CN110350015A

CN110350015A - 一种显示面板及其制作方法、显示装置

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Publication number: CN110350015A
Application number: CN201910662517.XA
Authority: CN
Inventors: 刘暾; 闫华杰; 张娟; 焦志强
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd
Priority date: 2019-07-22
Filing date: 2019-07-22
Publication date: 2019-10-18
Anticipated expiration: 2039-07-22
Also published as: CN110350015B

Abstract

本发明实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板，设置在衬底基板上的像素定义层、设置在像素定义层之间的有机发光器件，以及设置在像素定义层和有机发光器件上的封装层，还包括：设置在封装层上的彩膜结构层。彩膜结构层包括多个色阻层，色阻层在衬底基板的正投影区域与有机发光器件在所述衬底基板的正投影区域重合，色阻层在远离有机发光器件的一面为凹面。本发明还公开了一种显示面板的制作方法和显示装置。由于本发明实施例中的色阻层在垂直于衬底基板的方向上的厚度不相等，使得光经过该色阻层后可以形成发散，在不同视角下进入人眼的光线得到相应的补偿，白平衡得到调节，同时也有助于不同视角下色域的改善，提高了用户体验性。

Description

一种显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体为一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示装置具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、宽视角、低功耗及可实现柔性显示等特性，因此被广泛应用于显示领域。

COE(ColoronEL)技术是在薄膜封装(ThinFilmEncapsulation)的有机电致发光(EL)器件上形成色阻层(即彩膜层)，即“R/G/B三基色+ 彩膜”的结构，可用于取代传统偏光片技术，有效降低OLED面板反射率并提高色纯度、增加色域、降低面板厚度、提高面板显示亮度等作用。

但本发明的发明人发现，现有技术使用“R/G/B三基色+彩膜”的结构时，不同视角下由于视角红色(R)子像素单元、绿色(G)子像素单元和蓝色(B)子像素单元的亮度衰减规律不同，使得出光白平衡受到破坏，形成色偏现象，影响观看。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，解决现有技术中不同视角下由于R、G、B衰减规律不同而造成出光白平衡受到破坏，出现色偏现象的技术问题。

为了解决上述问题，本发明实施例主要提供如下技术方案：

在第一方面中，本发明实施例公开了一种显示面板，包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的像素定义层、设置在所述像素定义层之间的有机发光器件，以及设置在所述像素定义层和所述有机发光器件上的封装层，该显示面板还包括：设置在所述封装层上的彩膜结构层；

所述彩膜结构层包括多个色阻层，所述色阻层在所述衬底基板的正投影区域与所述有机发光器件在所述衬底基板的正投影区域重合，所述色阻层在远离所述有机发光器件的一面为凹面。

可选地，所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层；

所述红色色阻层的曲率半径大于所述绿色色阻层的曲率半径，所述绿色色阻层的曲率半径大于所述蓝色色阻层的曲率半径。

可选地，所述红色色阻层的材料为掺杂红色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种；

所述绿色色阻层的材料为掺杂绿色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种；

所述蓝色色阻层的材料为掺杂蓝色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种。

可选地，所述彩膜结构层的边缘厚度范围为2.5微米～3.5微米。

可选地，显示面板还包括位于所述封装层上的遮光层，所述遮光层在所述衬底基板的正投影区域与所述像素定义层在所述衬底基板的正投影区域重合。

可选地，显示面板还包括位于所述遮光层和所述彩膜结构层上的保护层。

在第二方面中，本发明实施例公开了一种显示装置，包括第一方面所述的显示面板。

在第三方面中，本发明实施例公开了一种显示面板的制作方法，包括在衬底基板上制作像素定义层、有机发光器件和封装层，还包括：

采用构图工艺在所述封装层上制作彩膜结构层；所述彩膜结构层包括多个色阻层，所述色阻层在所述衬底基板的正投影区域与所述有机发光器件在所述衬底基板的正投影区域重合，且所述色阻层在远离所述有机发光器件的一面为凹面。

可选地，采用构图工艺在所述封装层上制作彩膜结构层，包括：

在所述封装层上涂覆正性光刻胶；对所述正性光刻胶进行曝光和显影，形成彩膜结构层，所述彩膜结构层包括多个色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与形成的所述色阻层的位置对应位置处的所述正性光刻胶的边缘区域的曝光时间小于照射到所述正性光刻胶的中心区域的曝光时间。

可选地，在所述封装层上涂覆负性光刻胶；对所述负性光刻胶进行曝光和显影，形成彩膜结构层，所述彩膜结构层包括多个色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与形成的所述色阻层的位置对应位置处的所述负性光刻胶的边缘区域的曝光时间大于照射到所述负性光刻胶的中心区域的曝光时间。

借由上述技术方案，本发明实施例提供的技术方案至少具有下列优点：

由于本发明实施例中的色阻层在远离有机发光器件的一面为凹面，这种结构的色阻层能够使得光经过该色阻层后可以形成发散，使得不同视角下进入人眼的光线得到补偿，缓解了由于不同视角红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的亮度衰减不相同而导致的白平衡破坏产生色偏的现象，同时对产品色域也有一定程度的提升，提高了用户体验性。

上述说明仅是本发明实施例技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明实施例的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明实施例的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明实施例的具体实施方式。

附图说明

通过阅读下文可选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出可选实施方式的目的，而并不认为是对本发明实施例的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：

图1为传统OLED显示面板的不同像素单元在不同视角下亮度衰减曲线图；

图2为本发明实施例的显示面板的结构示意图；

图3为本发明实施例的色阻层的结构示意图；

图4为现有技术显示面板在不同视角下的亮度曲线与本发明实施例的显示面板在不同视角下的亮度曲线对比图；

图5为本发明实施例的显示面板制作方法的流程图；

图6为本发明实施例的显示面板在未制作彩膜结构层的结构示意图。

附图标记介绍如下：

1-红色子像素单元的亮度衰减曲线；2-绿色子像素单元的亮度衰减曲线；3-蓝色子像素单元的亮度衰减曲线；

4-衬底基板；5-像素定义层；51-红色子像素单元；52-绿色子像素单元；53-蓝色子像素单元；6-封装层；7-彩膜结构层；8-色阻层；81-红色色阻层；82-绿色色阻层；83-蓝色色阻层；9-凹面；10-遮光层；11-保护层；

12-现有技术显示面板在不同视角下的亮度曲线；13-本发明实施例的显示面板在不同视角下的亮度曲线。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”到另一元件时，它可以直接连接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”可以包括无线连接。这里使用的措辞“和 /或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语 (包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

图1示出了传统OLED显示面板的不同像素单元在不同视角下亮度衰减曲线图。如图1所示，图中示出了红色子像素单元的亮度衰减曲线1、绿色子像素单元的亮度衰减曲线2和蓝色子像素单元的亮度衰减曲线3，当视角不断增大时，红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的亮度比逐渐降低，当视角超过40度时，红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的亮度比会显著下降，且红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的亮度衰减规律明显不同，使得出光白平衡受到破坏，形成色偏现象，影响显示效果。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种新的显示面板设计方式。

在第一方面中，本发明实施例公开了一种显示面板，如图2所示，该显示面板包括：衬底基板4，设置在衬底基板4上的像素定义层5、设置在像素定义层5之间的有机发光器件，以及设置在像素定义层5和有机发光器件上的封装层6。本发明实施例的显示面板还包括：设置在封装层6 上的彩膜结构层7。彩膜结构层7包括多个色阻层8，色阻层8在衬底基板4的正投影区域与有机发光器件在衬底基板4的正投影区域重合，色阻层8在远离有机发光器件的一面为凹面9。

具体地，有机发光器件包括红色子像素单元51、绿色子像素单元52 和蓝色子像素单元53，图中红色子像素单元51代表OLED器件红色子像素功能层，包含阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层和阴极；绿色子像素单元52代表 OLED器件绿色子像素功能层，包含阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层和阴极；蓝色子像素单元53代表OLED器件蓝色子像素功能层，包含阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层和阴极；这些膜层均为传统OLED器件结构组成部分，在此不再赘述。

需要说明的是，如图2所示，色阻层8包括红色色阻层81、绿色色阻层82和蓝色色阻层83，本发明实施例色阻层8的位置与有机发光器件的位置相对应指：红色色阻层81在衬底基板4上的正投影区域与红色子像素单元51在衬底基板4上的正投影区域重叠；绿色色阻层82在衬底基板4上的正投影区域与绿色子像素单元52在衬底基板4上的正投影区域重叠；蓝色色阻层83在衬底基板4上的正投影区域与蓝色子像素单元53 在衬底基板4上的正投影区域重叠。

由于本发明实施例中的色阻层在远离有机发光器件的一面为凹面，与现有技术表面平整的色阻层相比，本发明实施例中的色阻层能够使得光经过该色阻层后可以形成发散，使得不同视角下进入人眼的光线得到补偿，缓解了由于不同视角红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的亮度衰减不相同而导致的白平衡破坏产生色偏的现象，同时对产品色域也有一定程度的提升，提高了用户体验性。

可选地，图3示出了本发明实施例的色阻层的结构示意图。如图3所示，色阻层8在远离有机发光器件的一面为凹面9，凹面9的结构在实际工艺上更容易形成，且更易于使出光光线发散。凹面9的深度由曲率半径 r来决定，而曲率半径r跟封装层6的厚度，像素定义层5的厚度以及彩膜结构层7的厚度有关。由于产品规格的不同，使得对应的子像素单元的分布和子像素单元的面积均不同，同时封装层6的膜厚也会不一样，即，子像素单元出光离彩膜的距离不同，子像素单元的发光区域大小不同，这样会导致在不同视角下亮度衰减情况不一致，依据实际产品类型，可以通过模拟仿真对特定产品所需的膜厚、曲率半径r等参数进行优化，最后结合实验进行最优参数验证。

另外，根据显示面板的实际要求，本发明实施例的凹面9的形状可以为圆形凹面，也可以是椭圆形凹面。

可选地，本发明实施例的色阻层8包括红色色阻层81、绿色色阻层82和蓝色色阻层83。由于红色子像素单元51、绿色子像素单元52和蓝色子像素单元53的亮度衰减程度各不相同，随着视角增大，蓝色子像素单元53的亮度衰减程度最快，绿色子像素单元52次之，红色子像素单元 51的亮度衰减程度最慢。因此，在这种情况下，其中，红色色阻层81的曲率半径大于绿色色阻层82的曲率半径，绿色色阻层82的曲率半径大于蓝色色阻层83的曲率半径，从而达到最佳的显示效果。

可选地，在本实施例中，彩膜结构层7的边缘厚度范围为2.5微米～3.5 微米，即，为了同时适用于红色子像素单元51、绿色子像素单元52和蓝色子像素单元53的曲率半径变化，本申请实施例的彩膜结构层7的厚度变化范围在2.5微米～3.5微米之间。在这种情况下，穿过色阻层8的光线由于受到凹面9的发散作用，会呈现大角度出射，使得更多的光线可以在大视角下被用户用肉眼看到，因此通过红色色阻层81、绿色色阻层82和蓝色色阻层83的各自对应曲率半径r的设置，可以补偿红色子像素单元 51、绿色子像素单元52和蓝色子像素单元53各自出光光线亮度衰减程度的不同，调整了白平衡，减弱了发光器件在不同视角下的色偏，与此同时由于色阻层8的边缘厚度较厚，因此光线通过后，非正视角下的色域也会有所提高。

可选地，在本实施例中，红色色阻层81的材料为掺杂红色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种。绿色色阻层82的材料为掺杂绿色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种。蓝色色阻层83的材料为掺杂蓝色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种。

举例而言，在制作红色色阻层81时，在封装层6上涂覆掺杂红色染料的正性光刻胶。对正性光刻胶进行曝光和显影，形成红色色阻层，其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与红色子像素单元51的位置对应位置处的正性光刻胶的边缘区域的曝光时间小于照射到中心区域的曝光时间。

在制作绿色色阻层82时，在封装层6上涂覆掺杂绿色染料的正性光刻胶。对正性光刻胶进行曝光和显影，形成绿色色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与绿色子像素单元 52的位置对应位置处的正性光刻胶的边缘区域的曝光时间小于照射到中心区域的曝光时间。

在制作蓝色色阻层83时，在封装层6上涂覆掺杂蓝色染料的正性光刻胶。对正性光刻胶进行曝光和显影，形成蓝色色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与蓝色子像素单元 53的位置对应位置处的正性光刻胶的边缘区域的曝光时间小于照射到中心区域的曝光时间。

类似于使用正性光刻胶，均是采用电压脉冲宽度调制曝光灰度等级来制作红色色阻层81、绿色色阻层82和蓝色色阻层83。与正性光刻胶不同的是，照射到负性光刻胶的边缘区域的曝光时间大于照射到负性光刻胶的中心区域的曝光时间。

可选地，本发明实施例的显示面板还包括位于封装层6上的遮光层 10，遮光层10在衬底基板4的正投影区域与像素定义层5在衬底基板4 的正投影区域重合，从而避免光线从非色阻层8的位置处穿过。另外，可选地，本发明实施例的显示面板还包括位于遮光层10和彩膜结构层7上的保护层11，用于保护在保护层11下方的各个器件。

图4示出了现有技术显示面板在不同视角下的亮度曲线12和本发明实施例的显示面板在不同视角下的亮度曲线13。如图4所示，当子像素单元发光时，使用本发明实施例的彩膜结构层相比于现有技术，色偏明显降低，这说明由于引入了本发明实施例的彩膜结构层后，使得出射光线角度更大，缓解了由于不同视角红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的亮度衰减不相同而导致的白平衡破坏产生色偏的现象，改善了用户体验性。

在第二方面中，本发明实施例公开了一种显示装置，包括第一方面的显示面板。由于第二方面的显示装置包括了第一方面的显示面板，使得显示装置具有与显示面板相同的有益效果。因此，在此不再重复赘述第二方面的显示装置的有益效果。

在第三方面中，本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，如图5示出，该方法包括：

S101：在衬底基板上制作像素定义层、有机发光器件和封装层，获得如图6所示的结构。

S102：采用构图工艺在封装层上制作彩膜结构层；彩膜结构层包括多个色阻层，色阻层在衬底基板的正投影区域与有机发光器件在衬底基板的正投影区域重合，且色阻层在远离有机发光器件的一面为凹面。

在S101中，有机发光器件包含阳极，空穴注入层，空穴传输层，电子阻挡层，发光层，空穴阻挡层，电子传输层，电子注入层及阴极。本发明实施例像素定义层、有机发光器件和封装层的具体制作方法与现有技术类似，在此不再重复赘述。

由于可以使用数字灰度调节方法调节各彩膜层的曝光时间，通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，从而调整曝光时间，达到曝光量的调整。因此，在S102中，采用构图工艺在封装层上制作彩膜结构层，包括：

在封装层上涂覆正性光刻胶。对正性光刻胶进行曝光和显影，形成彩膜结构层，彩膜结构层包括多个色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与形成的色阻层的位置对应位置处的正性光刻胶的边缘区域的曝光时间小于照射到正性光刻胶的中心区域的曝光时间。

或者，在另一个实施例中，在封装层上涂覆负性光刻胶。对负性光刻胶进行曝光和显影，形成彩膜结构层，彩膜结构层包括多个色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与形成的色阻层的位置对应位置处的负性光刻胶的边缘区域的曝光时间大于照射到负性光刻胶的中心区域的曝光时间。

应用本发明实施例所获得的有益效果包括：

以上所述仅是本发明的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims

1.一种显示面板，包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的像素定义层、设置在所述像素定义层之间的有机发光器件，以及设置在所述像素定义层和所述有机发光器件上的封装层，其特征在于，还包括：设置在所述封装层上的彩膜结构层；

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层；

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述红色色阻层的材料为掺杂红色染料的正性光刻胶或负性光刻胶中的一种；

4.如权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜结构层的边缘的厚度范围为2.5微米～3.5微米。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述封装层上的遮光层，所述遮光层在所述衬底基板的正投影区域与所述像素定义层在所述衬底基板的正投影区域重合。

6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述遮光层和所述彩膜结构层上的保护层。

7.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1-5任一项所述的显示面板。

8.一种显示面板的制作方法，包括在衬底基板上制作像素定义层、有机发光器件和封装层，其特征在于，还包括：

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，采用构图工艺在所述封装层上制作彩膜结构层，包括：

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，采用构图工艺在所述封装层上制作彩膜结构层，包括：

在所述封装层上涂覆负性光刻胶；对所述负性光刻胶进行曝光和显影，形成彩膜结构层，所述彩膜结构层包括多个色阻层；其中，曝光过程中通过电压脉冲宽度调制曝光灰度等级，使得照射到与形成的所述色阻层的位置对应位置处的所述负性光刻胶的边缘区域的曝光时间大于照射到所述负性光刻胶的中心区域的曝光时间。