CN110462870B - 显示基板、制造显示基板的方法和显示设备 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了显示基板。显示基板可以包括衬底基板和位于衬底基板上的多个发光结构。多个发光结构中的每一个包括沿远离衬底基板的方向布置的第一电极、发光层、透明电极、光学调整层和第二电极。多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同。
Description
技术领域
本公开一般涉及显示技术领域，更具体地，涉及显示基板、显示设备和制造显示基板的方法。
背景技术
在显示技术中，有机发光二极管(OLED)已变得非常流行。有机发光二极管是一种有机薄膜电致发光元件，并且具有制造过程简单、成本低、发光效率高、能够形成柔性结构等优点。
不同的有机电致发光材料可与不同的滤色器相关联，用于不同的发射层。对于OLED装置的像素的子像素区域中的发射层中的每一个，可以使用不同的有机电致发光材料来构造具有不同颜色的子像素区域。例如，第一有机电致发光材料发射峰值红色波长，第二有机电致发光材料发射峰值绿色波长，第三有机电致发光材料发射峰值蓝色波长，并且第四有机电致发光材料发射广谱波长或白光。在该示例中，与发射峰值红色波长的第一有机电致发光材料相关联地使用红色滤波器，与发射峰值绿色波长的第二有机电致发光材料相关联地使用绿色滤波器，与发射峰值蓝色波长的第三有机电致发光材料相关联地使用蓝色滤波器。然而，需要改善OLED的亮度输出效率。
发明内容
一方面，本公开提供了一种显示基板，包括：衬底基板；以及多个发光结构，其位于衬底基板上，所述多个发光结构中的每一个包括沿远离衬底基板的方向布置的第一电极、发光层、透明电极、光学调整层和第二电极。所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的物理厚度不同。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的折射率不同。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构包括第一发光结构、第二发光结构和第三发光结构；第一发光结构、第二发光结构和第三发光结构分别具有第一光学调整层、第二光学调整层和第三光学调整层。
在本公开的一些实施例中，第一光学调整层的物理厚度为d1，第二光学调整层的物理厚度为d2，第三光学调整层的物理厚度为d3，并且0<d1≤d2<d3。
在本公开的一些实施例中，第一光学调整层的折射率为r1，第二光学调整层的折射率为r2，第三光学调整层的折射率为r3，并且0<r1≤r2<r3。
在本公开的一些实施例中，光学调整层包括六甲基二硅醚或PEDOT:PSS中的至少一者。
在本公开的一些实施例中，显示基板包括位于第二电极的远离衬底基板的一侧的滤色器。
在本公开的一些实施例中，第一光学调整层、第二光学调整层和第三光学调整层分别包括第一颜色光阻、第二颜色光阻和第三颜色光阻。
在本公开的一些实施例中，显示基板还包括：像素限定层，其限定多个开口；发光层的至少一部分位于所述多个开口中的一个中。
在本公开的一些实施例中，像素限定层在第一发光结构和第二发光结构之间的第一厚度小于像素限定层在第二发光结构和第三发光结构之间的第二厚度。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的透明电极相连接。
在本公开的一些实施例中，第二电极和透明电极相连接。
在本公开的一些实施例中，第二电极包括Mg或Ag材料中的至少一者；并且第二电极的厚度在约
至约
的范围内。
在本公开的一些实施例中，第一电极是反射电极。
另一方面，本公开提供了一种制造显示基板的方法，包括：形成多个发光结构。形成多个发光结构包括：在衬底基板上形成第一电极；在第一电极上形成发光层；在发光层上形成透明电极；在透明电极上形成光学调整层；以及，在光学调整层上形成第二电极。所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同。
在本公开的一些实施例中，通过喷墨打印工艺来执行在透明电极上形成光学调整层。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的物理厚度不同。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构包括第一发光结构、第二发光结构和第三发光结构；第一发光结构、第二发光结构和第三发光结构分别具有第一光学调整层、第二光学调整层和第三光学调整层；第一光学调整层、第二光学调整层和第三光学调整层分别包括第一颜色光阻、第二颜色光阻和第三颜色光阻。
另一方面，本公开提供了一种显示设备，其包括上述任一显示基板。
附图说明
以下附图仅为根据所公开的各种实施例的用于示意性目的的示例，而不旨在限制本发明的范围。
图1是示出根据本公开的一些实施例的显示基板的结构的示意图；
图2是示出根据本公开的一些实施例的显示基板的结构的示意图；
图3是示出根据本公开的一些实施例的显示基板的结构的示意图；
图4是示出根据本公开的一些实施例的显示基板的结构的示意图；
图5示出了根据本公开的一些实施例的制造显示基板的方法；
图6是根据本公开的一些实施例的制造显示基板的流程图。
具体实施方式
为了清楚地示出这里所公开的本发明中的各种实施例，下面是实施例描述中的附图，这里简要进行介绍。将参照附图和实施例更详细地描述本公开，以提供本领域技术人员对本公开技术方案的更好的理解。在本公开的整个描述内容中，对图1至图6进行参考。当参考附图时，以相似附图标记表示整个附图中的相似结构和元素。
需注意，这些附图应当认为仅示出本公开的一些而非全部实施例。对于本领域技术人员而言，基于这些附图中所示结构，其他实施例可以变得显而易见。
本文中由“约”或“实质上”所修饰的数值表示该数值可以改变其10％。
在一些实施例中，本公开提供了一种显示基板，包括：衬底基板和位于衬底基板上的多个发光结构。多个发光结构中的每一个包括沿远离衬底基板的方向布置的第一电极、发光层、透明电极、光学调整层和第二电极。此外，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同。本公开的一些实施例中所提供的显示基板可以调整发光结构的微腔长度并且相应地调整微腔的谐振频率，使得可以显著地改善发光结构的光提取效率或亮度输出。
本文中，“微腔”可以形成于两个反射电极之间。在诸如OLED微腔装置的微腔装置中，有机发光层可以布置在两个反射电极之间。
本文中，“微腔长度”指的是两个反射电极之间的光学厚度。
本文中，“反射”指的是至少30％的光反射率。例如，本文中，光反射率可以为40％、50％、60％、70％、80％、90％、95％或实质上100％等。
本文中，“透明”指的是大于50％的透光率。例如，本文中，透光率可以为60％、70％、80％、90％、95％或实质上100％等。
如图1所示，在一些实施例中，本公开提供了一种显示基板，包括：衬底基板100和位于衬底基板100上的多个发光结构(2011、2012、2013)。多个发光结构(2011、2012、2013)中的每一个包括沿远离衬底基板100的方向布置的第一电极101、发光层120、透明电极102、光学调整层(1011、或1021、或1031)和第二电极103。所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的光学厚度不同。
在一些实施例中，所述多个发光结构包括第一发光结构2011、第二发光结构2012和第三发光结构2013。第一发光结构2011、第二发光结构2012和第三发光结构2013分别具有第一光学调整层1011、第二光学调整层1021和第三光学调整层1031。
在一些实施例中，位于所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的光学厚度不同。例如，第一光学调整层1011的光学厚度与第二光学调整层1021的光学厚度不同；或者，第二光学调整层1021的光学厚度与第三光学调整层1031的光学厚度不同；或者，第一光学调整层1011的光学厚度、第二光学调整层1021的光学厚度和第三光学调整层1031的光学厚度彼此不同。
本文中，“光学厚度”指的是物理厚度乘以折射率的结果。
在一些实施例中，第一光学调整层1011、第二光学调整层1021和第三光学调整层1031由相同材料制成，并且所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的物理厚度不同。本文中，“物理厚度”指的是在与衬底基板垂直的方向上测得的长度。
在一些实施例中，第一光学调整层1011、第二光学调整层1021和第三光学调整层1031由不同材料制成，并且所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的物理厚度相同。
在一些实施例中，所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的物理厚度可以不同，并且/或者所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的折射率可以不同。
在一些实施例中，所述多个发光结构(2011、2012、2013)中的至少两个发光结构中的光学调整层(1011、1021、1031)的物理厚度不同。例如，第一光学调整层1011的物理厚度与第二光学调整层1021的物理厚度不同；或者，第二光学调整层1021的物理厚度与第三光学调整层1031的物理厚度不同；或者，第一光学调整层1011的物理厚度、第二光学调整层1021的物理厚度和第三光学调整层1031的物理厚度彼此不同。
在一些实施例中，如图1所示，第一光学调整层的物理厚度为d1，第二光学调整层的物理厚度为d2，第三光学调整层的物理厚度为d3，并且0<d1≤d2<d3。
在一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的折射率不同。例如，第一光学调整层1011的折射率与第二光学调整层1021的折射率不同；或者，第二光学调整层1021的折射率与第三光学调整层1031的折射率不同；或者，第一光学调整层1011的折射率、第二光学调整层1021的折射率和第三光学调整层1031的折射率彼此不同。
在一些实施例中，第一光学调整层的折射率为r1，第二光学调整层的折射率为r2，第三光学调整层的折射率为r3，并且0<r1≤r2<r3。
在一些实施例中，光学调整层由透明材料(例如，诸如环氧树脂等透明树脂)制成。
在一些实施例中，光学调整层包括六甲基二硅醚(HDMS)或PEDOT:PSS(聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)：聚苯乙烯磺酸盐)中的至少一者。
如图2所示，在一些实施例中，显示基板还包括像素限定层110。像素限定层110限定多个开口P。发光层120的至少一部分位于所述多个开口P中的一个中。
在一些实施例中，所述多个发光结构排列成阵列。例如，第一发光结构2011、第二发光结构2012和第三发光结构2013排列成阵列。
在一些实施例中，像素限定层110在第一发光结构2011和第二发光结构2012之间的第一厚度H1小于像素限定层110在第二发光结构2012和第三发光结构2013之间的第二厚度H2。如此，本公开实施例中所提供的显示基板可以具有透明电极102的远离衬底基板100的表面与光学调整层的远离衬底基板100的表面之间的减小的高度差，从而减少位于光学调整层和透明电极102上的第二电极103中的裂缝。
在本公开的一些实施例中，像素限定层110的第一部分(图中未示出)在衬底基板100上的正投影位于第一光学调整层1011在衬底基板100上的正投影与第二光学调整层1021在衬底基板100上的正投影之间。像素限定层110的第二部分(图中未示出)在衬底基板100上的正投影位于第二光学调整层1021在衬底基板100上的正投影与第三光学调整层1031在衬底基板100上的正投影之间。如图2所示，像素限定层110的第一部分的厚度为第一厚度H1，像素限定层110的第二部分的厚度为第二厚度H2，并且H1<H2。
在本公开的一些实施例中，像素限定层110在第三发光结构2013与第一发光结构2011之间的第三厚度H3小于第一厚度H1。
在本公开的一些实施例中，像素限定层110的第三部分(图中未示出)在衬底基板100上的正投影位于第一光学调整层1011在衬底基板100上的正投影与第三光学调整层1031在衬底基板100上的正投影之间。像素限定层110的第三部分的厚度为第三厚度H3，并且H3<H1。
在本公开的一些实施例中，第一光学调整层1011、第二光学调整层1021和第三光学调整层1031分别包括第一颜色光阻、第二颜色光阻和第三颜色光阻。例如，第一颜色光阻、第二颜色光阻和第三颜色光阻分别是绿色光阻、蓝色光阻和红色光阻。如此，光学调整层可以用作滤色器，使得无需在第二电极103上增加额外的滤色器。
在本公开的一些实施例中，第一颜色光阻、第二颜色光阻和第三颜色光阻的材料可以包括环氧树脂、重氮萘醌(DNQ)或酚醛清漆树脂。
如图3和图4所示，在本公开的一些实施例中，显示基板包括位于第二电极103的远离衬底基板100的一侧的滤色器。例如，滤色器包括不同的滤色器单元，诸如绿色滤色器单元3011、蓝色滤色器单元3012、红色滤色器单元3013和黑矩阵201。
在本公开的一些实施例中，发光层120可以为白光发射层。在一个实施例中，白光发射层包括沿垂直于衬底基板的方向布置的红光发射层、蓝光发射层和绿光发射层。
如图1和图2所示，在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的透明电极102相连接。例如，第一发光结构2011的透明电极102与第二发光结构2012的透明电极102相连接。
可选地，在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构的透明电极102彼此相连接。
在本公开的一些实施例中，第二电极103和透明电极102相连接。
在本公开的一些实施例中，第二电极103和透明电极102相接触。例如，第二电极103的与透明电极102相接触的一部分位于第一光学调整层1011和第二光学调整层1021之间，或者位于第二光学调整层1021和第三光学调整层1031之间。
在本公开的一些实施例中，第二电极103包括Mg或Ag材料中的至少一者；并且第二电极103的厚度在约
至约
的范围内。例如，第二电极103的厚度为约
或
在本公开的一些实施例中，第二电极103可以为发光结构的阴极。
在本公开的一些实施例中，第一电极101是反射电极。
本文中，“反射”指的是至少30％的光反射率。例如，本文中，反射率可以为40％、50％、60％、70％、80％、90％、95％或实质上100％等。
在本公开的一些实施例中，第一电极101可以为发光结构的阳极。
在本公开的一些实施例中，第一电极101包括两个透明电极和位于所述两个透明电极之间的反射电极。在一个实施例中，第一电极包括沿垂直方向布置的第一透明电极、反射电极和第二透明电极。例如，第一透明电极的材料可以选自氧化铟锡(ITO)、或氧化铟锌、或其他透明电极材料。第二透明电极的材料可以选自氧化铟锡(ITO)、或氧化铟锌、或其他透明电极材料。反射电极的材料包括Mg或Ag材料中的至少一者或用于反射光的其他反射材料。
在本公开的一些实施例中，第一光学调整层1011的物理厚度d1在约20nm至约60nm的范围内。例如，d1为约30nm、约40nm、或约50nm。第二光学调整层1021的物理厚度d2在约80nm至约100nm的范围内。例如，d2为约90nm或约95nm。第三光学调整层1031的物理厚度d3在约100nm至约120nm的范围内。例如，d3为约105nm、约110nm、或约115nm。
在本公开的一些实施例中，第一发光结构2011的微腔长度在约390nm至约430nm的范围内，例如约400nm、约410nm、或约420nm；第二发光结构2012的微腔长度在约440nm至约470nm的范围内，例如约450nm、或约460nm；第三发光结构2013的微腔长度在约470nm至约500nm的范围内，诸如约480nm、或约490nm。可选地，根据本公开的一个实施例的发光结构的光提取效率在表格1中示出。发光结构的光提取效率或亮度输出被显著地提高。
表格1：一个实施例的光提取效率
另一方面，本公开提供了一种制造显示基板的方法，包括：形成多个发光结构。形成多个发光结构包括：在衬底基板上形成第一电极；在第一电极上形成发光层；在发光层上形成透明电极；在透明电极上形成光学调整层；以及，在光学调整层上形成第二电极。所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同。
如图5所示，在本公开的一些实施例中，制造显示基板的方法包括步骤1至步骤6。
步骤1包括在衬底基板100上形成多个第一电极101。
步骤2包括形成在衬底基板100上限定多个开口的像素限定层110。所述多个第一电极101分别位于所述多个开口中。
步骤3包括在第一电极101上形成发光层120。
步骤4包括在发光层120上形成透明电极102。
步骤5包括在透明电极102上形成光学调整层。
步骤6包括在光学调整层上形成第二电极103。
在本公开的一些实施例中，步骤2包括：通过诸如溅射方法之类的方法在衬底基板100上形成第一电极材料层，随后对第一电极材料层进行构图以形成第一电极101。
在本公开的一些实施例中，步骤2包括在第一电极101上形成像素限定材料层，随后对像素限定材料层进行构图以形成像素限定层110。
在本公开的一些实施例中，步骤3包括通过蒸镀方法形成发光层120。
在本公开的一些实施例中，步骤3包括通过喷墨打印方法形成发光层120。
在本公开的一些实施例中，步骤4包括通过溅射方法在发光层120上形成透明电极102。
在本公开的一些实施例中，透明电极包括ITO或IZO。
在本公开的一些实施例中，通过喷墨打印工艺来执行在透明电极上形成光学调整层。在一个实施例中，将包括光学调整层材料的溶液1040打印在透明电极102上，随后使溶液1040干燥以形成光学调整层。
在本公开的一些实施例中，将溶液1040打印在透明电极102上包括：在喷墨打印工艺中控制液体量以形成不同厚度的光学调整层。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的物理厚度不同。
在本公开的一些实施例中，所述多个发光结构包括第一发光结构2011、第二发光结构2012和第三发光结构2013。第一发光结构2011、第二发光结构2012和第三发光结构2013分别具有第一光学调整层1011、第二光学调整层1021和第三光学调整层1031。第一光学调整层1011、第二光学调整层1021和第三光学调整层1031分别包括第一颜色光阻材料、第二颜色光阻材料和第三颜色光阻材料。
在本公开的一些实施例中，第一颜色光阻材料、第二颜色光阻材料和第三颜色光阻材料分别包括绿色光阻材料、蓝色光阻材料和红色光阻材料。如此，光学调整层可以用作滤色器，使得无需在第二电极103上增加额外的滤色器。
在本公开的一些实施例中，所述方法还包括在第二电极103上形成平坦化层130。
在本公开的一些实施例中，所述方法还包括在平坦化层130上形成滤色器，例如在平坦化层130上形成绿色滤色器单元3011、蓝色滤色器单元3012、红色滤色器单元3013和黑矩阵201。
另一方面，本公开提供了一种显示设备，其包括上述任一实施例的显示基板。
在本公开的一些实施例中，显示设备可以包括封装基板200，以封装显示基板。
在本公开的一些实施例中，发光层120可以包括布置在每个开口A中的多个有机功能层。例如，所述多个有机功能层堆叠布置在衬底基板100上。在一个实施例中，发光层120包括空穴注入层、空穴传输层、有机电致发光材料层、电子传输层和电子注入层。
在本公开的一些实施例中，显示设备(或者更具体地，有机电致发光二极管显示设备)可以包括其他常规结构，例如电源单元或显示驱动单元等。这些常规结构是本领域内普通技术人员公知的，因此本文不再对其进行描述。
所述显示设备可以为具有显示功能的任何电子产品或组件，比如移动电话、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数字相框、或导航仪。
虽然以上已经详细地描述了具体实施例，但是该描述仅用于说明目的。因此，应该理解，除非另有明确说明，否则上述许多方面并非旨在作为必需或必要的元件。
出于示意和描述目的已示出对本发明实施例的上述描述。其并非旨在穷举或将本发明限制为所公开的确切形式或示例性实施例。因此，上述描述应当被认为是示意性的而非限制性的。显然，许多修改和变形对于本领域技术人员而言将是显而易见的。选择和描述这些实施例是为了解释本发明的原理和其实际应用，从而使得本领域技术人员能够理解本发明适用于特定用途或所构思的实施方式的各种实施例及各种变型。本发明的范围旨在由所附权利要求及其等同形式限定，其中除非另有说明，否则所有术语以其最宽的合理意义解释。因此，术语“发明”、“本发明”等不一定将权利范围限制为具体实施例，并且对本发明示例性实施例的参考不隐含对本发明的限制，并且不应推断出这种限制。本发明仅由随附权利要求的精神和范围限定。
此外，这些权利要求可涉及使用跟随有名词或元素的“第一”、“第二”等术语。这种术语应当理解为一种命名方式而非意在对由这种命名方式修饰的元素的数量进行限制，除非给出具体数量。所描述的任何优点和益处不一定适用于本发明的全部实施例。应当认识到的是，本领域技术人员在不脱离随附权利要求所限定的本发明的范围的情况下可以对所描述的实施例进行变化。此外，本公开中没有元件和组件是意在贡献给公众的，无论该元件或组件是否明确地记载在随附权利要求中。
Claims (14)
1.一种显示基板，包括：
衬底基板；和
多个发光结构，其位于所述衬底基板上，所述多个发光结构中的每一个包括沿远离所述衬底基板的方向布置的第一电极、发光层、透明电极、光学调整层和第二电极；
其中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同；
所述多个发光结构包括第一发光结构、第二发光结构和第三发光结构；所述第一发光结构、所述第二发光结构和所述第三发光结构分别具有第一光学调整层、第二光学调整层和第三光学调整层；
像素限定层，其限定多个开口；所述发光层的至少一部分位于所述多个开口中的一个中；
所述像素限定层在所述第一发光结构和所述第二发光结构之间的第一厚度小于所述像素限定层在所述第二发光结构和所述第三发光结构之间的第二厚度；
所述第一光学调整层、所述第二光学调整层和所述第三光学调整层分别包括第一颜色光阻、第二颜色光阻和第三颜色光阻。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的物理厚度不同。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的折射率不同。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第一光学调整层的物理厚度为d1，所述第二光学调整层的物理厚度为d2，所述第三光学调整层的物理厚度为d3，并且0<d1≤d2<d3。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第一光学调整层的折射率为r1，所述第二光学调整层的折射率为r2，所述第三光学调整层的折射率为r3，并且0<r1≤r2<r3。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述光学调整层包括六甲基二硅醚或PEDOT:PSS中的至少一者。
7.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板包括位于所述第二电极的远离所述衬底基板的一侧的滤色器。
8.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的透明电极相连接。
9.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第二电极和所述透明电极相连接。
10.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第二电极包括Mg或Ag材料中的至少一者；并且所述第二电极的厚度在60Å至140Å的范围内。
11.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第一电极是反射电极。
12.一种制造显示基板的方法，用于制造如权利要求1-11任一项所述的显示基板，包括：
形成多个发光结构；
其中，形成所述多个发光结构包括：在衬底基板上形成第一电极；
在所述第一电极上形成发光层；
在所述发光层上形成透明电极；
在所述透明电极上形成光学调整层；以及
在所述光学调整层上形成第二电极；其中，
所述多个发光结构中的至少两个发光结构中的光学调整层的光学厚度不同。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，通过喷墨打印工艺来执行在所述透明电极上形成所述光学调整层。
14.一种显示设备，包括权利要求1至11中任一项所述的显示基板。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101540377A (zh) * | 2008-03-18 | 2009-09-23 | 三星移动显示器株式会社 | 有机发光器件和包括该有机发光器件的有机发光显示装置 |
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| CN109728198A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-05-07 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 有机发光二极管显示基板及其制作方法 |
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| US20190189713A1 (en) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | Joled Inc. | Organic el display panel, organic el display device, and organic el display panel manufacturing method |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI281360B (en) * | 2005-08-31 | 2007-05-11 | Univision Technology Inc | Full color organic electroluminescent display device and method for fabricating the same |
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| CN103928495B (zh) * | 2013-12-31 | 2017-01-18 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种oled显示面板及其制备方法、显示装置 |
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101540377A (zh) * | 2008-03-18 | 2009-09-23 | 三星移动显示器株式会社 | 有机发光器件和包括该有机发光器件的有机发光显示装置 |
| CN108598107A (zh) * | 2017-02-28 | 2018-09-28 | 株式会社半导体能源研究所 | 显示装置、显示模块及电子设备 |
| CN107275512A (zh) * | 2017-05-25 | 2017-10-20 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置 |
| US20190189713A1 (en) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | Joled Inc. | Organic el display panel, organic el display device, and organic el display panel manufacturing method |
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