CN110575987A - 低水雾冲水装置 - Google Patents

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Abstract

本发明在于提供一种能防止水雾产生，避免影响制程的低水雾冲水装置。其技术手段：低水雾冲水装置包括定位、冲水单元及风刀帽；定位单元一端能与湿制程设备对应侧连接，具有导气通道；冲水单元垂直设置于定位单元自由端处，具有出、入水口；风刀帽包括环状壳体、开槽、及与开槽相连通的内、外出气缝；环状壳体套设于出水口外；开槽设于环状壳体垂直壁面顶端，并能对应于导气通道；内出气缝环设于环状壳体垂直壁面底端内侧，内出气缝间形成有第一间距；外出气缝环设于环状壳体垂直壁面底端外侧，外出气缝间形成有第二间距，另与内出气缝间形成有间隔，而各个外出气缝皆还与一个第一间距相对应。

Description

低水雾冲水装置
技术领域
本发明涉及一种湿制程设备上的冲水结构，尤指一种低水雾冲水装置。
背景技术
在现今的半导体湿制程中，存在着许多清洗程序，通过冲水这一流程，来进行不同目标的应用，而在进行冲水的同时，难免会产生大量的水雾，对目标观测有一定的防碍，而且对机台的使用寿命也都有一定程度的影响。
针对水雾这一问题，湿制程设备上还会装置抽气设备，在冲水的同时，利用抽气设备将水雾抽出，以降低水雾的影响，但是整体而言，效果并不是很好。
有鉴于此，如何提供一种能解决前述问题，最大程度地避免水雾产生的低水雾冲水装置，便成为本发明欲改进的目的。
发明内容
本发明目的在于提供一种能防止水雾产生，避免影响制程的低水雾冲水装置。
为解决上述问题及达到本发明的目的，本发明的技术手段，是这样实现的，为一种低水雾冲水装置，能配合湿制程设备应用，其中：所述低水雾冲水装置，包括有一定位单元、一冲水单元、以及一风刀帽；所述定位单元，其一端能与湿制程设备对应侧连接，且具有一能对底侧面输出气体的导气通道；所述冲水单元，其垂直设置于该定位单元自由端处，具有一位于底端的出水口、及一位于顶端的入水口；所述风刀帽，其包括有一环状壳体、一开槽、至少两个内出气缝、及至少两个外出气缝；所述环状壳体，其套设于该出水口外；所述开槽，其设于该环状壳体垂直壁面顶端，并能对应于该导气通道；所述内出气缝，其环设于该环状壳体垂直壁面底端内侧，各自与该开槽相连通，且各个该内出气缝相互间形成有一第一间距；所述外出气缝，其环设于该环状壳体垂直壁面底端外侧，各自与该开槽相连通，且各个该外出气缝相互间形成有一第二间距，另与该内出气缝间形成有一间隔，而各个该外出气缝皆还与一个该第一间距相对应。
更优选的是，所述导气通道，其还呈T字型设置，并包含有一主通道、及一出气通道，该主通道水平穿设于该定位单元固定端处，该出气通道垂直设于该主通道中央底侧，连通至该定位单元底侧面。
更优选的是，所述冲水单元，其还包括有一反射体、及两连接杆，该反射体间隔设于该出水口处，该连接杆分别设于该反射体两侧，且一端往斜上方连接至该出水口处边缘。
更优选的是，所述反射体，其顶端为平面，而底端为呈球状面设置。
与现有技术相比，本发明的效果如下所示：
第一点：本发明低水雾冲水装置，通过定位单元、冲水单元及风刀帽的配合应用，利用风刀帽产生高压风刀以形成风墙，能将冲水单元冲水时产生的水雾，限制在高压风墙内侧，解决水雾弥漫的问题。
第二点：本发明低水雾冲水装置，将冲水和风墙的功能整合在一起，能有效配合湿制程设备，不但整体而言，非常耐用可靠，最重要的是，还不会增加过多的成本，而且不管是新旧机台都能配合应用。
附图说明
图1为本发明的立体示意图。
图2为本发明的分解示意图。
图3为本发明中风刀帽的底视示意图。
图4为本发明的立体实施示意图。
图5为本发明的剖面实施示意图。
附图标记说明：
1 定位单元
11 导气通道
111 主通道
112 出气通道
2 冲水单元
21 出水口
22 入水口
23 反射体
24 连接杆
3 风刀帽
31 环状壳体
32 开槽
33 内出气缝
331 第一间距
34 外出气缝
341 外出气缝
342 间隔
100 低水雾冲水装置
A 冲洗水
B 气体
C 水雾
具体实施方式
以下依据图面所示的实施例进行详细说明：
如图1至图5所示，图中揭示出，一种低水雾冲水装置，能配合湿制程设备应用，其中，所述低水雾冲水装置100，包括有一定位单元1、一冲水单元2、以及一风刀帽3；所述定位单元1，其一端能与湿制程设备对应侧连接，且具有一能对底侧面输出气体的导气通道11；所述冲水单元2，其垂直设置于该定位单元1自由端处，具有一位于底端的出水口21、及一位于顶端的入水口22；所述风刀帽3，其包括有一环状壳体31、一开槽32、至少两个内出气缝33、及至少两个外出气缝34；所述环状壳体31，其套设于该出水口21外；所述开槽32，其设于该环状壳体31垂直壁面顶端，并能对应于该导气通道11；所述内出气缝33，其环设于该环状壳体31垂直壁面底端内侧，各自与该开槽32相连通，且各个该内出气缝33相互间形成有一第一间距331；所述外出气缝34，其环设于该环状壳体31垂直壁面底端外侧，各自与该开槽32相连通，且各个该外出气缝34相互间形成有一第二间距341，另与该内出气缝33间形成有一间隔342，而各个该外出气缝34皆还与一个该第一间距331相对应。
其中，通过定位单元1、冲水单元2及风刀帽3的配合应用，构成本发明低水雾冲水装置100，将冲水和风墙的功能整合在一起，能有效配合湿制程设备，利用风刀帽3产生高压风刀以形成风墙，限制住冲水单元2冲水时产生的水雾，一举解决水雾弥漫的问题，整体而言，非常耐用可靠、成本低，而且不管是新旧机台都能配合应用。
其次，利用内出气缝33、外出气缝34的内外交错结构设计，水雾难以外泄，避免影响制程，而另一方面，第一间距331、第二间距341的设置，除了让内出气缝33、外出气缝34相互间能配合之外，还能有效避免内出气缝33、外出气缝34所输出的气体B，发生流速不足的问题，而间隔342的设置，能让相邻内出气缝33、外出气缝34所输出的气体B之间，在不干扰的状况下，将周围空气带走，形成低压区，让内部的水雾C，更不容易外泄。
如图4和图5所示，图中揭示出，气体B能通过主通道111、出气信道112的顺序，以高流速进入开槽32中，再经过外出气缝34和内出气缝33，更加快速地输出于外，产生高压风刀，风墙得以形成，同时，冲洗水A能通过入水口22进入冲水单元2，由出水口21输出于外，达到冲洗的效果，此间所产生的水雾C，会被由气体B所构成的风墙所限制住，不再大幅度地弥漫在湿制程设备中。
请参阅图2、图4、及图5，所述导气通道11，其还呈T字型设置，并包含有一主通道111、及一出气通道112，该主通道111水平穿设于该定位单元1固定端处，该出气通道112垂直设于该主通道111中央底侧，连通至该定位单元1底侧面。
其中，通过主通道111及出气通道112的配合，应用T字型的结构，以主信道111将两股气体B，汇集至出气通道112后输出，获得更大的流速，快速流入风刀帽3中，以实时的产生高压风刀，形成风墙，将水雾C限制住。
请参阅图2，所述冲水单元2，其还包括有一反射体23、及两连接杆24，该反射体23间隔设于该出水口21处，该连接杆24分别设于该反射体23两侧，且一端往斜上方连接至该出水口21处边缘。
其中，通过反射体23的设置，在不影响冲洗效率的前提之下，避免直冲冲洗面，对冲洗面产生过大压力，对机台或产品产生不良的影响。
其次，通过连接杆24的应用，能在不影响冲洗的大前提下，让反射体23获得一稳固的定位。
请参阅图2及图5，所述反射体23，其顶端为平面，而底端为呈球状面设置。
其中，利用顶端为平面、底端为呈球状面的反射体23应用，更进一步提高冲洗水A的冲洗效率，还能避免产生乱溅射的现象，导致水雾无法得到良好的控制。
以上依据图示所示的实施例详细说明了本发明的构造、特征及作用效果，以上所述仅为本发明的较佳实施例，但本发明不以图面所示限定实施范围，凡是依照本发明的构想所作的改变，或修改为等同变化的等效实施例，仍未超出说明书与图示所涵盖的精神时，均应在本发明的保护范围内。

Claims (4)

1.一种低水雾冲水装置，能配合湿制程设备应用，其特征在于：
所述低水雾冲水装置(100)，包括有一定位单元(1)、一冲水单元(2)、以及一风刀帽(3)；
所述定位单元(1)，其一端能与湿制程设备对应侧连接，且具有一能对底侧面输出气体的导气通道(11)；
所述冲水单元(2)，其垂直设置于该定位单元(1)自由端处，具有一位于底端的出水口(21)、及一位于顶端的入水口(22)；
所述风刀帽(3)，其包括有一环状壳体(31)、一开槽(32)、至少两个内出气缝(33)、及至少两个外出气缝(34)；
所述环状壳体(31)，其套设于该出水口(21)外；
所述开槽(32)，其设于该环状壳体(31)垂直壁面顶端，并能对应于该导气通道(11)；
所述内出气缝(33)，其环设于该环状壳体(31)垂直壁面底端内侧，各自与该开槽(32)相连通，且各个该内出气缝(33)相互间形成有一第一间距(331)；
所述外出气缝(34)，其环设于该环状壳体(31)垂直壁面底端外侧，各自与该开槽(32)相连通，且各个该外出气缝(34)相互间形成有一第二间距(341)，另与该内出气缝(33)间形成有一间隔(342)，而各个该外出气缝(34)皆还与一个该第一间距(331)相对应。
2.根据权利要求1所述的低水雾冲水装置，其特征在于，所述导气通道(11)呈T字型设置，并包含有一主通道(111)、及一出气通道(112)；该主通道(111)水平穿设于该定位单元(1)固定端处；该出气通道(112)垂直设于该主通道(111)中央底侧，连通至该定位单元(1)底侧面。
3.根据权利要求2所述的低水雾冲水装置，其特征在于，所述冲水单元(2)，其还包括有一反射体(23)、及两连接杆(24)，该反射体(23)间隔设于该出水口(21)处，该连接杆(24)分别设于该反射体(23)两侧，且一端往斜上方连接至该出水口(21)处边缘。
4.根据权利要求3所述的低水雾冲水装置，其特征在于，所述反射体(23)，其顶端为平面，而底端为呈球状面设置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111974737A (zh) * 2020-07-30 2020-11-24 福涞堡造纸技术(上海)有限公司 一种丝网清洁装置及方法
CN112139107A (zh) * 2020-07-30 2020-12-29 福涞堡造纸技术(上海)有限公司 一种丝网清洗干燥装置及方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW523242U (en) * 2002-03-25 2003-03-01 Manz Taiwan Ltd Water blocking device of horizontal wet process
CN1470337A (zh) * 2002-06-28 2004-01-28 大日本屏影象制造株式会社 基板处理装置及基板清洗方法
KR20100055812A (ko) * 2008-11-18 2010-05-27 세메스 주식회사 기판 처리 장치
CN102214559A (zh) * 2011-05-23 2011-10-12 叶伟清 晶圆亲水面表面清洗方法
CN105513999A (zh) * 2015-12-10 2016-04-20 北京七星华创电子股份有限公司 一种具有气体保护的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
CN208743148U (zh) * 2018-06-07 2019-04-16 佳宸科技有限公司 低水雾冲水装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW523242U (en) * 2002-03-25 2003-03-01 Manz Taiwan Ltd Water blocking device of horizontal wet process
CN1470337A (zh) * 2002-06-28 2004-01-28 大日本屏影象制造株式会社 基板处理装置及基板清洗方法
KR20100055812A (ko) * 2008-11-18 2010-05-27 세메스 주식회사 기판 처리 장치
CN102214559A (zh) * 2011-05-23 2011-10-12 叶伟清 晶圆亲水面表面清洗方法
CN105513999A (zh) * 2015-12-10 2016-04-20 北京七星华创电子股份有限公司 一种具有气体保护的二相流雾化喷射清洗装置及清洗方法
CN208743148U (zh) * 2018-06-07 2019-04-16 佳宸科技有限公司 低水雾冲水装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111974737A (zh) * 2020-07-30 2020-11-24 福涞堡造纸技术(上海)有限公司 一种丝网清洁装置及方法
CN112139107A (zh) * 2020-07-30 2020-12-29 福涞堡造纸技术(上海)有限公司 一种丝网清洗干燥装置及方法
CN111974737B (zh) * 2020-07-30 2023-10-20 福涞堡造纸技术(上海)有限公司 一种丝网清洁装置及方法
CN112139107B (zh) * 2020-07-30 2023-10-31 福涞堡造纸技术(上海)有限公司 一种丝网清洗干燥装置

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