CN110275227B - 一种增透防眩玻璃及其生产方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种增透防眩玻璃包括玻璃基片及一种增透防眩玻璃的生产方法，所述玻璃基片的一面有增透减反射镀膜层，所述玻璃基片的另一面为防眩光减反射凹凸面，或者，所述玻璃基片的另一面有防眩光减反射镀膜层的技术手段，所以，这种玻璃既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。

Description

一种增透防眩玻璃及其生产方法
技术领域
本发明涉及一种玻璃及其生产方法，尤其涉及一种增透防眩玻璃及其生产方法。
背景技术
减反射玻璃通过将玻璃表面进行特殊处理，以增加玻璃的透光性能，其原理是利用不同光学材料膜层产生的干涉效果来消除入射光和反射光,从而提高透过率的方法。目前市面上的玻璃产品主要是普通的减反射玻璃，制备流程复杂，且不具备防眩光功能，品质不稳定，不利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等的电子产品中的应用。
发明内容
本发明要解决的第一个技术问题是提供一种增透防眩玻璃,既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。
为了解决上述第一个技术问题，本发明的增透防眩玻璃包括玻璃基片，所述玻璃基片的一面有增透减反射镀膜层，所述玻璃基片的另一面为防眩光减反射凹凸面，或者，所述玻璃基片的另一面有防眩光减反射镀膜层。
所述玻璃基片的增透减反射镀膜层共有四层。
所述玻璃基片的增透减反射镀膜层从内向外依次为第一五氧化二铌膜层、第一二氧化硅膜层、第二五氧化二铌膜层、第二二氧化硅膜层。
所述第一五氧化二铌膜层的厚度为15nm～40nm。
所述第一二氧化硅膜层的厚度为15nm～40nm。
所述第二五氧化二铌膜层的厚度为30nm～70nm。
所述第二二氧化硅膜层的厚度为80nm～110nm。
所述玻璃基片的防眩光减反射凹凸面上的凹凸部分布均匀光滑圆钝。
通过将所述玻璃基片的防眩光减反射凹凸面划分为分别具有规定尺寸的微小部分并且测量各个所述微小部分中的所述凹凸部的谷中从最低部到最高部的高度而获得的数值群之中，6μm至8μm的数值部分占据了95％以上。
所述第一五氧化二铌膜层的厚度为30nm。
所述第一二氧化硅膜层的厚度为30nm。
所述第二五氧化二铌膜层的厚度为50nm。
所述第二二氧化硅膜层的厚度为100nm。
本发明的增透防眩玻璃与现有技术相比具有以下有益效果。
1、本技术方案由于采用了所述增透防眩玻璃包括玻璃基片，所述玻璃基片的一面有增透减反射镀膜层，所述玻璃基片的另一面为防眩光减反射凹凸面，或者，所述玻璃基片的另一面有防眩光减反射镀膜层的技术手段，所以，既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。
2、本技术方案由于采用了所述玻璃基片的增透减反射镀膜层共有四层；所述玻璃基片的增透减反射镀膜层从内向外依次为第一五氧化二铌膜层、第一二氧化硅膜层、第二五氧化二铌膜层、第二二氧化硅膜层；所述第一五氧化二铌膜层的厚度为15nm～40nm；所述第一二氧化硅膜层的厚度为15nm～40nm；所述第二五氧化二铌膜层的厚度为30nm～70nm；所述第二二氧化硅膜层的厚度为80nm～110nm；所述玻璃基片的防眩光减反射凹凸面上的凹凸部分布均匀光滑圆钝；通过将所述玻璃基片的防眩光减反射凹凸面划分为分别具有规定尺寸的微小部分并且测量各个所述微小部分中的所述凹凸部的谷中从最低部到最高部的高度而获得的数值群之中，6μm至8μm的数值部分占据了95％以上的技术手段，所以，可有效增加入射光的透射率，采光效果好。
3、本技术方案由于采用了所述第一五氧化二铌膜层的厚度为30nm；所述第一二氧化硅膜层的厚度为30nm；所述第二五氧化二铌膜层的厚度为50nm；所述第二二氧化硅膜层的厚度为100nm的技术手段，所以，大幅增加入射光的透射率，采光效果更好。
本发明要解决的第二个技术问题是提供一种增透防眩玻璃的生产方法，该方法生产的增透防眩玻璃既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。
为了解决上述第二个技术问题，本发明的透防眩光减反射玻璃的生产方法如下，在一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层，或者，在一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层，或者，在对普通的玻璃基片的一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层的同时还对玻璃基片的另一面进行喷砂处理构成防眩光减反射凹凸面。
先对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层。
再对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层。
然后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层。
最后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层。
或者，
先对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层。
再对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层。
然后，对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层。
最后，对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层。
或者，
先对普通的玻璃基片的一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层，同时，用粗砂喷射该玻璃基片的另一面快速地构成粗毛防眩光减反射凹凸面。
再对玻璃基片的一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层，同时，用中砂喷射玻璃基片的另一面快速地构成中毛防眩光减反射凹凸面。
然后，对玻璃基片的一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层，同时，用细砂喷射玻璃基片的另一面构成细毛防眩光减反射凹凸面。
最后，对玻璃基片的一面镀制第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层，同时，用蚀刻液喷射玻璃基片的另一面构成光滑防眩光减反射凹凸面。
在真空条件下，通过磁控溅射方法依次将第一五氧化二铌膜层、第一二氧化硅膜层、第二五氧化二铌膜层、第二二氧化硅膜层层叠地镀制在玻璃基片的一面上。
在生产过程中，通过玻璃基片构成真空腔室的密封壁。
在生产过程中，玻璃基片处于斜置状态使增透减反射镀膜层朝下。
玻璃基片与水平面之间的夹角为45度至85度。
优选地，玻璃基片与水平面之间的夹角为60度。
在更换靶料的同时更换砂料。
玻璃作为原材料，经过切割、磨边、清洗制成玻璃基片。
将玻璃基片放到设备的承载板上，设定传动速度为1m/s，进入五氧化二铌靶位，该靶为孪生靶。这时，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为800V～1100V，Ar气量在200Sccm～400Sccm，O2气量在50～Sccm 150Sccm，通过中频交流磁控溅射法在玻璃基片表面镀制第一五氧化二铌膜层。
第一五氧化二铌膜层镀制完成后，镀上第一五氧化二铌膜层的玻璃基片进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为2×10-3mbar～7×10-3mbar，电压为400V～700V，Ar气量在150Sccm～400Sccm，O2气量在50Sccm～150Sccm，电压控制在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一五氧化二铌膜层表面镀制第一二氧化硅膜层。
第一二氧化硅膜层镀制完成后，镀上第一二氧化硅膜层的玻璃基片进入五氧化二铌靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为5×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为500V～900V，Ar气量在150Sccm～350Sccm，O2气量在100Sccm～350Sccm，电压控制在在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一二氧化硅膜层表面镀制第二五氧化二铌膜层。
第二五氧化二铌膜层镀制完成后，镀上第二五氧化二铌膜层的玻璃基片进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～8×10-3mbar，电压为400V-900V，Ar气量在150Sccm-350Sccm，O2气量在50Sccm-250Sccm，电压控制在400V-450V，通过中频交流磁控溅射法在第二五氧化二铌膜层表面镀制第二二氧化硅膜层。
粗砂、中砂、细砂均是白刚玉磨料颗粒、绿色金刚砂磨料颗粒中的一种或它们的混合物。
粗砂的粒度为170目(粒径为90微米)至625目(粒径为20微米)。
中砂的粒度为800目(粒径为19微米)至1600目(粒径为10微米)。
细砂的粒度为1800目(粒径为8微米)至7000目(粒径为1.25微米)。
优选地，
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目。
粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目。
粗砂、中砂、细砂先在蚀刻液中浸泡后再喷向所述玻璃基片的另一面上；或者，
粗砂、中砂、细砂混入蚀刻液同时喷向所述玻璃基片的另一面上。
粗砂的喷射压力为0.5～1kg/cm2。
粗砂的喷射时间为10～20s。
粗砂的的温度为10℃-15℃。
中砂的喷射压力为1～1.5kg/cm2。
中砂的喷射时间为10～20s。
中砂的的温度为15℃-20℃。
细砂的喷射压力为1.5～2kg/cm2。
细砂的喷射时间为50～60s。
蚀刻液的温度为20℃-25℃。
蚀刻液选自盐酸、氢氟酸、氟化氢铵、氟化钠、氟化铵、氟氢化钾、氟化钙、硝酸、浓硫酸、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾、氢氧化钠、氢氧化钙、硅酸钠、硅酸钙中的至少一种。
蚀刻液的喷射压力为3～5kg/cm2。
蚀刻液的喷射时间为20～30s。
蚀刻液的温度为50℃-60℃。
本发明的透防眩光减反射玻璃的生产方法与现有技术相比具有以下有益效果。
1、本技术方案由于采用了所述增透防眩玻璃的生产方法包括在一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层(方法简单)，或者，在一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层(方法简单)，或者，在对普通的玻璃基片的一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层的同时还对玻璃基片的另一面进行喷砂处理构成防眩光减反射凹凸面(大大降低了生产总成本，大大提高了生产效率)的技术手段，所以，该方法生产的增透防眩玻璃既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。
2、本技术方案由于采用了先对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层；再对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层；然后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层；最后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层(有利于提高光的透过率)；或者，先对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层；再对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层；然后，对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层；最后，对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层(有利于提高光的透过率)；或者，先对普通的玻璃基片的一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层，同时，用粗砂喷射该玻璃基片的另一面快速地构成粗毛防眩光减反射凹凸面；再对玻璃基片的一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层，同时，用中砂喷射玻璃基片的另一面快速地构成中毛防眩光减反射凹凸面；然后，对玻璃基片的一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层，同时，用细砂喷射玻璃基片的另一面构成细毛防眩光减反射凹凸面；最后，对玻璃基片的一面镀制第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层，同时，用蚀刻液喷射玻璃基片的另一面构成光滑防眩光减反射凹凸面(不但有利于提高光的透过率，而且，还可进一步提高生产效率)的技术手段，所以，有利于实现对具有增透和防眩光两种性能的玻璃的批量生产，制备方法简单，提高了砂的使用效率，节省原料，成本容易控制，不会对环境造成污染。
3、本技术方案由于采用了在真空条件下，通过磁控溅射方法依次将第一五氧化二铌膜层、第一二氧化硅膜层、第二五氧化二铌膜层、第二二氧化硅膜层层叠地镀制在玻璃基片的一面上；在生产过程中，通过玻璃基片构成真空腔室的密封壁；在生产过程中，玻璃基片处于斜置状态使增透减反射镀膜层朝下；玻璃基片与水平面之间的夹角为45度至85度；优选地，玻璃基片与水平面之间的夹角为60度；在更换靶料的同时更换砂料；玻璃作为原材料，经过切割、磨边、清洗制成玻璃基片；将玻璃基片放到设备的承载板上，设定传动速度为1m/s，进入五氧化二铌靶位，该靶为孪生靶。这时，该靶位所在真空室的真空度为4×10- 3mbar～9×10-3mbar，电压为800V～1100V，Ar气量在200Sccm～400Sccm，O2气量在50～Sccm150Sccm，通过中频交流磁控溅射法在玻璃基片表面镀制第一五氧化二铌膜层；第一五氧化二铌膜层镀制完成后，镀上第一五氧化二铌膜层的玻璃基片进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为2×10-3mbar～7×10-3mbar，电压为400V～700V，Ar气量在150Sccm～400Sccm，O2气量在50Sccm～150Sccm，电压控制在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一五氧化二铌膜层表面镀制第一二氧化硅膜层；第一二氧化硅膜层镀制完成后，镀上第一二氧化硅膜层的玻璃基片进入五氧化二铌靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为5×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为500V～900V，Ar气量在150Sccm～350Sccm，O2气量在100Sccm～350Sccm，电压控制在在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一二氧化硅膜层表面镀制第二五氧化二铌膜层；第二五氧化二铌膜层镀制完成后，镀上第二五氧化二铌膜层的玻璃基片进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～8×10-3mbar，电压为400V-900V，Ar气量在150Sccm-350Sccm，O2气量在50Sccm-250Sccm，电压控制在400V-450V，通过中频交流磁控溅射法在第二五氧化二铌膜层表面镀制第二二氧化硅膜层的技术手段，所以，制备的玻璃光污染的降低效果好，增透和防眩光两种材料的结合效果好，不易脱落，使用寿命长。
4、本技术方案由于采用了粗砂、中砂、细砂均是白刚玉磨料颗粒、绿色金刚砂磨料颗粒中的一种或它们的混合物；粗砂的粒度为170目(粒径为90微米)至625目(粒径为20微米)；中砂的粒度为800目(粒径为19微米)至1600目(粒径为10微米)；细砂的粒度为1800目(粒径为8微米)至7000目(粒径为1.25微米)的技术手段，所以，提高了喷砂工作效率，加工质量高，打磨均匀，玻璃边缘的处理效果好，平整度高。
5、本技术方案由于采用了优选地，粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目的技术手段，所以，大大提高了喷砂工作效率，加工质量更高，打磨更均匀，玻璃边缘的处理效果更好，平整度更高。
6、本技术方案由于采用了粗砂、中砂、细砂先在蚀刻液中浸泡后再喷向玻璃基片的另一面上；或者，粗砂、中砂、细砂混入蚀刻液同时喷向玻璃基片的另一面上；粗砂的喷射压力为0.5～1kg/cm2；粗砂的喷射时间为10～20s；粗砂的的温度为10℃-15℃；中砂的喷射压力为1～1.5kg/cm2；中砂的喷射时间为10～20s；中砂的的温度为15℃-20℃；细砂的喷射压力为1.5～2kg/cm2；细砂的喷射时间为50～60s；蚀刻液的温度为20℃-25℃的技术手段，所以，对温度的要求低，工艺简单，而且提高了玻璃的透光率，在400nm—700nm的透过率最小值和最大值的改善值分别达到2.25％和4.74％。
7、本技术方案由于采用了蚀刻液选自盐酸、氢氟酸、氟化氢铵、氟化钠、氟化铵、氟氢化钾、氟化钙、硝酸、浓硫酸、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾、氢氧化钠、氢氧化钙、硅酸钠、硅酸钙中的至少一种；蚀刻液的喷射压力为3～5kg/cm2；蚀刻液的喷射时间为20～30s；蚀刻液的温度为50℃-60℃的技术手段，所以，涂覆过程易控制，大大提高了玻璃的透光率。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明的增透防眩玻璃作进一步的详细描述。
图1为本发明增透防眩玻璃结构示意图。
图2为本发明增透防眩玻璃减反射面透过率平均值和镀膜前对比示意图(由表1中数据得到)。
图3为本发明增透减反射玻璃镀膜前后透过率改善对比示意图。
附图标记说明如下。
1～第一五氧化二铌膜层；
2～第一二氧化硅膜层；
3～第二五氧化二铌膜层；
4～第二二氧化硅膜层；
5～玻璃基片；
6～防眩膜层。
具体实施方式
如图1所示，本发明提供一种增透防眩玻璃，所述增透防眩玻璃包括玻璃基片5，所述玻璃基片5的一面有增透减反射镀膜层，所述玻璃基片5的另一面为防眩光减反射凹凸面，或者，所述玻璃基片5的另一面有防眩光减反射镀膜层6。
本实施方式由于采用了所述增透防眩玻璃包括玻璃基片，所述玻璃基片的一面有增透减反射镀膜层，所述玻璃基片的另一面为防眩光减反射凹凸面，或者，所述玻璃基片的另一面有防眩光减反射镀膜层的技术手段，所以，既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％(参见表1、图2和图3)，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。
如图1所示，本实施方式所述玻璃基片5的增透减反射镀膜层共有四层；所述玻璃基片5的增透减反射镀膜层从内向外依次为第一五氧化二铌膜层1、第一二氧化硅膜层2、第二五氧化二铌膜层3、第二二氧化硅膜层4；所述第一五氧化二铌膜层1的厚度为15nm～40nm；所述第一二氧化硅膜层2的厚度为15nm～40nm；所述第二五氧化二铌膜层3的厚度为30nm～70nm；所述第二二氧化硅膜层4的厚度为80nm～110nm；所述玻璃基片5的防眩光减反射凹凸面上的凹凸部分布均匀光滑圆钝；通过将所述玻璃基片5的防眩光减反射凹凸面划分为分别具有规定尺寸的微小部分并且测量各个所述微小部分中的所述凹凸部的谷中从最低部到最高部的高度而获得的数值群之中，6μm至8μm的数值部分占据了95％以上。
本实施方式由于采用了所述玻璃基片的增透减反射镀膜层共有四层；所述玻璃基片的增透减反射镀膜层从内向外依次为第一五氧化二铌膜层、第一二氧化硅膜层、第二五氧化二铌膜层、第二二氧化硅膜层；所述第一五氧化二铌膜层的厚度为15nm～40nm；所述第一二氧化硅膜层的厚度为15nm～40nm；所述第二五氧化二铌膜层的厚度为30nm～70nm；所述第二二氧化硅膜层的厚度为80nm～110nm；所述玻璃基片的防眩光减反射凹凸面上的凹凸部分布均匀光滑圆钝；通过将所述玻璃基片的防眩光减反射凹凸面划分为分别具有规定尺寸的微小部分并且测量各个所述微小部分中的所述凹凸部的谷中从最低部到最高部的高度而获得的数值群之中，6μm至8μm的数值部分占据了95％以上的技术手段，所以，可有效增加入射光的透射率，采光效果好(参见表1、图2和图3)。
如图1所示，本实施方式所述第一五氧化二铌膜层1的厚度为30nm；所述第一二氧化硅膜层2的厚度为30nm；所述第二五氧化二铌膜层3的厚度为50nm；所述第二二氧化硅膜层4的厚度为100nm。
本实施方式由于采用了所述第一五氧化二铌膜层的厚度为30nm；所述第一二氧化硅膜层的厚度为30nm；所述第二五氧化二铌膜层的厚度为50nm；所述第二二氧化硅膜层的厚度为100nm的技术手段，所以，大幅增加入射光的透射率，采光效果更好。
如图1所示，本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法如下：在一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片5的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层，或者，在一面有防眩光减反射镀膜层6的玻璃基片5的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层，或者，在对普通的玻璃基片5的一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层的同时还对玻璃基片5的另一面进行喷砂处理构成防眩光减反射凹凸面。
本实施方式由于采用了所述增透防眩玻璃的生产方法包括在一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层(方法简单)，或者，在一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层(方法简单)，或者，在对普通的玻璃基片的一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层的同时还对玻璃基片的另一面进行喷砂处理构成防眩光减反射凹凸面(大大降低了生产总成本，大大提高了生产效率)的技术手段，所以，该方法生产的增透防眩玻璃既具备良好的透光性能，保证高透射率和低反射率，玻璃的透过率提升达2％～5％，又具备防眩光功能，对蓝光的反射率高于对其他波段的可见光反射率，防眩效果好，可减少人眼疲劳，有利于在各类检测、观察、调节和控制等功能仪表的窗口，汽车定制仪表盘窗口，显示器保护屏，导航仪面板，电脑显示屏、工控Pad显示屏、军用装备户外等电子产品中的应用。
如图1所示，本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法中，先对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片5的另一面镀制第一五氧化二铌膜层1构成一层增透减反射镀膜层；再对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片5的另一面镀制第一二氧化硅膜层2构成双层增透减反射镀膜层；然后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片5的另一面镀制第二五氧化二铌膜层3构成三层增透减反射镀膜层；最后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片5的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层4构成四层增透减反射镀膜层；或者，先对一面有防眩光减反射镀膜层6的玻璃基片5的另一面镀制第一五氧化二铌膜层1构成一层增透减反射镀膜层；再对一面有防眩光减反射镀膜层6的玻璃基片5的另一面镀制第一二氧化硅膜层2构成双层增透减反射镀膜层；然后，对一面有防眩光减反射镀膜层6的玻璃基片5的另一面镀制第二五氧化二铌膜层3构成三层增透减反射镀膜层；最后，对一面有防眩光减反射镀膜层6的玻璃基片5的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层4构成四层增透减反射镀膜层；或者，先对普通的玻璃基片5的一面镀制第一五氧化二铌膜层1构成一层增透减反射镀膜层，同时，用粗砂喷射该玻璃基片5的另一面快速地构成粗毛防眩光减反射凹凸面；再对玻璃基片5的一面镀制第一二氧化硅膜层2构成双层增透减反射镀膜层，同时，用中砂喷射玻璃基片5的另一面快速地构成中毛防眩光减反射凹凸面；然后，对玻璃基片5的一面镀制第二五氧化二铌膜层3构成三层增透减反射镀膜层，同时，用细砂喷射玻璃基片5的另一面构成细毛防眩光减反射凹凸面；最后，对玻璃基片5的一面镀制第二二氧化硅膜层4构成四层增透减反射镀膜层，同时，用蚀刻液喷射玻璃基片5的另一面构成光滑防眩光减反射凹凸面。
本实施方式由于采用了先对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层；再对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层；然后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层；最后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层(有利于提高光的透过率)；或者，先对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层；再对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层；然后，对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层；最后，对一面有防眩光减反射镀膜层的玻璃基片的另一面镀制所述第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层(有利于提高光的透过率)；或者，先对普通的玻璃基片的一面镀制第一五氧化二铌膜层构成一层增透减反射镀膜层，同时，用粗砂喷射该玻璃基片的另一面快速地构成粗毛防眩光减反射凹凸面；再对玻璃基片的一面镀制第一二氧化硅膜层构成双层增透减反射镀膜层，同时，用中砂喷射玻璃基片的另一面快速地构成中毛防眩光减反射凹凸面；然后，对玻璃基片的一面镀制第二五氧化二铌膜层构成三层增透减反射镀膜层，同时，用细砂喷射玻璃基片的另一面构成细毛防眩光减反射凹凸面；最后，对玻璃基片的一面镀制第二二氧化硅膜层构成四层增透减反射镀膜层，同时，用蚀刻液喷射玻璃基片的另一面构成光滑防眩光减反射凹凸面(不但有利于提高光的透过率，而且，还可进一步提高生产效率)的技术手段，所以，有利于实现对具有增透和防眩光两种性能的玻璃的批量生产，制备方法简单，提高了砂的使用效率，节省原料，成本容易控制，不会对环境造成污染。
如图1所示，本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法在中，真空条件下，通过磁控溅射方法依次将第一五氧化二铌膜层1、第一二氧化硅膜层2、第二五氧化二铌膜层3、第二二氧化硅膜层4层叠地镀制在玻璃基片5的一面上；在生产过程中，通过玻璃基片5构成真空腔室的密封壁；在生产过程中，玻璃基片5处于斜置状态使增透减反射镀膜层朝下；玻璃基片5与水平面之间的夹角为45度至85度；优选地，玻璃基片5与水平面之间的夹角为60度；在更换靶料的同时更换砂料；玻璃作为原材料，经过切割、磨边、清洗制成玻璃基片5；将玻璃基片5放到设备的承载板上，设定传动速度为1m/s，进入五氧化二铌靶位，该靶为孪生靶。这时，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为800V～1100V，Ar气量在200Sccm～400Sccm，O2气量在50～Sccm150Sccm，通过中频交流磁控溅射法在玻璃基片5表面镀制第一五氧化二铌膜层1；第一五氧化二铌膜层1镀制完成后，镀上第一五氧化二铌膜层1的玻璃基片5进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为2×10-3mbar～7×10- 3mbar，电压为400V～700V，Ar气量在150Sccm～400Sccm，O2气量在50Sccm～150Sccm，电压控制在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一五氧化二铌膜层1表面镀制第一二氧化硅膜层2；第一二氧化硅膜层2镀制完成后，镀上第一二氧化硅膜层2的玻璃基片5进入五氧化二铌靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为5×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为500V～900V，Ar气量在150Sccm～350Sccm，O2气量在100Sccm～350Sccm，电压控制在在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一二氧化硅膜层2表面镀制第二五氧化二铌膜层3；第二五氧化二铌膜层3镀制完成后，镀上第二五氧化二铌膜层3的玻璃基片5进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～8×10-3mbar，电压为400V-900V，Ar气量在150Sccm-350Sccm，O2气量在50Sccm-250Sccm，电压控制在400V-450V，通过中频交流磁控溅射法在第二五氧化二铌膜层3表面镀制第二二氧化硅膜层4。
本实施方式由于采用了在真空条件下，通过磁控溅射方法依次将第一五氧化二铌膜层、第一二氧化硅膜层、第二五氧化二铌膜层、第二二氧化硅膜层层叠地镀制在玻璃基片的一面上；在生产过程中，通过玻璃基片构成真空腔室的密封壁；在生产过程中，玻璃基片处于斜置状态使增透减反射镀膜层朝下；玻璃基片与水平面之间的夹角为45度至85度；优选地，玻璃基片与水平面之间的夹角为60度；在更换靶料的同时更换砂料；玻璃作为原材料，经过切割、磨边、清洗制成玻璃基片；将玻璃基片放到设备的承载板上，设定传动速度为1m/s，进入五氧化二铌靶位，该靶为孪生靶。这时，该靶位所在真空室的真空度为4×10- 3mbar～9×10-3mbar，电压为800V～1100V，Ar气量在200Sccm～400Sccm，O2气量在50～Sccm150Sccm，通过中频交流磁控溅射法在玻璃基片表面镀制第一五氧化二铌膜层；第一五氧化二铌膜层镀制完成后，镀上第一五氧化二铌膜层的玻璃基片进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为2×10-3mbar～7×10-3mbar，电压为400V～700V，Ar气量在150Sccm～400Sccm，O2气量在50Sccm～150Sccm，电压控制在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一五氧化二铌膜层表面镀制第一二氧化硅膜层；第一二氧化硅膜层镀制完成后，镀上第一二氧化硅膜层的玻璃基片进入五氧化二铌靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为5×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为500V～900V，Ar气量在150Sccm～350Sccm，O2气量在100Sccm～350Sccm，电压控制在在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一二氧化硅膜层表面镀制第二五氧化二铌膜层；第二五氧化二铌膜层镀制完成后，镀上第二五氧化二铌膜层的玻璃基片进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～8×10-3mbar，电压为400V-900V，Ar气量在150Sccm-350Sccm，O2气量在50Sccm-250Sccm，电压控制在400V-450V，通过中频交流磁控溅射法在第二五氧化二铌膜层表面镀制第二二氧化硅膜层的技术手段，所以，制备的玻璃光污染的降低效果好，增透和防眩光两种材料的结合效果好，不易脱落，使用寿命长。
本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法中，粗砂、中砂、细砂均是白刚玉磨料颗粒、绿色金刚砂磨料颗粒中的一种或它们的混合物；粗砂的粒度为170目(粒径为90微米)至625目(粒径为20微米)；中砂的粒度为800目(粒径为19微米)至1600目(粒径为10微米)；细砂的粒度为1800目(粒径为8微米)至7000目(粒径为1.25微米)。
本实施方式由于采用了粗砂、中砂、细砂均是白刚玉磨料颗粒、绿色金刚砂磨料颗粒中的一种或它们的混合物；粗砂的粒度为170目(粒径为90微米)至625目(粒径为20微米)；中砂的粒度为800目(粒径为19微米)至1600目(粒径为10微米)；细砂的粒度为1800目(粒径为8微米)至7000目(粒径为1.25微米)的技术手段，所以，提高了喷砂工作效率，加工质量高，打磨均匀，玻璃边缘的处理效果好，平整度高。
本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法中，优选地，粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目。
本实施方式由于采用了优选地，粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为170目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为270目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为800目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为900目,细砂的粒度为7000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为1800目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为4000目；粗砂的粒度为625目,中砂的粒度为1600目,细砂的粒度为7000目的技术手段，所以，大大提高了喷砂工作效率，加工质量更高，打磨更均匀，玻璃边缘的处理效果更好，平整度更高。
如图1所示，本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法中，粗砂、中砂、细砂先在蚀刻液中浸泡后再喷向玻璃基片5的另一面上；或者，粗砂、中砂、细砂混入蚀刻液同时喷向玻璃基片5的另一面上；粗砂的喷射压力为0.5～1kg/cm2；粗砂的喷射时间为10～20s；粗砂的的温度为10℃-15℃；中砂的喷射压力为1～1.5kg/cm2；中砂的喷射时间为10～20s；中砂的的温度为15℃-20℃；细砂的喷射压力为1.5～2kg/cm2；细砂的喷射时间为50～60s；蚀刻液的温度为20℃-25℃。
本实施方式由于采用了粗砂、中砂、细砂先在蚀刻液中浸泡后再喷向玻璃基片的另一面上；或者，粗砂、中砂、细砂混入蚀刻液同时喷向玻璃基片的另一面上；粗砂的喷射压力为0.5～1kg/cm2；粗砂的喷射时间为10～20s；粗砂的的温度为10℃-15℃；中砂的喷射压力为1～1.5kg/cm2；中砂的喷射时间为10～20s；中砂的的温度为15℃-20℃；细砂的喷射压力为1.5～2kg/cm2；细砂的喷射时间为50～60s；蚀刻液的温度为20℃-25℃的技术手段，所以，对温度的要求低，工艺简单，而且提高了玻璃的透光率，在400nm—700nm的透过率最小值和最大值的改善值分别达到2.25％和4.74％。
本实施方式所述增透防眩玻璃的生产方法中，蚀刻液选自盐酸、氢氟酸、氟化氢铵、氟化钠、氟化铵、氟氢化钾、氟化钙、硝酸、浓硫酸、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾、氢氧化钠、氢氧化钙、硅酸钠、硅酸钙中的至少一种；蚀刻液的喷射压力为3～5kg/cm2；蚀刻液的喷射时间为20～30s；蚀刻液的温度为50℃-60℃。
本实施方式由于采用了蚀刻液选自盐酸、氢氟酸、氟化氢铵、氟化钠、氟化铵、氟氢化钾、氟化钙、硝酸、浓硫酸、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾、氢氧化钠、氢氧化钙、硅酸钠、硅酸钙中的至少一种；蚀刻液的喷射压力为3～5kg/cm2；蚀刻液的喷射时间为20～30s；蚀刻液的温度为50℃-60℃的技术手段，所以，涂覆过程易控制，大大提高了玻璃的透光率。
表1(共四页)为本申请人测得的不同可见光波段下防眩光玻璃镀膜前后透过率数值，表头中nm为可见光波段，玻璃面指防眩光玻璃的普通面镀膜前透过率数值，防眩光面指防眩光玻璃的防眩光减反射凹凸面镀膜前透过率数值，减反射面透过率平均值为防眩光玻璃镀膜后的减反射镀膜面均分成19块的平均透过率数值，(1至19)减反射面指防眩光玻璃镀膜后的减反射镀膜面均分成19块每一块的透过率数值。
表1(共四页)
Figure BDA0002139395610000241
Figure BDA0002139395610000251
Figure BDA0002139395610000261
Figure BDA0002139395610000271

Claims (2)

1.一种增透防眩玻璃，所述增透防眩玻璃包括玻璃基片(5)，其特征在于：所述玻璃基片(5)的一面有增透减反射镀膜层，所述玻璃基片(5)的另一面为防眩光减反射凹凸面；
所述玻璃基片(5)的增透减反射镀膜层共有四层；
所述玻璃基片(5)的增透减反射镀膜层从内向外依次为第一五氧化二铌膜层(1)、第一二氧化硅膜层(2)、第二五氧化二铌膜层(3)、第二二氧化硅膜层(4)；
所述第一五氧化二铌膜层(1)的厚度为30nm；
所述第一二氧化硅膜层(2)的厚度为30nm；
所述第二五氧化二铌膜层(3)的厚度为50nm；
所述第二二氧化硅膜层(4)的厚度为100nm；
所述玻璃基片(5)的防眩光减反射凹凸面上的凹凸部分布均匀光滑圆钝；
通过将所述玻璃基片(5)的防眩光减反射凹凸面划分为分别具有规定尺寸的微小部分并且测量各个所述微小部分中的所述凹凸部的谷中从最低部到最高部的高度而获得的数值群之中，6μm至8μm的数值部分占据了95％以上；
其中，所述防眩光减反射凹凸面通过对所述玻璃基片(5)进行喷砂处理而形成，在所述喷砂处理过程中，砂粒先在蚀刻液中浸泡后再喷向所述玻璃基片(5)，或者所述砂粒混入蚀刻液同时喷向所述玻璃基片(5)；
其中，所述砂粒包括粗砂、中砂和细砂，粗砂的喷射压力为0.5～1kg/cm2，粗砂的喷射时间为10～20s，粗砂的温度为10℃-15℃，中砂的喷射压力为1～1.5kg/cm2，中砂的喷射时间为10～20s，中砂的温度为15℃-20℃，细砂的喷射压力为1.5～2kg/cm2，细砂的喷射时间为50～60s，蚀刻液的温度为20℃-25℃，蚀刻液选自盐酸、氢氟酸、氟化氢铵、氟化钠、氟化铵、氟氢化钾、氟化钙、硝酸、浓硫酸、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾、氢氧化钠、氢氧化钙、硅酸钠、硅酸钙中的至少一种，蚀刻液的喷射压力为3～5kg/cm2，蚀刻液的喷射时间为20～30s，蚀刻液的温度为50℃-60℃。
2.一种增透防眩玻璃的生产方法，其特征在于：在一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片(5)的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层，或者，在对普通的玻璃基片(5)的一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层的同时还对玻璃基片(5)的另一面进行喷砂处理构成防眩光减反射凹凸面；
其中，所述在一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片(5)的另一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层，包括：
先对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片(5)的另一面镀制第一五氧化二铌膜层(1)构成一层增透减反射镀膜层；
再对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片(5)的另一面镀制第一二氧化硅膜层(2)构成双层增透减反射镀膜层；
然后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片(5)的另一面镀制第二五氧化二铌膜层(3)构成三层增透减反射镀膜层；
最后，对一面为防眩光减反射凹凸面的玻璃基片(5)的另一面镀制第二二氧化硅膜层(4)构成四层增透减反射镀膜层；
其中，所述在对普通的玻璃基片(5)的一面镀制膜层构成增透减反射镀膜层的同时还对玻璃基片(5)的另一面进行喷砂处理构成防眩光减反射凹凸面，包括：
先对普通的玻璃基片(5)的一面镀制第一五氧化二铌膜层(1)构成一层增透减反射镀膜层，同时，用粗砂喷射该玻璃基片(5)的另一面快速地构成粗毛防眩光减反射凹凸面；
再对玻璃基片(5)的一面镀制第一二氧化硅膜层(2)构成双层增透减反射镀膜层，同时，用中砂喷射玻璃基片(5)的另一面快速地构成中毛防眩光减反射凹凸面；
然后，对玻璃基片(5)的一面镀制第二五氧化二铌膜层(3)构成三层增透减反射镀膜层，同时，用细砂喷射玻璃基片(5)的另一面构成细毛防眩光减反射凹凸面；
最后，对玻璃基片(5)的一面镀制第二二氧化硅膜层(4)构成四层增透减反射镀膜层，同时，用蚀刻液喷射玻璃基片(5)的另一面构成光滑防眩光减反射凹凸面；
其中，在真空条件下，通过磁控溅射方法依次将第一五氧化二铌膜层(1)、第一二氧化硅膜层(2)、第二五氧化二铌膜层(3)、第二二氧化硅膜层(4)层叠地镀制在玻璃基片(5)的一面上；
在生产过程中，通过玻璃基片(5)构成真空腔室的密封壁；
在生产过程中，玻璃基片(5)处于斜置状态使增透减反射镀膜层朝下；
玻璃基片(5)与水平面之间的夹角为45度至85度；
在更换靶料的同时更换砂料；
玻璃作为原材料，经过切割、磨边、清洗制成玻璃基片(5)；
将玻璃基片(5)放到设备的承载板上，设定传动速度为1m/s，进入五氧化二铌靶位，该靶为孪生靶，这时，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为800V～1100V，Ar气量在200Sccm～400Sccm，O2气量在50～Sccm150Sccm，通过中频交流磁控溅射法在玻璃基片(5)表面镀制第一五氧化二铌膜层(1)；
第一五氧化二铌膜层(1)镀制完成后，镀上第一五氧化二铌膜层(1)的玻璃基片(5)进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为2×10-3mbar～7×10-3mbar，电压为400V～700V，Ar气量在150Sccm～400Sccm，O2气量在50Sccm～150Sccm，电压控制在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一五氧化二铌膜层(1)表面镀制第一二氧化硅膜层(2)；
第一二氧化硅膜层(2)镀制完成后，镀上第一二氧化硅膜层(2)的玻璃基片(5)进入五氧化二铌靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为5×10-3mbar～9×10-3mbar，电压为500V～900V，Ar气量在150Sccm～350Sccm，O2气量在100Sccm～350Sccm，电压控制在400V～450V，通过中频交流磁控溅射法在第一二氧化硅膜层(2)表面镀制第二五氧化二铌膜层(3)；
第二五氧化二铌膜层(3)镀制完成后，镀上第二五氧化二铌膜层(3)的玻璃基片(5)进入硅靶靶位处，该靶位所在真空室的真空度为4×10-3mbar～8×10-3mbar，电压为400V-900V，Ar气量在150Sccm-350Sccm，O2气量在50Sccm-250Sccm，电压控制在400V-450V，通过中频交流磁控溅射法在第二五氧化二铌膜层(3)表面镀制第二二氧化硅膜层(4)；
其中，所述防眩光减反射凹凸面通过对所述玻璃基片(5)进行喷砂处理而形成，在所述喷砂处理过程中，砂粒先在蚀刻液中浸泡后再喷向所述玻璃基片(5)，或者所述砂粒混入蚀刻液同时喷向所述玻璃基片(5)；
其中，所述砂粒包括粗砂、中砂和细砂，粗砂的喷射压力为0.5～1kg/cm2，粗砂的喷射时间为10～20s，粗砂的温度为10℃-15℃，中砂的喷射压力为1～1.5kg/cm2，中砂的喷射时间为10～20s，中砂的温度为15℃-20℃，细砂的喷射压力为1.5～2kg/cm2，细砂的喷射时间为50～60s，蚀刻液的温度为20℃-25℃，蚀刻液选自盐酸、氢氟酸、氟化氢铵、氟化钠、氟化铵、氟氢化钾、氟化钙、硝酸、浓硫酸、硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾、氢氧化钠、氢氧化钙、硅酸钠、硅酸钙中的至少一种，蚀刻液的喷射压力为3～5kg/cm2，蚀刻液的喷射时间为20～30s，蚀刻液的温度为50℃-60℃。
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