CN110564304B - 一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法，所述高铝含碱玻璃抛光液包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm。本发明解决了现有抛光液用于高铝含碱玻璃抛光导致二次划伤、抛光粉残留在玻璃表面的问题。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃产品表面抛光技术领域，具体涉及一种高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法。
背景技术
玻璃抛光是指在特定的抛光机台上，用合适的抛光盘、抛光布、抛光刷等硬件设备设施，同时使用合适的抛光液，对玻璃制品进行表面修整以去除微细划伤、凸凹点、皱褶、微小异物的一种作业。
目前市场上的抛光液一类是以氧化锆、氧化铁为抛光主体材料，适合软质玻璃制品，比如各种镜头玻璃等。另一类是以稀土为主体抛光材料的无碱玻璃抛光液，适合于无碱的液晶屏玻璃(TFT-LCD玻璃)的减薄和表面修整。
若采用上述抛光液对高铝含碱玻璃进行抛光作业时，会由于高铝含碱玻璃材质“硬”而易产生二次微细划伤；或者由于抛光量不足，而无法去除玻璃原有划伤等缺陷，或者由于高铝含碱玻璃含碱出现“粘附”现象，导致清洗时有抛光粉残留在玻璃表面形成“白霜”，不仅使玻璃的透光率下降而且会对后序加工带来不良影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高铝含碱玻璃抛光液，解决现有抛光液用于高铝含碱玻璃抛光导致二次划伤、抛光粉残留在玻璃表面的问题。
此外，本发明还提供上述高铝含碱玻璃抛光液的制备方法。
本发明通过下述技术方案实现：
一种高铝含碱玻璃抛光液，包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：
D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm。
高铝含碱玻璃与其它玻璃不同，其材质“硬”而易产生二次微细划伤，且其含碱玻璃含碱出现“粘附”现象，导致清洗时有抛光粉残留在玻璃表面形成“白霜”。
因此，采用传统的以氧化锆、氧化铁为抛光主体的抛光液用于高铝含碱玻璃会导致高铝含碱玻璃的二次划伤，而现有的以稀土为主体抛光材料的无碱玻璃抛光液用于高铝含碱玻璃时会导致抛光粉残留在玻璃表面，不易清洗。
本发明针对现有抛光液用于高铝含碱玻璃的存在的缺陷，设计出一种新的适用于高铝含碱玻璃的抛光液。
申请人在实验中发现：
导致高铝含碱玻璃的二次划伤的主要因素包括抛光主体材料的选择、材料的颗粒尺寸选择。稀土氧化物具有硬度略高于玻璃、颗粒形状圆润的特点，其中，氧化铈具有颗粒硬度相对高可实现反复使用的特点，将其用于抛光主体材料硬度适中、通过加工过程控制易于实现理想的粒度分布，尤其是当氧化铈与其它稀土氧化物结合使用时，效果明显优于单独氧化铈，所述其它稀土氧化物优选为氧化镧、氧化镨。同时，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm，当D0＞10μm、D10＞4μm时，由于颗粒过粗易对被抛光的高铝含碱玻璃产生二次细划伤；当D50超出0.8～2μm范围、D90＜0.5μm时，易出现抛光量不足引起效率低下、或抛光量过强导致二次细划伤及被抛光高铝含碱玻璃产品出现表面粗糙度超标，同时会出现抛光液泥浆式沉淀不易松动等不良情况，并且稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于55％，能够将高铝含碱玻璃的抛光量控制在单面为0.006～0.010μm，却不会导致高铝含碱玻璃的二次划伤。
稀土氧化物的粒径的不易过大，过大会导致高铝含碱玻璃的二次划伤，过小会影响抛光效果，申请通过大量的实验确定了，在采用氧化铈与其它任意一种或多种稀土氧化物作为抛光主体材料时，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm，在满足抛光量的前提下，不会导致高铝含碱玻璃的二次划伤，同时可降低材料成本。
同时，申请人通过试验发现：
将某几种表面活性剂添加到含有稀土抛光粉的抛光液中，一方面，使得抛光液在使用过程中不产生泡沫或少产生泡沫不造成回液滤网的堵塞或从滤网处溢出，另一方面使用后被抛光产品上所残留的抛光粉能轻易地被清洗去除。
本发明所述抛光液能够有效去除高铝含碱玻璃表面的微小凸凹点、微细划伤、褶皱(热加工造成)等缺陷，抛光去除厚度可达到0.006～0.010μm，同时不会对高铝含碱玻璃造成二次细划伤，玻璃表面平整度可达Ra≤0.008，同时抛光清洗后高铝含碱玻璃表面不会残留抛光粉。
在本发明中，稀土抛光粉的粒度分布评价采用通用的粉体材料粒度测试设备Malvetn Instruments或Beckman Coulter Count，以Beckman Coulter Count。
总稀土含量(TREO)，以及氧化铈占总稀土的含量(CeO2/TREO)的测试可采用湿式化学法。
进一步地，D50为1～1.5μm。
进一步地，高铝含碱玻璃抛光液包括以下重量百分比组分：
稀土抛光粉48％～65％、表面活性剂0.5％～3％、增强剂1％～6％，余量为水。
将高铝含碱玻璃抛光液的组分设置为上述比例时，能够很好满足高铝含碱玻璃抛光液的抛光效果以及避免二次划伤。
进一步地，表面活性剂与水的重量比为0.01～0.10。
申请人通过试验发现：将表面活性剂与水的重量比设置为0.01～0.10，能够更好地实现被抛光产品上所残留的抛光液能轻易地被清洗去除的效果。
进一步地，表面活性剂至少包括十二烷基磺酸钠、聚乙烯醇丙烯醚C-201、聚丙烯共聚物、聚氧乙烯醚胺物中的一种；所述增强剂至少包括醋酸锌、硫酸锌、碳酸钠、碳酸钾中的一种。
进一步地，高铝含碱玻璃抛光液还包括沉淀疏松剂1％～6％。
现有的抛光液(包括以氧化锆、氧化铁为抛光主体材料的抛光液、以及以稀土为主体抛光材料的无碱玻璃抛光液)，在放置72小时以上时，会产生淤泥式沉淀堆积于容器底部，无法搅起导致抛光液浓度下降而影响使用。
本发明通过在高铝含碱玻璃抛光液中添加沉淀疏松剂，能够确保高铝含碱玻璃抛光液，在长期放置有沉淀产生的情况下，能被完全摇动起来而不影响正常使用。
进一步地，稀土抛光粉的五十分之一与沉淀疏松剂的重量比为0.18～1.30。
将稀土抛光粉和沉淀疏松剂按照上述比例设置，具有最佳效果。
进一步地，沉淀疏松剂至少包括乙二醇、丙三醇、聚乙二醇200、聚乙二醇400中的一种。
进一步地，高铝含碱玻璃抛光液还包括酸碱度调节剂，所述酸碱度调节剂将高铝含碱玻璃抛光液的pH值控制在8～12。
所述酸碱度调节剂可采用氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵中的一种。
稀土抛光粉自身呈酸性，对被抛光的高铝高钠玻璃表面有一定的活化作用，此作用的结果会使得抛光后残留于玻璃表面的抛光粉不易于清洗除去，把抛光液调成弱碱性时(pH在8～12)，就解决了这一问题。
一种高铝含碱玻璃抛光液的制备方法，包括以下步骤：
1)、按配方分别称量各个组分和水；
2)、将除稀土抛光粉之外的其它组分加入水中，溶解搅拌均匀；
3)、向步骤2)获得的溶液中加入稀土抛光粉，充分搅拌均匀；
4)、调节步骤3)获得溶液的pH值达到8～12。
本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
1、本发明所述抛光液能够有效去除高铝含碱玻璃表面的微小凸凹点、微细划伤、褶皱(热加工造成)等缺陷，抛光去除厚度可达到0.006～0.010μm，同时不会对高铝含碱玻璃造成二次细划伤，玻璃表面平整度可达Ra≤0.008。
2、本发明通过在高铝含碱玻璃抛光液中添加沉淀疏松剂，能够确保高铝含碱玻璃抛光液，在长期放置有沉淀产生的情况下，能被完全摇动起来而不影响正常使用。
3、本发明通过在高铝含碱玻璃抛光液中添加酸碱度调节剂，中和稀土抛光粉自身的酸性，避免其对玻璃表面的活化而吸附残留抛光粉，使得被抛光产品易于清洗洁净。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。
实施例1：
一种高铝含碱玻璃抛光液，以下重量百分比组分组成：
稀土抛光粉65％、十二烷基磺酸钠2％、醋酸锌5％，丙三醇1％，余量为水；其中，所述稀土抛光粉为氧化铈和氧化镧的混合物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量为93.4％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为65.6％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为8.1μm、D10为2.5μm、D50为1.4μm、D90为0.8μm，所述高铝含碱玻璃抛光液采用氢氧化钠调节pH值为8。
本实施例中，十二烷基磺酸钠与水的比例为0.07，(稀土抛光粉/50与沉淀剂之比为1.30。
实施例2：
一种高铝含碱玻璃抛光液，以下重量百分比组分组成：
稀土抛光粉48％、聚乙烯醇丙烯醚C-201 0.5％、硫酸锌1.5％，乙二醇1.3％，聚乙二醇200 0.9％，余量为水；其中，所述稀土抛光粉为氧化铈和氧化镨的混合物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量为91.2％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为62.4％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为7.2μm、D10为3.1μm、D50为0.8μm、D90为0.5μm，所述高铝含碱玻璃抛光液采用氢氧化钾调节pH值为10。
本实施例中，表面活性剂与水之比的比例为0.01，(稀土抛光粉/50与沉淀疏松剂之比为0.44。
实施例3：
一种高铝含碱玻璃抛光液，以下重量百分比组分组成：
稀土抛光粉55％、聚丙烯共聚物3％、硫酸锌6％，乙二醇6％，余量为水；其中，所述稀土抛光粉为氧化铈和氧化镧的混合物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量为93.5％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为61.8％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为10.0μm、D10为4.0μm、D50为2.0μm、D90为2.0μm，所述高铝含碱玻璃抛光液采用氢氧化钠调节pH值为11。
本实施例中，表面活性剂与水之比的比例为0.10；(稀土抛光粉/50与沉淀疏松剂之比为0.18。
实施例4：
一种高铝含碱玻璃抛光液，以下重量百分比组分组成：
稀土抛光粉60％、十二烷基磺酸钠0.1％、聚氧乙烯醚胺物0.5％、碳酸钾4％，丙三醇1.4％，余量为水，其中，所述稀土抛光粉为氧化铈和氧化镧的混合物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量为92.3％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为63.2％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为6.0μm、D10为2.6μm、D50为1.0μm、D90为0.7μm，所述高铝含碱玻璃抛光液采用氢氧化钠调节pH值为12。
本实施例中，表面活性剂与水之比的比例为0.02；(稀土抛光粉/50与沉淀疏松剂之比为0.86。
实施例5：
一种高铝含碱玻璃抛光液，以下重量百分比组分组成：
稀土抛光粉50％、聚氧乙烯醚胺物1.2％、硫酸锌1％，丙三醇3％、聚乙二醇4001％，余量为水，其中，所述稀土抛光粉为氧化铈和氧化镧的混合物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量为94.3％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为62.2％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为6.7μm、D10为2.1μm、D50为1.8μm、D90为0.8μm，所述高铝含碱玻璃抛光液采用氢氧化钠调节pH值为9。
本实施例中，表面活性剂与水之比的比例为0.03；(稀土抛光粉/50与沉淀疏松剂之比为0.25。
将实施例1-实施例5所制备的抛光液用于高铝含碱玻璃抛光，使用结果如表1所示：
表1
对比例1：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为10.2μm、D10为6.2μm、D50为2.1μm、D90为0.6μm。
对比例2：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为3.2μm、D10为2.4μm、D50为0.7μm、D90为0.4μm。
将对比例1-对比例2所制备的抛光液用于高铝含碱玻璃抛光，使用结果如表2所示：
表2
注：1.二次细划伤，为抛光粉造成，划伤的头尾重中间浅；
2.原有细划伤，头尾浅而中间深，被抛光后整体同步变浅、变短，但头尾浅而中间深的形态不会变。
对比例3：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉中的总稀土含量为85.3％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为65.6％。
对比例4：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉中的总稀土含量为86.4％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为51.2％。
对比例5：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉中的总稀土含量为92.4％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为52.6％。
将对比例3-对比例5所制备的抛光液用于高铝含碱玻璃抛光，使用结果如表3所示：
表3
对比例6：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉为氧化镨和氧化镧的混合物，所述稀土抛光粉中的总稀土含量为93.5％。
对比例7：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉为氧化铈，所述稀土抛光粉中的总稀土含量为98.5％。
对比例8：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述稀土抛光粉中的总稀土含量为85.3％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为65.6％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：D0为14.6μm、D10为5.1μm、D50为3.1μm、D90为0.7μm。
将对比例6-对比例8所制备的抛光液用于高铝含碱玻璃抛光，使用结果如表4所示：
表4
对比例9：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述高铝含碱玻璃抛光液的pH值为6。
对比例10：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
所述高铝含碱玻璃抛光液的pH值为7。
将对比例9-对比例10所制备的抛光液用于高铝含碱玻璃抛光，使用结果如表5所示：
表5
对比例11：
稀土抛光粉含量为48％～65％，表面活性剂含量为0.5％～3％，抛光增强剂为1％～6％，沉淀疏松剂为1％～6％，
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
稀土抛光粉50％、聚丙烯共聚物0.3％、硫酸锌7％，乙二醇8％，余量为水。
本对比例中，表面活性剂与水之比的比例为0.009；(稀土抛光粉/50)与沉淀疏松剂之比为0.13。
对比例12：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
稀土抛光粉55％、聚丙烯共聚物5％、硫酸锌0.4％，乙二醇0.5％，余量为水。
本对比例中，表面活性剂与水之比的比例为0.13；(稀土抛光粉/50)与沉淀疏松剂之比为2.20。
对比例13：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
稀土抛光粉46％、聚丙烯共聚物2％、硫酸锌3％，乙二醇3％，余量为水。
本对比例中，表面活性剂与水之比的比例为0.04；(稀土抛光粉/50)与沉淀疏松剂之比为0.31。
对比例14：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
稀土抛光粉68％、聚丙烯共聚物1％、硫酸锌2％，乙二醇3％，余量为水。
本对比例中，表面活性剂与水之比的比例为0.04；(稀土抛光粉/50)与沉淀疏松剂之比为0.45。
对比例15：
本对比例基于实施例3，与实施例3的区别在于：
不含聚丙烯共聚物。
本对比例中，表面活性剂与水之比的比例为0；(稀土抛光粉/50)与沉淀疏松剂之比为0.18。
将对比例11-对比例15所制备的抛光液用于高铝含碱玻璃抛光，使用结果如表6所示：
表6
以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于88％，其中，氧化铈在总稀土中的含量为61.8-65.6％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：
D0≤10μm、D10≤4μm、D50为0.8～2μm、D90≥0.5μm；
所述高铝含碱玻璃抛光液包括以下重量百分比组分：
稀土抛光粉48％～65％、表面活性剂0.5％～3％、增强剂1％～6％，余量为水；
所述表面活性剂至少包括十二烷基磺酸钠、聚乙烯醇丙烯醚C-201、聚丙烯共聚物、聚氧乙烯醚胺物中的一种；所述增强剂至少包括醋酸锌、硫酸锌、碳酸钠、碳酸钾中的一种；
所述高铝含碱玻璃抛光液还包括酸碱度调节剂，所述酸碱度调节剂将高铝含碱玻璃抛光液的pH值控制在8～12。
2.根据权利要求1所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，D50为1～1.5μm。
3.根据权利要求1所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述表面活性剂与水的重量比为0.01～0.10。
4.根据权利要求1所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述高铝含碱玻璃抛光液还包括沉淀疏松剂1％～6％。
5.根据权利要求4所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述稀土抛光粉的五十分之一与沉淀疏松剂的重量比为0.18～1.30。
6.根据权利要求4或5所述的一种高铝含碱玻璃抛光液，其特征在于，所述沉淀疏松剂至少包括乙二醇、丙三醇、聚乙二醇200、聚乙二醇400中的一种。
7.一种如权利要求1-6任一项所述高铝含碱玻璃抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)、按配方分别称量各个组分和水；
2)、将除稀土抛光粉之外的其它组分加入水中，溶解搅拌均匀；
3)、向步骤2)获得的溶液中加入稀土抛光粉，充分搅拌均匀；
4)、调节步骤3)获得溶液的pH值达到8～12。
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| CN108329842A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-07-27 | 东旭科技集团有限公司 | 抛光液组合物及其制备方法和玻璃抛光方法 |
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|---|---|---|---|---|
| CN101899264A (zh) * | 2009-05-25 | 2010-12-01 | 甘肃稀土新材料股份有限公司 | 一种稀土抛光粉及其制造方法 |
| WO2012042960A1 (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | 三井金属鉱業株式会社 | セリウム系研摩材 |
| CN108329842A (zh) * | 2018-01-22 | 2018-07-27 | 东旭科技集团有限公司 | 抛光液组合物及其制备方法和玻璃抛光方法 |
| CN109135580A (zh) * | 2018-10-25 | 2019-01-04 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种玻璃用抛光液及其制备方法 |
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