CN110328975A - 真空干燥装置 - Google Patents

Abstract

一种真空干燥装置，包括壳体，具有容置空间；承载平台，设置于所述容置空间内，用于承载基板，所述基板上具有像素墨水及挥发性溶剂；定位件，设置于所述承载平台上，用于固定所述基板的位置；以及引流板，设置于所述容置空间内，具有多个通孔。本发明利用设置于所述承载平台上的定位件，固定所述基板的位置及角度，使所述基板表面像素墨水的位置能够精准匹配所述引流板通孔的位置，从而使整体的蒸汽浓度趋于一致，提高膜面平整度。

Description

真空干燥装置

【技术领域】

本揭示涉及显示技术领域，特别涉及一种用于显示面板的真空干燥装置。

【背景技术】

OLED(Organic Light Emitting Diode)具有良好的自发光特性以及高对比度，目前是显示器件的重要研究和发展方向，并在小尺寸和大尺寸等方面的应用均取得显着成效。另一方面，由于显示器的发展方向逐渐向曲面、可弯曲、窄边框等方面转变，高的屏占比成为手机、平板、显示器、电视机等方面应用的重要关注点。

OLED的生产过程中，利用喷墨打印(Inkjet printing,IJP)的方式将像素墨水打印在像素电极层上，然后进行干燥成膜。膜面干燥成膜是保证膜面平整，器件发光均匀的重要手段，真空干燥(Vacuum dry,VCD)设备是对膜面平整度提高的关键步骤。但由于产品具有多样性，不同产品的基板尺寸不同，以及每次放置基板的角度、位置都是随机放置，因此在干燥设备中，每次处理时基板各处表面的蒸汽浓度不均一，易造成膜面不均匀而产生色彩显示不均匀(mura)的问题。

【发明内容】

为解决上述技术问题，本发明的一目的在于提供一种设备，在膜面干燥成膜过程中，可维持蒸汽压浓度均一，以提高膜面平整度。

为达成上述目的，本发明提供一种真空干燥装置，所述真空干燥装置包括：壳体，具有容置空间及管路，所述管路连通所述容置空间与所述壳体的外部；承载平台，设置于所述容置空间内，用于承载基板，所述基板上具有像素墨水及挥发性溶剂；定位件，设置于所述承载平台上，用于固定所述基板的位置；以及引流板，设置于所述容置空间内，具有多个通孔，其中所述像素墨水的位置对应所述通孔的位置。

于本发明的一实施例中，所述定位件为可拆式。

于本发明的一实施例中，所述承载平台上具有定位孔；所述定位件具有插栓，用以插入所述定位孔中。

于本发明的一实施例中，所述定位孔设于承载平台上不规则的预定位置。

于本发明的一实施例中，所述定位孔呈矩阵排列。

于本发明的一实施例中，所述承载平台上具有凹槽；所述定位件具有本体，用以放置于所述凹槽中。

于本发明的一实施例中，所述定位件的可承受温度大于或等于200℃。

于本发明的一实施例中，所述定位件的高度小于5mm。

于本发明的一实施例中，一个所述像素墨水对应一个所述通孔。

于本发明的一实施例中，进一步包括遮蔽件，设置于引流板上。

综上所述，本发明提供一种真空干燥装置，利用设置于所述承载平台上的定位件，固定所述基板的位置及角度，使基板表面像素墨水的位置能够精准匹配所述引流板通孔的位置，进而使整体的蒸汽浓度趋于一致，从而使膜面均一，避免m_ur_a发生。其次，所述定位件为可拆式，可设置于所述承载平台上，或从所述承载平台上拆除，如此可适用于多种不同尺寸的基板，不需使用多种尺寸的承载平台，从而降低成本。另外，藉由在所述引流板设置遮蔽件，减少蒸汽从旁边的通孔排出，而仅由像素墨水正上方的通孔排出，从而使膜面上方蒸汽浓度均一，最终的干燥膜面平整度更高。

为让本揭示的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

【附图说明】

图1显示本发明的第一实施例的真空干燥装置的剖视结构示意图；

图2显示本发明的第一实施例的承载平台上视图；

图3显示本发明的第一实施例中设有定位件的承载平台上视图；

图4显示本发明的第二实施例中设有定位件的承载平台剖视示意图；

图5显示本发明的第三实施例的承载平台上视图；

图6显示本发明的第三实施例中设有定位件及基板的承载平台上视图；

图7显示本发明的第一实施例的引流板的上视图；

图8显示本发明的第四实施例的引流板的剖视示意图；

图9显示本发明的第五实施例中设有遮蔽件的引流板的上视图；

图10显示本发明的第六实施例中设有遮蔽件的引流板的上视图；以及

图11显示本发明的第七实施例中设有遮蔽件的引流板的上视图。

【具体实施方式】

为了让本揭示的上述及其他目的、特征、优点能更明显易懂，下文将特举本揭示优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。再者，本揭示所提到的方向用语，例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧层、周围、中央等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本揭示，而非用以限制本揭示。

在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

请参阅图1，图1所绘示的是一种真空干燥装置100的剖视结构示意图，真空干燥装置100包括壳体10，所述壳体10具有底部、侧壁、顶部，以及由底部、侧壁、顶部所包围形成的容置空间12。另外，所述壳体10具有设置于底部的管路14，连通所述容置空间12与壳体外部。于其他实施例中，管路14可依照需求而设置于所述壳体10的侧壁或顶部。此外，于所述管路14之外接置抽气装置70，用以抽取所述容置空间12内部的气体。于另一实施例中，所述管路14之外可接置气体填充装置(图中未示)，用以向所述容置空间12填充氮气或干燥空气。

如图1所示，承载平台20设置于所述容置空间12内，用于承载基板30。请一并参阅图2，图2为本发明第一实施例的承载平台上视图。于图2中，所述承载平台20设有多个定位孔22，所述多个定位孔22配合多种不同的基板尺寸，设置于承载平台20上不规则的预定位置。

接着请一并参阅图1及图3，图3为本发明第一实施例中设有定位件的承载平台上视图。所述承载平台20上设有定位件24，用于界定所述基板30的位置及放置的角度。如图1所示，定位件24具有本体241及插栓242，插栓242用以插入所述定位孔22中；如图3所示，所述定位件24的本体241呈L形。所述定位件24为可拆式，可设置于所述承载平台20上，或从所述承载平台20上拆除。

如图3所示，于进行干燥程序时，先以左上角的定位孔22为起始点，将一个定位件24设置于左上角，亦即将插栓242插入左上角的定位孔22中，接着依大小不同的基板30的尺寸，将另一个定位件24的插栓242插入适当位置的定位孔22中，以界定出一个基板放置区301、302或303，然后将所述基板30放置于所述基板放置区301、302或303中，如此即可藉由所述定位件24限定所述基板30的放置位置与角度。等干燥程序结束，将定位件24自所述承载平台20上拆除，于下次进行干燥程序时，可以按照需求将所述定位件24设置于承载平台20上相同或不同位置。此种承载平台20与定位件24的设计，可搭配不同尺寸的基板重复使用。

于第二实施例中，如图4所示，承载平台20’设有多个定位凹槽22’，所述定位凹槽22’具有预定深度，例如为承载平台20’厚度的二分之一到三分之一。所述定位凹槽22’的位置与第一实施例相同，可为不规则排列或规则排列。与第一实施例不同的是，定位件24’只有本体241’而无插栓，且所述本体241’的厚度大于定位凹槽22’。于进行干燥程序时，将所述定位件24’放置于定位凹槽22’中，使所述定位件24’的一部份位于所述定位凹槽22’内，一部份外露于定位凹槽22’之外，如此即可形成如上述之基板放置区。

所述定位件24、24’的材料可为金属，也可为其他材料，例如具有磁性的物体，可以直接吸附在承载平台的表面。其次，除了上述实施例之外，所述定位件24、24’也可为其他形状。此外，定位件以具有良好的耐热性为优选，以承受温度大于或等于200℃为较佳。再者，所述定位件24、24’的厚度可大于、等于或小于所述基板30的厚度，以厚度小于5mm为较佳。

请参阅图5及图6，图5为本发明第三实施例的承载平台上视图，图6为本发明第二实施例中设有定位件及基板的承载平台上视图。于图5中，所述多个定位孔22以呈阵列排列的方式，设于承载平台20上。于进行干燥程序时，如图6所示，将两个或四个定位件24设置于承载平台20上的适当位置，而不限于以左上角为起始点，如此即可灵活设置基板放置区的位置。

图1的所述基板30上具有挡墙结构32及像素墨水34，所述像素墨水34含有挥发性溶剂。在所述壳体10的底部设有挡板60，所述挡板60上方设有引流板40。所述挡板60设置于所述承载平台20的周围，除了可以供引流板40设置于其上方之外，也可以阻挡蒸汽向外扩散，导引蒸汽向上排出，起到稳定蒸汽的作用。

请参阅图7，图7为本发明第一实施例的引流板40的上视图，所述引流板40具有多个通孔42，且所述通孔42的位置对应所述像素墨水34位置，如图1所示，一个通孔42对应一个像素墨水34。于其他实施例中，一个通孔42可对应多个像素墨水34，例如一个通孔42对应四个像素墨水34，对应的数量可依照实际需求而设计，能够维持蒸汽浓度均一即可。

具体而言，如图1所示，所述通孔42的上下尺寸大致相同。于本发明的第四实施例中，如图8所示，引流板各个通孔的形状可以不同，例如通孔42’呈上大下小的形状。于此实施例中，比较窄的通孔42’对应所述像素墨水34，而比较宽的通孔42”则对应两个像素墨水34之间的空白区域，依此类推。这样的开孔设计，会通过引流板引导气流的运动，使其具有规律性，从而平衡蒸汽压，改善膜面。

请参阅图1，在利用上述真空干燥装置进行干燥程序时，所述承载平台20加热使像素墨水34内的挥发性溶剂挥发，并以抽气装置70抽取所述容置空间12内部的气体，藉由将挥发性溶剂排出而达到干燥的效果。由于定位件24固定所述基板30的位置及角度，使基板30表面上像素墨水34的位置能够精准对应所述引流板40的通孔42的位置，因此在干燥过程中，每一个像素墨水34内的挥发性溶剂可直接向上穿过对应的通孔42，从而使每一个像素墨水34上方的蒸汽浓度均一，干燥速度一致，如此即可达到膜面均匀的效果。

接着请参阅图9，图9为本发明第五实施例的上视图。在本实施例中，所述的真空干燥装置100进一步包括遮蔽件50，设置于所述引流板40上。所述遮蔽件50具有第一区52及第二区54，所述第一区52为遮蔽区，用以遮蔽一部份的通孔42，而所述第二区54为开口区，并未遮蔽所述通孔42，而使所述通孔42外露。在本实施例中，第二区54位于遮蔽件50的左上角，可用于如图3中，所述基板30放置于基板放置区301的情况。图9中，由于所述遮蔽件50的第一区52遮蔽位于右方及下方的通孔42，因此所述像素墨水34内的挥发性溶剂仅能从对应第二区54的通孔42通过并排出至外部，如图1所示，如此即可避免部份蒸汽向右扩散，而导致右方干燥速度较快的情形。因此，藉由设置遮蔽件50，可使蒸汽浓度更为均一，膜面更为均匀。

请参阅图10，图10为本发明第六实施例的上视图。与第五实施例不同的是，在本实施例中，第一区52位于遮蔽件50的周围，而第二区54位于遮蔽件50的中央，可用于如图6中，所述基板30放置于其他适当位置的情况。

图11为本发明第七实施例的上视图，与第六实施例不同的是，第一区52进一步具有多个开口56，所述开口56位于规则或不规则的位置，使对应的通孔42外露，可应用于具有特殊像素设计的基板30。

综上所述，本发明提供一种真空干燥装置，利用设置于所述承载平台20上的定位件24，固定所述基板30的位置及角度，使基板30表面像素墨水34的位置能够精准匹配所述引流板40通孔42的位置，进而使整体的蒸汽浓度趋于一致，从而使膜面均一，避免mura发生。其次，所述定位件24为可拆式，可设置于所述承载平台20上，或从所述承载平台20上拆除，如此可适用于多种不同尺寸的基板30，不需使用多种尺寸的承载平台20，从而降低成本。另外，藉由在所述引流板40设置遮蔽件50，减少蒸汽从旁边的通孔42排出，而仅由像素墨水34正上方的通孔42排出，从而使膜面上方蒸汽浓度均一，最终的干燥膜面平整度更高。

尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本揭示，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本揭示包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示)，即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外，尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。

以上仅是本揭示的优选实施方式，应当指出，对于本领域普通技术人员，在不脱离本揭示原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本揭示的保护范围。

Claims (10)

1.一种真空干燥装置，包括:

壳体，具有容置空间及管路，所述管路连通所述容置空间与所述壳体的外部；

承载平台，设置于所述容置空间内，用于承载基板，所述基板上具有像素墨水及挥发性溶剂；

定位件，设置于所述承载平台上，用于固定所述基板的位置；以及

引流板，设置于所述容置空间内，具有多个通孔，其中所述像素墨水的位置对应所述通孔的位置。

2.如权利要求1所述的真空干燥装置，其中所述定位件为可拆式。

3.如权利要求1所述的真空干燥装置，其中所述承载平台上具有定位孔；所述定位件具有插栓，用以插入所述定位孔中。

4.如权利要求3所述的真空干燥装置，其中所述定位孔设于承载平台上不规则的预定位置。

5.如权利要求3所述的真空干燥装置，其中所述定位孔呈矩阵排列。

6.如权利要求1所述的真空干燥装置，其中所述承载平台上具有凹槽；所述定位件具有本体，用以放置于所述凹槽中。

7.如权利要求1所述的真空干燥装置，其中所述定位件的可承受温度大于或等于200℃。

8.如权利要求1所述的真空干燥装置，其中所述定位件的高度小于5mm。

9.如权利要求1所述的真空干燥装置，其中一个所述像素墨水对应一个所述通孔。

10.如权利要求1所述的真空干燥装置，进一步包括遮蔽件，设置于引流板上。