CN110531559A - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置。包括：衬底基板、第一金属层、层间介质层、第二金属层、有机平坦化层和第三金属层；第一金属层在显示区形成多条扫描线，在扇出区未形成数据连接引线；第二金属层在显示区形成多条数据线，在扇出区形成多条数据连接引线；第三金属层在扇出区形成多条数据连接引线；其中，数据连接引线临近显示区的一端与数据线一一对应电连接；相邻两条数据连接引线位于不同层，且在衬底基板上的垂直投影至少部分重合。本发明实施例提供的技术方案可以减小相邻两条数据连接引线上的负载差异，同时，还可以缩小扇出区的高度。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器和有机发光显示器成为显示领域的两大主流产品，与此同时，消费者对显示器的性能要求也在不断提升。
显示器通常包括显示区和围绕显示区的边框区，显示区包括相互交叉的多条扫描线和多条数据线，多条扫描线和多条数据线交叉限定多个子像素单元；边框区包括下边框区，下边框区包括多条数据连接引线，数据连接引线用于电连接驱动芯片和数据线，以将驱动芯片输出的信号传输至数据线上。现有技术中，数据连接引线通常位于第一金属层(扫描线所在膜层)和第二金属层(源漏极所在膜层)，其中，相邻两条数据连接引线之间的耦合电容较大，导致相邻两条数据连接引线上的负载差异较大，影响显示画面的质量。
发明内容
本发明提供一种阵列基板、显示面板及显示装置，以减小相邻两条数据连接引线上的负载差异以及缩小扇出区的高度。
第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：显示区和扇出区；还包括：
衬底基板，以及位于衬底基板一侧的第一金属层；第一金属层在显示区形成多条扫描线，在扇出区未形成数据连接引线；
层间介质层，位于第一金属层背离衬底基板的一侧；
第二金属层，位于层间介质层背离衬底基板的一侧；第二金属层在显示区形成多条数据线，在扇出区形成多条数据连接引线；
有机平坦化层，位于第二金属层背离衬底基板的一侧；
第三金属层，位于有机平坦化层背离衬底基板的一侧；第三金属层在扇出区形成多条数据连接引线；
其中，数据连接引线临近显示区的一端与数据线一一对应电连接；相邻两条数据连接引线位于不同层，且在衬底基板上的垂直投影至少部分重合。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括本发明任意实施例所述的阵列基板。
第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明任意实施例所述的显示面板。
本发明实施例提供的阵列基板，通过将数据连接引线设置在第二金属层和第三金属层，且第二金属层和第三金属层之间设置有有机平坦化层，相邻两条数据连接引线位于不同层，使得沿垂直于衬底基板所在平面方向，相邻两条数据连接引线之间由厚度较厚的有机平坦化层间隔，从而使得相邻两条数据连接引线之间的耦合电容较小，进而可以减小相邻两条数据连接引线上的负载差异，有利于提高显示画面的质量。此外，设置相邻两条数据连接引线在衬底基板上的垂直投影至少部分重合，有利于减小扇出区的高度。
附图说明
图1是现有技术提供的一种阵列基板的结构示意图；
图2是图1中沿AA’方向的剖面结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；
图4是图3中沿BB’方向的剖面结构示意图；
图5是本发明实施例提供的一种阵列基板中数据连接引线的排布对比示意图；
图6是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；
图7是图6中的数据连接引线121A和数据连接引线121B的错开排布示意图；
图8是图6中沿CC’方向的剖面结构示意图；
图9是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；
图10是图9中的触控连接引线123A和数据连接引线121C的排布示意图；
图11是图9中沿DD’方向的剖面结构示意图；
图12是本发明实施例提供的一种数据连接引线的负载测试结果图；
图13是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图14是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1是现有技术提供的一种阵列基板的结构示意图。图2是图1中沿AA’方向的剖面结构示意图。参见图1和图2，该显示面板包括显示区11’和扇出区12’；还包括：衬底基板310’，以及位于衬底基板310’一侧的第一金属层210’；第一金属层210’在显示区11’形成多条扫描线111’，在扇出区12形成多条数据连接引线121’；层间介质层320’，位于第一金属层210’背离衬底基板310’的一侧；第二金属层220’，位于层间介质层320’背离衬底基板310’的一侧；第二金属层220’在显示区11’形成多条数据线112’，在扇出区12’形成多条数据连接引线121’；其中，数据连接引线121’临近显示区11’的一端与数据线112’一一对应电连接；相邻两条数据连接引线121’位于不同层，且在衬底基板310’上的垂直投影不交叠。
研究发现，每条数据连接引线121’上的负载为R×C，其中，R为该条数据连接引线121’的电阻，C为相邻两条数据连接引线121’之间的耦合电容。申请人发现，沿垂直于衬底基板310’所在平面层的方向，层间介质层320’的厚度较薄，通常在左右，导致相邻两条数据连接引线121’之间的耦合电容较大。如此，即使相邻两条数据连接引线121’的电阻相等，由于相邻两条数据连接引线121’之间的耦合电容较大，还是会引起相邻两条数据连接引线121’上的负载差异较大，进而影响显示画面的质量。此外，相邻两条数据连接引线121’在衬底基板310’上的垂直投影不交叠，使得相邻两条数据连接引线121’之间的间距d’至少为零。可以理解的是，相邻两条数据连接引线121’之间的间距d’越大，数据连接引线121’所占空间的高度H’越大，因此，相邻两条数据连接引线121’在衬底基板310’上的垂直投影不交叠的设置方式不利于减小数据连接引线121’所占空间的高度H’，不利于实现窄边框设计。
有鉴于此，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：显示区和扇出区；还包括：衬底基板，以及位于衬底基板一侧的第一金属层；第一金属层在显示区形成多条扫描线，在扇出区未形成数据连接引线；
层间介质层，位于第一金属层背离衬底基板的一侧；
第二金属层，位于层间介质层背离衬底基板的一侧；第二金属层在显示区形成多条数据线，在扇出区形成多条数据连接引线；
有机平坦化层，位于第二金属层背离衬底基板的一侧；
第三金属层，位于有机平坦化层背离衬底基板的一侧；第三金属层在扇出区形成多条数据连接引线；
其中，数据连接引线临近显示区的一端与数据线一一对应电连接；相邻两条数据连接引线位于不同层，且在衬底基板上的垂直投影至少部分重合。
以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明实施例保护的范围。
图3是本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图。图4是图3中沿BB’方向的剖面结构示意图。参见图3和图4，该显示面板包括：显示区11和扇出区12；还包括：衬底基板310，以及位于衬底基板310一侧的第一金属层；第一金属层在显示区11形成多条扫描线111，在扇出区12未形成数据连接引线121；层间介质层320，位于第一金属层背离衬底基板310的一侧；第二金属层220，位于层间介质层320背离衬底基板310的一侧；第二金属层220在显示区11形成多条数据线112，在扇出区12形成多条数据连接引线121；有机平坦化层330，位于第二金属层220背离衬底基板310的一侧；第三金属层230，位于有机平坦化层330背离衬底基板310的一侧；第三金属层230在扇出区12形成多条数据连接引线121；其中，数据连接引线121临近显示区11的一端与数据线112一一对应电连接；相邻两条数据连接引线121位于不同层，且在衬底基板310上的垂直投影至少部分重合。
具体的，显示面板可以包括显示区11和围绕显示区11的非显示区13，非显示区13包括位于显示区11第一侧的第一非显示区14，第一非显示区14包括扇出区12。显示区11指的是能够显示图像的区域；非显示区13指的是不能够显示图像的图区；第一非显示区14指的是用来设置扇出区12的区域，第一非显示区14还可以设置有驱动芯片、静电防护电路、点灯测试电路以及其它本领域可知的电路或者结构，此处不作限定；扇出区12指的是用于设置数据连接引线121的区域，扇出区12还可以设置其它本领域可知的连接引线，此处不作限定。
具体的，在显示区11，多条扫描线111和多条数据线112相互交叉限定多个子像素单元114，扫描线111可用于传输扫描信号以控制子像素单元114打开，数据线112可用于将显示数据信号传输至子像素单元114。每个子像素单元114包括至少一个薄膜晶体管，薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极。可选的，薄膜晶体管的栅极可以位于第一金属层，薄膜晶体管的源极和漏极可以位于第二金属层220。具体的，相对于现有技术中的衬底基板，第三金属层230可以为新增金属膜层，如此，可以灵活选取第三金属层230的材料，即可以灵活设置位于第三金属层230的数据连接引线121的电阻值；第三金属层230还可以为阵列基板中现有的某一金属膜层，例如，第三金属层230可以为阵列基板中形成有触控走线的金属膜层，也即是说，第三金属层230在显示区11形成有多条触控走线，在扇出区12形成有多条数据连接引线121。若阵列基板中包括位于有机平坦化层330背离衬底基板310一侧的触控引线层，可以将触控引线层复用为第三金属层230如此，可以使得阵列基板膜层设置关系简单，并且易于实现薄型化阵列基板设计要求。
具体的，可以设置相邻的两条数据连接引线121中，一条数据连接引线121位于第二金属层220，另一条数据连接引线121位于第三金属层230，以达到相邻两条数据连接引线121位于不同层的目的。此外，位于第三金属层230的数据连接引线121可以通过过孔与位于第二金属层220的数据线112连接，如图3所示。还可以通过其它本领域可知的方式使得相邻两条数据连接引线121位于不同层，此处不作限定。需要强调的是，本发明实施例中，仅在第二金属层220和第三金属层230设置数据连接引线121，并不在第一金属层210设置数据连接引线，也即是说，数据连接引线121仅设置在第二金属层220和第三金属层230，以使沿垂直于衬底基板310所在平面方向，相邻两条数据连接引线121之间均通过有机平坦化层330间隔。
可以理解的是，有机平坦化层330起平坦化的作用，能够将起伏不平的表面填平，以得到平坦表面，因此，沿垂直于衬底基板310所在平面的方向，有机平坦化层330的厚度较厚，通常远厚于层间介质层320的厚度。如此，相比现有技术中相邻两条数据连接引线121之间由层间介质层320间隔，设置相邻两条数据连接引线121之间由有机平坦化层330间隔，可以有效减小相邻两条数据连接引线121之间的耦合电容，进而可以降低相邻两条数据连接引线121之间的负载差异，有利于提高显示质量。
示例性的，图5是本发明实施例提供的一种阵列基板中数据连接引线的排布对比示意图。参见图5，数据连接引线121a和数据连接引线121c位于同一层，数据连接引线121b和数据连接引线121d位于同一层，且数据连接引线121a和数据连接引线121b位于不同层。并且，数据连接引线121a、数据连接引线121b、数据连接引线121c和数据连接引线121d在衬底基板310上的垂直投影相互无交叠。可以看到，数据连接引线121a、数据连接引线121b、数据连接引线121c和数据连接引线121d的斜走线段部分占用第一非显示区14的高度为H2。继续参见图5，数据连接引线121e和数据连接引线121g位于同一层，数据连接引线121f和数据连接引线121h位于同一层，且数据连接引线121e和数据连接引线121f在衬底基板310上的垂直投影部分重叠，数据连接引线121g和数据连接引线121h在衬底基板310上的垂直投影部分重叠。可以看到，数据连接引线121e、数据连接引线121f、数据连接引线121g和数据连接引线121h的斜走线段部分占用第一非显示区14的高度为H1，H1明显小于H2。具体来说，数据连接引线121e、数据连接引线121f、数据连接引线121g和数据连接引线121h是数据连接引线121a、数据连接引线121b、数据连接引线121c和数据连接引线121d的另一种排布方式，两种排布方式的差异在于相邻两条数据连接引线121在衬底基板310上的垂直投影之间是否有交叠。通过上述对比可知，在其它条件相同的情况下，相比于相邻两条数据连接引线121在衬底基板310上的垂直投影不交叠，相邻两条数据连接引线121在衬底基板310上的垂直投影至少部分交叠可以减小数据连接引线121占用第一非显示区14的高度，即可以减小扇出区12的高度H，有利于实现窄边框设计。
本发明实施例提供的阵列基板，通过将数据连接引线121设置在第二金属层220和第三金属层230，且第二金属层220和第三金属层230之间设置有有机平坦化层330，相邻两条数据连接引线121位于不同层，使得相邻两条数据连接引线121之间由厚度较厚的有机平坦化层330间隔，从而使得相邻两条数据连接引线121之间形成的耦合电容较小，进而可以减小相邻两条数据连接引线121上的负载差异，提高显示画面的质量。此外，设置相邻两条数据连接引线121在衬底基板310上的垂直投影至少部分重合，有利于减小扇出区12的高度。
图6是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图。图7是图6中的数据连接引线121A和数据连接引线121B的错开排布示意图。图8是图6中沿CC’方向的剖面结构示意图。参见图6-图8，该显示面板包括：显示区11和扇出区12；还包括：衬底基板310，以及位于衬底基板310一侧的第一金属层；第一金属层在显示区11形成多条扫描线111，在扇出区12未形成数据连接引线121；层间介质层320，位于第一金属层背离衬底基板310的一侧；第二金属层220，位于层间介质层320背离衬底基板310的一侧；第二金属层220在显示区11形成多条数据线112，在扇出区12形成多条数据连接引线121；有机平坦化层330，位于第二金属层220背离衬底基板310的一侧；第三金属层230，位于有机平坦化层330背离衬底基板310的一侧；第三金属层230在扇出区12形成多条数据连接引线121；其中，数据连接引线121临近显示区11的一端与数据线112一一对应电连接；相邻两条数据连接引线121位于不同层，且在衬底基板310上的垂直投影至少部分重合。可选的，每条数据连接引线121包括通过接触孔122相连接的第一走线段1211和第二走线段1212；第一走线段1211采用第二金属层220形成；第二走线段1212采用第三金属层230形成；沿多条数据连接引线121排列方向，第一走线段1211和第二走线段1212间隔排列。
具体的，参见图7，位于接触孔122靠近显示区11一侧的相邻两走线段位于不同层，即位于S1区域的相邻两走线段位于不同层。可以看到，在S1区域，数据连接引线121A包括第一走线段1211，数据连接引线121B包括第二走线段1212，第一走线段1211和第二走线段1212位于不同层。位于接触孔122远离显示区11一侧的相邻两走线段位于不同层，也即位于S2区域的相邻两走线段位于不同层，可以看到，在S2区域，数据连接引线121A包括第二走线段1212，数据连接引线121B包括第一走线段1211，第一走线段1211和第二走线段1212位于不同层。如此，可以达到相邻两条数据连接引线121位于不同层的目的。
可以理解的是，当第二金属层220的材料的电阻率和第三金属层230的材料的电阻率不同时，相比于整条数据连接走线位于同一层(即整条数据连接走线的材料相同)，将每条数据连接引线121分为第一走线段1211和第二走线段1212，每条数据连接引线121由两种材料形成可以减小相邻两条数据连接引线121之间的电阻差异，进而减小相邻两条数据连接引线121上的负载差异，提高显示画面质量。示例性的，假设相邻两条数据连接引线121的长度均为l，横截面积均为s，第二金属层220的材料的电阻率为ρ1，第三金属层230的电阻率为ρ2，其中，ρ2＞ρ1。那么，若相邻两条数据连接引线121中，一条数据连接引线121位于第二金属层220，另一条数据连接引线121位于第三金属层230，则该相邻两条数据连接引线121之间的电阻差为l×s×(ρ2-ρ1)；若相邻两条数据连接引线121中，每条数据连接引线121均包括第一走线段1211和第二走线段1212，且第一走线段1211的长度等于第二走线段1212的长度，则该相邻两条数据连接引线121之间的电阻差为零。
还需要说明的是，长走线容易吸引静电，将长度较长的数据连接引线121分为两段长度相对较短的第一走线段1211和第二走线段1212可以缓解数据连接引线121容易吸引静电的问题，降低在数据连接引线121上传输的信号受静电干扰的风险。
具体的，每条数据连接引线121中，第一走线段1211和第二走线段1212的长度比例本领域技术人员可根据实际情况设定。优选的，相邻两条数据连接引线121的电阻相等。具体可以通过设置第一走线段1211和第二走线段1212在数据连接引线121中的长度比例使相邻两条数据连接引线1211的电阻相等或者接近相等，如此，可以减小相邻两条数据连接引线121上的负载差异，使得信号在不同数据连接引线121上传输时的信号衰减和时延基本一致，有利于提高显示效果。
图9是本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。图10是图9中的触控连接引线123A和数据连接引线121C的排布示意图。图11是图9中沿DD’方向的剖面结构示意图。参见图9-图11，该显示面板包括：显示区11和扇出区12；还包括：衬底基板310，以及位于衬底基板310一侧的第一金属层210；第一金属层210在显示区11形成多条扫描线111，在扇出区12未形成数据连接引线121；层间介质层320，位于第一金属层210背离衬底基板310的一侧；第二金属层220，位于层间介质层320背离衬底基板310的一侧；第二金属层220在显示区11形成多条数据线112，在扇出区12形成多条数据连接引线121；有机平坦化层330，位于第二金属层220背离衬底基板310的一侧；第三金属层230，位于有机平坦化层330背离衬底基板310的一侧；第三金属层230在扇出区12形成多条数据连接引线121；其中，数据连接引线121临近显示区11的一端与数据线112一一对应电连接；相邻两条数据连接引线121位于不同层，且在衬底基板310上的垂直投影至少部分重合。可选的，第三金属层230在显示区11形成多条触控走线113。可选的，第一金属层210在扇出区12形成多条触控连接引线123，触控连接引线123与触控走线113一一对应电连接。
具体的，触控连接引线123可与扫描线111位于同一层，第一走线段1211可与数据线112位于同一层，第二走线段1212可与触控走线113位于同一层。触控连接引线123与扫描线111位于同一层时，二者可采用第一金属层210形成；第一走线段101和数据信号线112位于同一层时，二者可采用第二金属层220形成；第二走线段102与触控走线113位于同一层时，二者可采用第三金属层230形成。也就是说，触控连接引线123可以和扫描线111由同一道工艺形成，数据连接引线120中的第一走线段1211可以和数据线112由同一道工艺形成，数据连接引线120中的第二走线段1212可以和触控线113由同一道工艺形成。如此，可以节省工艺步骤。
具体的，继续参见图10，数据连接引线121包括直走线段和斜走线段，其中，数据连接引线121的直走线段和数据线的延伸方向平行，数据连接引线121的斜走线段与数据线的延伸方向具有夹角，每条数据连接引线121的斜走线段与数据线的延伸方向的夹角的具体值，本领域技术人员可根据实际情况设置。触控连接引线同理，不再赘述。可选的，沿数据连接引线121的排列方向，相邻的数据连接引线121和触控连接引线123满足如下关系：数据连接引线121的斜走线段与数据线的延伸方向的夹角和触控连接引线123的斜走线段与数据线的延伸方向的夹角的差值在预设范围内。这样设置的好处在于，沿垂直于衬底基板310所在平面方向，虽然触控连接引线123和数据连接引线121之间由厚度较薄的层间介质层320间隔，但是，由于数据连接引线121的斜走线段与数据线的延伸方向的夹角和触控连接引线123的斜走线段与数据线的延伸方向的夹角的差值在预设范围内，可以使得相邻的数据连接引线121和触控连接引线123之间的耦合电容比较小，甚至可以忽略不计。示例性的，如图10所示，数据连接引线121C与数据线的延伸方向具有夹角θ2，触控连接引线123A与数据线的延伸方向具有夹角θ1，θ2与θ1的差值在预设范围内。
在上述技术方案的基础上，可选的，第二金属层220以及第三金属层230的电阻率均小于第一金属层210的电阻率。这样设置的好处在于，相比于数据连接引线121位于第一金属层210和第二金属层220，有利于减小数据连接引线121的电阻，从而减小数据连接引线121上的负载，降低信号在数据连接引线121上传输时的信号衰减。
在上述技术方案的基础上，可选的，第一金属层210的材料包括钼，第二金属层220的材料包括钼铝钼以及第三金属层230的材料包括钛铝钛。
具体的，钼的方块电阻为钼铝钼的方块电阻为钛铝钛的方块电阻为可以看出，钛铝钛的方块电阻和钼铝钼的方块电阻远小于钼的方块电阻，相对于数据连接引线121设置在第一金属层210和第二金属层220，将数据连接引线121设置在第二金属层220和第三金属层230可以有效减小数据连接引线121的电阻，进而有效减小数据连接引线121的负载，降低信号在数据连接引线121上传输时的信号衰减。
在上述技术方案的基础上，可选的，第二金属层220的材料与第三金属层230的材料相同。这样设置的好处在于，使得相邻两条数据连接引线121之间的电阻差异仅来自于相邻两条数据连接引线121之间的体积差异，有利于减小相邻两条数据连接引线121上的负载差异，提高信号在不同数据连接引线121上传输时的信号衰减的一致性。
在上述技术方案的基础上，可选的，层间介质层320的厚度为D1，有机平坦化层330的厚度为D2；其中，2.6um≤D2≤2.8um。这样设置的好处在于，当有机平坦化层310的厚度在上述范围时，既可以使得沿垂直于衬底基板310所在平面方向，相邻两条数据连接引线121之间的间隔足够大，从而使得相邻两条数据连接引线121之间的耦合电容相对较小，又可以保证有机平坦化层330不会过厚，进而使得阵列基板可以满足薄型化设计要求。
为详细说明通过将数据连接引线设置在第二金属层和第三金属层能够减小相邻两条数据连接引线上的负载差异，对图6所示的阵列基板以及参考阵列基板中的数据连接引线的负载进行了测试，其中，参考阵列基板与图6所示的阵列基板之间的差异仅在于，参考阵列基板中数据连接引线位于第一金属层和第二金属层。图12是本发明实施例提供的一种数据连接引线的负载测试结果图。参见图12，1号线为参考阵列基板中的数据连接引线的负载曲线，2号线为图6所示的阵列基板中的数据连接引线的负载曲线，横坐标为数据连接引线的位次，纵坐标为数据连接引线的负载。这里所述的位次指的是，沿数据连接引线的排列方向，且沿扇出区的一个边界线指向另一个边界线的方向，第一条数据连接引线的位次可以记为“1”，第114条数据连接引线的位次可以记为“114”，依此类推，可以对所有的数据连接引线进行位次排序。从图12可以看出，相对于参考阵列基板中的数据连接引线的负载，图6所示的阵列基板中的数据连接引线的负载下降了越一个数量级，且相邻两条数据连接引线之间的负载差异有效降低。
基于同上的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括本发明实施例所述的任一种阵列基板。因而该显示面板具备相应的功能和有益效果，这里不再赘述。示例性的，图13是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。参见图13，该显示面板包括阵列基板10、彩膜基板20以及位于阵列基板10和彩膜基板20之间的液晶30。其中，该阵列基板10可以为本发明任意实施例所述阵列基板。需要的说明的是，图13仅示例性的示出了显示面板为基于液晶的液晶显示面板，但并非对本发明实施例中显示面板结构的限定，在其它实施方式中，显示面板还可以为基于有机发光二极管的显示面板。
基于同上的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例所述的任一种显示面板，因而该显示装置具备相应的功能和有益效果，这里不再赘述。示例性的，图14是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，包括本发明实施例所述的任一种显示面板1，该显示装置可以是车载显示屏、手机、电脑或电视等电子显示设备，本申请对此均不作限定。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：显示区和扇出区；还包括：
衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的第一金属层；所述第一金属层在所述显示区形成多条扫描线，在所述扇出区未形成数据连接引线；
层间介质层，位于所述第一金属层背离所述衬底基板的一侧；
第二金属层，位于所述层间介质层背离所述衬底基板的一侧；所述第二金属层在所述显示区形成多条数据线，在所述扇出区形成多条数据连接引线；
有机平坦化层，位于所述第二金属层背离所述衬底基板的一侧；
第三金属层，位于所述有机平坦化层背离所述衬底基板的一侧；所述第三金属层在所述扇出区形成多条数据连接引线；
其中，所述数据连接引线临近所述显示区的一端与所述数据线一一对应电连接；相邻两条所述数据连接引线位于不同层，且在所述衬底基板上的垂直投影至少部分重合。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第三金属层在所述显示区形成多条触控走线。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属层的材料与所述第三金属层的材料相同。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属层以及所述第三金属层的电阻率均小于所述第一金属层的电阻率。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，每条所述数据连接引线包括通过接触孔相连接的第一走线段和第二走线段；
所述第一走线段采用第二金属层形成；所述第二走线段采用第三金属层形成；
沿多条所述数据连接引线排列方向，所述第一走线段和所述第二走线段间隔排列。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，相邻两条所述数据连接引线的电阻相等。
7.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层在所述扇出区形成多条触控连接引线，所述触控连接引线与所述触控走线一一对应电连接。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层的材料包括钼，所述第二金属层的材料包括钼铝钼以及所述第三金属层的材料包括钛铝钛。
9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述层间介质层的厚度为D1，所述有机平坦化层的厚度为D2；其中，2.6um≤D2≤2.8um。
10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的阵列基板。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10所述的显示面板。
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