、栅极线、数据线以及源漏电极等结构,图中仅示出了制作得到的数据线14。本发明具体实施例中制作栅极、栅极线、数据线以及源漏电极等结构的方法与现有技术相同,这里不再赘述。
接着,如图13所示,在制作有栅极线和数据线14的衬底基板上沉积一层第二有机膜层132,第二有机膜层132的沉积方法可以为涂覆等方法,第二有机膜层132的具体沉积方法与现有技术沉积有机膜层的方法相同,这里不再赘述。
接着,如图14所示,对第二有机膜层132进行曝光和显影,去除像素区外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜22;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈倒梯形。其中,在实际生产过程中,可以通过设计的掩膜板上的图形、以及曝光过程中各个参数的设置对第二有机膜层132进行曝光,使得曝光后再经过显影去除的第二有机膜层的截面形状呈倒梯形。
接着,如图15所示,在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层151,第一有机膜层151的沉积方法与第二有机膜层132的沉积方法相同。接着对沉积的第一有机膜层151进行曝光和显影,去除像素区对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜21,参见图2所示。
最后,在完成上述步骤的衬底基板上通过构图工艺制作像素电极以及钝化层等结构,本发明具体实施例中像素电极以及钝化层的制作方法与现有技术相同,这里不再赘述。
具体地,如图16(a)所示,当本发明具体实施例中的基板为彩膜基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
S1601a、在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层;
S1602a、对所述第二有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈梯形或矩形;
S1603a、在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层;
S1604a、对所述第一有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜。
具体地,如图16(b)所示,当本发明具体实施例中的基板为彩膜基板时,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
S1601b、在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层,形成第二有机膜;
S1602b、在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层覆盖所述第二有机膜的第一有机膜层,形成第一有机膜。
本发明具体实施例采用图16(a)所示的制作方法制作得到的第一有机膜和第二有机膜同层间隔接触设置;采用16(b)所示的制作方法制作得到的第一有机膜和第二有机膜叠层设置。
本发明具体实施例的基板为彩膜基板时制作第一有机膜和第二有机膜的制作方法与本发明具体实施例的基板为阵列基板时制作第一有机膜和第二有机膜的制作方法类似,这里不再赘述。
综上所述,本发明具体实施例提供一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置,基板包括位于衬底基板上的第一有机膜和第二有机膜,所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第一有机膜的折射率与所述第二有机膜的折射率不同;所述第一有机膜和所述第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转。当采用本发明具体实施例提供的基板形成显示面板时,观察者以一定的侧视角观看显示面板时,由于本发明具体实施例提供的基板第一有机膜和第二有机膜用于使得倾斜入射到所述基板的入射光线经过该第一有机膜和所述第二有机膜的界面后,该入射光线的出射光线向远离所述基板的方向偏转,与现有技术的显示面板相比,选择不同折射率的有机膜能够使得入射光线的传播方向发生变化,进而使得入射到本发明具体实施例中的基板的大部分的光线会照射到黑矩阵上,从而能够有效预防侧视角串色不良的产生。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (6)

1.一种基板,其特征在于,包括位于衬底基板上的第一有机膜和第二有机膜,所述第一有机膜和所述第二有机膜同层间隔接触设置;所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第二有机膜的折射率大于所述第一有机膜的折射率;
所述基板为彩膜基板,所述第二有机膜的区域与黑矩阵区域对应设置,所述第一有机膜的区域与所述黑矩阵区域外的区域对应设置。
2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述基板为彩膜基板,所述第一有机膜的截面形状为梯形或矩形,所述第一有机膜和所述第二有机膜的接触面与水平面之间的夹角为30度到90度。
3.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括权利要求1或2所述的基板。
4.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求3所述的显示面板。
5.一种基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成同层间隔接触设置的第一有机膜和第二有机膜的膜层;其中,
所述第一有机膜和所述第二有机膜用作平坦层,所述第二有机膜的折射率大于所述第一有机膜的折射率;所述基板为彩膜基板,所述第二有机膜的区域与黑矩阵区域对应设置,所述第一有机膜的区域与所述黑矩阵区域外的区域对应设置。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述基板为彩膜基板,制作第一有机膜和第二有机膜的具体方法包括:
在制作有黑矩阵、彩膜层和保护层的衬底基板上沉积一层第二有机膜层;
对所述第二有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域外的区域对应区域的第二有机膜层,形成第二有机膜;其中,去除的第二有机膜层的截面形状呈梯形或矩形;
在完成上述步骤的衬底基板上沉积一层第一有机膜层;
对所述第一有机膜层进行曝光和显影,去除黑矩阵区域对应区域的第一有机膜层,形成第一有机膜。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105093652B (zh) 2015-08-21 2018-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置
CN105527801B (zh) * 2016-03-04 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 一种膜层的图案化方法、基板及其制作方法、显示装置
CN105974641B (zh) * 2016-06-20 2019-02-22 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其彩膜基板
CN106501992B (zh) * 2017-01-03 2019-04-19 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板和显示面板
CN106773379B (zh) * 2017-02-06 2020-02-07 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置及其控制方法
US10305064B2 (en) * 2017-04-28 2019-05-28 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Flexible organic light emitting diode display and manufacturing method thereof
CN107092126B (zh) 2017-06-26 2020-01-03 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、显示装置
US10802323B2 (en) * 2017-12-15 2020-10-13 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device
CN109031821A (zh) * 2018-07-05 2018-12-18 Oppo广东移动通信有限公司 薄膜晶体管阵列基板、显示屏及电子设备
CN111668254A (zh) * 2019-03-05 2020-09-15 恒煦电子材料股份有限公司 具量子点的像素基板及其制作方法
CN110581230B (zh) * 2019-09-16 2022-06-07 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板及制作方法、显示装置
CN112255830B (zh) * 2020-10-23 2021-11-02 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 激光感应面板及其制作方法、显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1201160A (zh) * 1997-03-27 1998-12-09 株式会社先进展示 液晶显示装置及其制造方法
US6356326B1 (en) * 1998-02-25 2002-03-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Active matrix substrate of a liquid crystal display comprising an insulating layer being made of solid solution of SiOx /SINy
JP2007240932A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Sharp Corp 表示パネル用の基板および表示パネル
CN101419303A (zh) * 2007-10-26 2009-04-29 中华映管股份有限公司 彩色滤光基板及其制作方法、以及液晶显示面板
CN103454808A (zh) * 2013-09-06 2013-12-18 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、彩膜基板和显示装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101004468B1 (ko) * 2003-12-30 2010-12-31 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 액정표시장치 및 그 제조 방법
CN102736315A (zh) * 2012-06-29 2012-10-17 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板和显示装置
JP2016004101A (ja) * 2014-06-16 2016-01-12 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN105093652B (zh) 2015-08-21 2018-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及其制作方法、显示面板、显示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1201160A (zh) * 1997-03-27 1998-12-09 株式会社先进展示 液晶显示装置及其制造方法
US6356326B1 (en) * 1998-02-25 2002-03-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Active matrix substrate of a liquid crystal display comprising an insulating layer being made of solid solution of SiOx /SINy
JP2007240932A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Sharp Corp 表示パネル用の基板および表示パネル
CN101419303A (zh) * 2007-10-26 2009-04-29 中华映管股份有限公司 彩色滤光基板及其制作方法、以及液晶显示面板
CN103454808A (zh) * 2013-09-06 2013-12-18 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、彩膜基板和显示装置

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