TWI667075B - Low water mist flushing device - Google Patents

Abstract

本發明在於提供一種能防止水霧產生，避免影響製程的低水霧沖水裝置。其技術手段：為其特徵在於：低水霧沖水裝置包括定位、沖水單元及風刀帽；定位單元一端能與濕製程設備對應側連接，具有導氣通道；沖水單元垂直設置於定位單元自由端處，具有出、入水口；風刀帽包括環狀殼體、開槽、及與開槽相連通的內、外出氣縫；環狀殼體套設於出水口外；開槽設於環狀殼體垂直壁面頂端，並能對應於導氣通道；內出氣縫環設於環狀殼體垂直壁面底端內側，內出氣縫間形成有第一間距；外出氣縫環設於環狀殼體垂直壁面底端外側，外出氣縫間形成有第二間距，另與內出氣縫間形成有間隔，而各個外出氣縫皆還與一個第一間距相對應。

Description

低水霧沖水裝置

本發明涉及一種濕製程設備上的沖水結構，尤指一種低水霧沖水裝置。

在現今的半導體濕製程中，存在著許多清洗程序，通過沖水此一流程，來進行不同目標的應用，而在進行沖水的當下，難免會產生大量的水霧，對目標觀測有一定的防礙，而且對機台的使用壽命也都有一定程度的影響。

針對水霧此一問題，濕製程設備上還會裝置抽氣設備，在沖水的當下，利用抽氣設備將水霧抽出，以降低水霧的影響，但是整體而言，效果並不是很好。

有鑑於此，如何提供一種能解決前述問題，最大程度地避免水霧產生的低水霧沖水裝置，便成為本發明欲改進的目的。

本發明目的在於提供一種能防止水霧產生，避免影響製程的低水霧沖水裝置。

為解決上述問題及達到本發明的目的，本發明的技術手段，是這樣實現的，為一種低水霧沖水裝置，能配合濕製程設備應用，其特徵在於：所述低水霧沖水裝置(100)，包括有一定位單元(1)、一沖水單元(2)、 以及一風刀帽(3)；所述定位單元(1)，其一端能與濕製程設備對應側連接，且具有一能對底側面輸出氣體的導氣通道(11)；所述沖水單元(2)，其垂直設置於該定位單元(1)自由端處，具有一位於底端的出水口(21)、及一位於頂端的入水口(22)；所述風刀帽(3)，其包括有一環狀殼體(31)、一開槽(32)、至少兩個內出氣縫(33)、及至少兩個外出氣縫(34)；所述環狀殼體(31)，其套設於該出水口(21)外；所述開槽(32)，其設於該環狀殼體(31)垂直壁面頂端，並能對應於該導氣通道(11)；所述內出氣縫(33)，其環設於該環狀殼體(31)垂直壁面底端內側，各自與該開槽(32)相連通，且各個該內出氣縫(33)相互間形成有一第一間距(331)；所述外出氣縫(34)，其環設於該環狀殼體(31)垂直壁面底端外側，各自與該開槽(32)相連通，且各個該外出氣縫(34)相互間形成有一第二間距(341)，另與該內出氣縫(33)間形成有一間隔(342)，而各個該外出氣縫(34)皆還與一個該第一間距(331)相對應。

更優選的是，所述導氣通道(11)，其還呈T字型設置，並包含有一主通道(111)、及一出氣通道(112)，該主通道(111)水平穿設於該定位單元(1)固定端處，該出氣通道(112)垂直設於該主通道(111)中央底側，連通至該定位單元(1)底側面。

更優選的是，所述沖水單元(2)，其還包括有一反射體(23)、及兩連接桿(24)，該反射體(23)間隔設於該出水口(21)處，該連接桿(24)分別設於該反射體(23)兩側，且一端往斜上方連接至該出水口(21)處邊緣。

更優選的是，所述反射體(23)，其頂端為平面，而底端為呈球狀面設置。

本發明的有益效果為：

第一點：本發明低水霧沖水裝置(100)，通過定位單元(1)、沖水單元(2)及風刀帽(3)的配合應用，利用風刀帽(3)產生高壓風刀以形成風牆，能將沖水單元(2)沖水時產生的水霧，限制在高壓風牆內側，解決水霧彌漫的問題。

第二點：本發明低水霧沖水裝置(100)，將沖水和風牆的功能整合在一起，能有效配合濕製程設備，不但整體而言，非常耐用可靠，最重要的是，還不會增加過多的成本，而且不管是新舊機台都能配合應用。

1‧‧‧定位單元

11‧‧‧導氣通道

111‧‧‧主通道

112‧‧‧出氣通道

2‧‧‧沖水單元

21‧‧‧出水口

22‧‧‧入水口

23‧‧‧反射體

24‧‧‧連接桿

3‧‧‧風刀帽

31‧‧‧環狀殼體

32‧‧‧開槽

33‧‧‧內出氣縫

331‧‧‧第一間距

34‧‧‧外出氣縫

341‧‧‧第二間距

342‧‧‧間隔

100‧‧‧低水霧沖水裝置

A‧‧‧沖洗水

B‧‧‧氣體

C‧‧‧水霧

第1圖：本發明的立體示意圖。

第2圖：本發明的分解示意圖。

第3圖：本發明中風刀帽的底視示意圖。

第4圖：本發明的立體實施示意圖。

第5圖：本發明的剖面實施示意圖。

為能進一步瞭解本發明的特徵、技術手段以及所達到的具體目的、功能，下面結合附圖與具體實施方式對本發明作進一步詳細描述。

如第1圖至第5圖所示，圖中揭示出，一種低水霧沖水裝置，能配合濕製程設備應用，其特徵在於：所述低水霧沖水裝置(100)，包括有一定位單元(1)、一沖水單元(2)、以及一風刀帽(3)；所述定位單元(1)，其一端能與濕製程設備對應側連接，且具有一能對底側面輸出氣體的導氣通道(11)；所述沖水單元(2)，其垂直設置於該定位單元(1)自由端處，具有一位 於底端的出水口(21)、及一位於頂端的入水口(22)；所述風刀帽(3)，其包括有一環狀殼體(31)、一開槽(32)、至少兩個內出氣縫(33)、及至少兩個外出氣縫(34)；所述環狀殼體(31)，其套設於該出水口(21)外；所述開槽(32)，其設於該環狀殼體(31)垂直壁面頂端，並能對應於該導氣通道(11)；所述內出氣縫(33)，其環設於該環狀殼體(31)垂直壁面底端內側，各自與該開槽(32)相連通，且各個該內出氣縫(33)相互間形成有一第一間距(331)；所述外出氣縫(34)，其環設於該環狀殼體(31)垂直壁面底端外側，各自與該開槽(32)相連通，且各個該外出氣縫(34)相互間形成有一第二間距(341)，另與該內出氣縫(33)間形成有一間隔(342)，而各個該外出氣縫(34)皆還與一個該第一間距(331)相對應。

其中，通過定位單元(1)、沖水單元(2)及風刀帽(3)的配合應用，構成本發明低水霧沖水裝置(100)，將沖水和風牆的功能整合在一起，能有效配合濕製程設備，利用風刀帽(3)產生高壓風刀以形成風牆，限制住沖水單元(2)沖水時產生的水霧，一舉解決水霧彌漫的問題，整體而言，非常耐用可靠、成本低，而且不管是新舊機台都能配合應用。

其次，利用內出氣縫(33)、外出氣縫(34)的內外交錯結構設計，水霧難以外洩，避免影響製程，而另一方面，第一間距(331)、第二間距(341)的設置，除了讓內出氣縫(33)、外出氣縫(34)相互間能配合之外，還能有效避免內出氣縫(33)、外出氣縫(34)所輸出的氣體(B)，發生流速不足的問題，而間隔(342)的設置，能讓相鄰內出氣縫(33)、外出氣縫(34)所輸出的氣體(B)之間，在不干擾的狀況下，將周圍空氣帶走，形成低壓區，讓內部的水霧(C)，更不容易外洩。

如第4圖和第5圖所示，圖中揭示出，氣體(B)能通過主通道(111)、出氣通道(112)的順序，以高流速進入開槽(32)中，再經過外出氣縫(34)和內出氣縫(33)，更加快速地輸出於外，產生高壓風刀，風牆得以形成，同時，沖洗水(A)能通過入水口(22)進入沖水單元(2)，由出水口(21)輸出於外，達到沖洗的效果，此間所產生的水霧(C)，會被由氣體(B)所構成的風牆所限制住，不再大幅度地瀰漫在濕製程設備中。

請參閱第2圖、第4圖、及第5圖，所述導氣通道(11)，其還呈T字型設置，並包含有一主通道(111)、及一出氣通道(112)，該主通道(111)水平穿設於該定位單元(1)固定端處，該出氣通道(112)垂直設於該主通道(111)中央底側，連通至該定位單元(1)底側面。

其中，通過主通道(111)及出氣通道(112)的配合，應用T字型的結構，以主通道(111)將兩股氣體(B)，匯集至出氣通道(112)後輸出，獲得更大的流速，快速流入風刀帽(3)中，以即時的產生高壓風刀，形成風牆，將水霧(C)限制住。

請參閱第2圖，所述沖水單元(2)，其還包括有一反射體(23)、及兩連接桿(24)，該反射體(23)間隔設於該出水口(21)處，該連接桿(24)分別設於該反射體(23)兩側，且一端往斜上方連接至該出水口(21)處邊緣。

其中，通過反射體(23)的設置，在不影響沖洗效率的前提之下，避免直衝沖洗面，對沖洗面產生過大壓力，對機台或產品產生不良的影響。

其次，通過連接桿(24)的應用，能在不影響沖洗的大前題下，讓反射體(23)獲得一穩固的定位。

請參閱第2圖及第5圖，所述反射體(23)，其頂端為平面，而底端為呈球狀面設置。

其中，利用頂端為平面、底端為呈球狀面的反射體(23)應用，更進一步提高沖洗水(A)的沖洗效率，還能避免產生亂濺射的現象，導致水霧無法得到良好的控制。

以上依據圖式所示的實施例詳細說明本發明的構造、特徵及作用效果；惟以上所述僅為本發明之較佳實施例，但本發明不以圖面所示限定實施範圍，因此舉凡與本發明意旨相符的修飾性變化，只要在均等效果的範圍內都應涵屬於本發明專利範圍內。

Claims (4)

1. 一種低水霧沖水裝置，能配合濕製程設備應用，其特徵在於：所述低水霧沖水裝置(100)，包括有一定位單元(1)、一沖水單元(2)、以及一風刀帽(3)；所述定位單元(1)，其一端能與濕製程設備對應側連接，且具有一能對底側面輸出氣體的導氣通道(11)；所述沖水單元(2)，其垂直設置於該定位單元(1)自由端處，具有一位於底端的出水口(21)、及一位於頂端的入水口(22)；所述風刀帽(3)，其包括有一環狀殼體(31)、一開槽(32)、至少兩個內出氣縫(33)、及至少兩個外出氣縫(34)；所述環狀殼體(31)，其套設於該出水口(21)外；所述開槽(32)，其設於該環狀殼體(31)垂直壁面頂端，並能對應於該導氣通道(11)；所述內出氣縫(33)，其環設於該環狀殼體(31)垂直壁面底端內側，各自與該開槽(32)相連通，且各個該內出氣縫(33)相互間形成有一第一間距(331)；所述外出氣縫(34)，其環設於該環狀殼體(31)垂直壁面底端外側，各自與該開槽(32)相連通，且各個該外出氣縫(34)相互間形成有一第二間距(341)，另與該內出氣縫(33)間形成有一間隔(342)，而各個該外出氣縫(34)皆還與一個該第一間距(331)相對應。
2. 如請求項1所述的低水霧沖水裝置，其中：所述導氣通道(11)，其還呈T字型設置，並包含有一主通道(111)、及一出氣通道(112)，該主通道(111)水平穿設於該定位單元(1)固定端處，該出氣通道(112)垂直設於該主通道(111)中央底側，連通至該定位單元(1)底側面。
3. 如請求項2所述的低水霧沖水裝置，其中：所述沖水單元(2)，其還包括有一反射體(23)、及兩連接桿(24)，該反射體(23)間隔設於該出水口(21)處，該連接桿(24)分別設於該反射體(23)兩側，且一端往斜上方連接至該出水口(21)處邊緣。
4. 如請求項3所述的低水霧沖水裝置，其中：所述反射體(23)，其頂端為平面，而底端為呈球狀面設置。