CN110272210A - 产生防眩光表面的方法和设备 - Google Patents

Abstract

产生防眩光表面的设备可分别包含浸渍槽和多个分配端口，所述多个分配端口位于浸渍槽中并且沿着制品接收区域的至少一个外周侧的投影间隔开。从所述多个分配端口中的每个分配端口延伸的合成分配方向可包含向制品接收区域内部延伸的第一方向分量。在另外的实施方式中，产生防眩光表面的方法可包括沿着合成分配方向分配蚀刻浆料流，所述合成分配方向包括向浸渍槽的制品接收区域内部延伸的第一方向分量。所述方法还可包括当制品浸没在蚀刻浆料的自由表面下方时，利用蚀刻浆料使放入到制品接收区域中的制品的暴露表面区域粗糙化。

Description

产生防眩光表面的方法和设备

本公开一般涉及用于表面粗糙化的方法和设备，更具体地，涉及用于生产防眩光玻璃的方法和设备。

背景技术

由于触摸屏的广泛应用，特别是用于大尺寸互动电视、电子白板、户外触摸屏和手持式触摸屏，因此防眩光玻璃近来引起了越来越多的关注。防眩光性质通常通过在玻璃上建立织构化表面来提供。织构化表面通过无规散射反射光减少了光的反射。织构化表面可通过各种方法产生，例如喷砂、表面涂覆、等离子体蚀刻、湿化学蚀刻和丝网印刷。一些方法可能过于昂贵而难以放大用于大量生产。而其他方法可能产生有限的表面织构或粗糙度。闪耀可能也与由一些方法产生的织构化表面有关。闪耀被视为是使用防眩光玻璃的显示器上的图像的闪烁。

发明内容

列出了有助于产生具有低水平闪耀的防眩光表面的方法和设备。可以在浸渍槽中设置多个分配端口以产生多个蚀刻浆料流，其促进蚀刻浆料的混合，并由此提供浆料中的不溶物质的更好分布，否则所述不溶物质可能沉降到浸渍槽的制品接收区域的底部。由于不溶物质在由多个蚀刻浆料流提供的蚀刻浆料中均匀分布，因此可避免可能导致不期望的闪耀的不均匀蚀刻、点蚀和其他不良属性。

以下描述了本公开的一些示例性实施方式，同时应理解任意实施方式可以单独使用或彼此组合使用。

实施方式1。一种产生防眩光表面的设备。所述设备可包含浸渍槽。浸渍槽可包含制品接收区域，其沿着浸渍槽的制品放入方向延伸。垂直于制品放入方向截取的制品接收区域的横截面区域可包含至少一个外周侧。所述至少一个外周侧在制品放入方向上的投影(projection)限定(circumscribe)制品接收区域。所述设备还可包含多个分配端口，其位于浸渍槽内并且沿着所述至少一个外周侧的投影间隔开。从所述多个分配端口中的每个分配端口延伸的合成分配方向(resultant dispensing direction)可包含向制品接收区域内部延伸的第一方向分量。

实施方式2。如实施方式1所述的设备，其中，合成分配方向以与垂直于制品放入方向的平面成约30°至约80°的角延伸。

实施方式3。如实施方式1和2中任一项所述的设备，其中，多个分配端口包含分配端口的第一回路和分配端口的第二回路。

实施方式4。如实施方式3所述的设备，其中，从分配端口的第一回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

实施方式5。如实施方式3和4中任一项所述的设备，其中，从分配端口的第二回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在与制品放入方向相反的制品取出方向上延伸的第二方向分量。

实施方式6。如实施方式3-5中任一项所述的设备，其中，多个分配端口包含分配端口的第三回路。

实施方式7。如实施方式6所述的设备，其中，从分配端口的第三回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

实施方式8。如实施方式1-7中任一项所述的设备，还包含子槽和泵送单元，所述泵送单元与浸渍槽和子槽流体连接。

实施方式9。如实施方式8所述的设备，还包含在子槽中的搅拌器。

实施方式10。如实施方式1-9中任一项所述的设备，还包含制品载体，调整其尺寸以使其被容纳在制品接收区域中。可调整制品载体的尺寸以通过在制品放入方向上移动制品载体而被放入到制品接收区域中。

实施方式11。一种利用浸渍槽产生防眩光表面的方法，所述浸渍槽包含制品接收区域，所述制品接收区域沿着浸渍槽的制品放入方向延伸。垂直于制品放入方向截取的制品接收区域的横截面区域可包含至少一个外周侧，其中，所述至少一个外周侧在制品放入方向上的投影限定制品接收区域。所述方法可包括沿着由多个分配端口中的每个分配端口得到的合成分配方向分配蚀刻浆料流，所述多个分配端口位于浸渍槽内并且沿着所述至少一个外周侧的投影间隔开。每个合成分配方向可包括向制品接收区域内延伸的第一方向分量。所述方法还可包括将制品以制品放入方向放入到制品接收区域中。可将制品浸没在位于浸渍槽内的蚀刻浆料的自由表面下方。所述方法还可包括当制品浸没在蚀刻浆料的自由表面下方时，利用蚀刻浆料使制品的暴露表面区域粗糙化。

实施方式12。如实施方式11所述的方法，还包括从制品接收区域中取出制品的步骤。

实施方式13。如实施方式11和12中任一项所述的方法，其中，沿着由多个分配端口中的每个分配端口得到的合成分配方向分配蚀刻浆料流在放入制品之前，放入制品期间，放入制品之后和/或使暴露的表面区域粗糙化期间进行。

实施方式14。如实施方式11-13中任一项所述的方法，其中，合成分配方向以与垂直于制品放入方向的平面成约30°至约80°的角延伸。

实施方式15。如实施方式11-14中任一项所述的方法，其中，多个分配端口包含分配端口的第一回路和分配端口的第二回路。

实施方式16。如实施方式15所述的方法，其中，分配端口的第一回路和分配端口的第二回路中的每个回路的分配端口设置在浸渍槽内的蚀刻浆料的深度的上部33％下方。

实施方式17。如实施方式15和16中任一项所述的方法，其中，从分配端口的第一回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

实施方式18。如实施方式15-17中任一项所述的方法，其中，从分配端口的第二回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在与制品放入方向相反的制品取出方向上延伸的第二方向分量。

实施方式19。如实施方式15-18中任一项所述的方法，其中，多个分配端口包含分配端口的第三回路。

实施方式20。如实施方式19所述的方法，其中，从分配端口的第三回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

实施方式21。如实施方式11-20中任一项所述的方法，还包括将蚀刻浆料从子槽泵送到浸渍槽。

实施方式22。如实施方式21所述的方法，还包括在子槽中搅拌蚀刻浆料。

附图说明

参照附图阅读下文的具体实施方式，可以更好地理解本公开的实施方式的上述特征和优点以及其他特征和优点，其中：

图1为根据本公开的实施方式的产生防眩光表面的设备的示意图，其中，制品位于设置在浸渍槽中的蚀刻浆料的自由表面上方；

图2为图1的产生防眩光表面的设备的另一个示意图，其中，制品浸没在蚀刻浆料的自由表面下方；

图3为图1和2所示的示例性分配设备的透视图；

图4为沿着图1的线4-4的浸渍槽和分配设备的顶视图；

图5为沿着图4的线5-5截取的浸渍槽和分配设备的截面端视图；

图6为沿着图4的线6-6截取的浸渍槽和分配设备的截面侧视图；

图7为例示了用于产生防眩光表面的方法的示例性流程图；

图8为例示了在浸渍槽中使用及不使用分配设备的情况下，测量浸渍槽的不同区域中的固体含量的实验结果图；以及

图9为例示了图8实验的标准偏差的图。

具体实施方式

在此将参照附图更完整地描述各实施方式，附图中给出了示例性实施方式。只要有可能，在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。但是，权利要求可以包含各个实施方式，并且不应被理解成受限于本文提出的实施方式。

本公开的设备和方法的实施方式可产生防眩光表面，并且可应用于具有受眩光影响的表面的材料(例如，玻璃)。可以被加工的材料的其他实例为玻璃陶瓷及其他结晶材料，以及一般而言，表面可用蚀刻浆料蚀刻而粗糙化的材料。利用蚀刻浆料进行的蚀刻可用于在玻璃或其他材料上建立织构化表面。至少在玻璃的情况中，织构化表面可对玻璃提供防眩光性质。本公开的方法和设备不限于防眩光玻璃的生产，而是可应用于其他材料及可利用蚀刻浆料蚀刻而粗糙化的材料。

图1示意性地例示了用于使制品103(例如一片或多片玻璃片)产生防眩光表面的设备101的一个示例性实施方式。设备101可包含浸渍槽105以使蚀刻浆料121容纳在浸渍槽105的内部区域109中。设备101还可包含设置在浸渍槽105的内部区域109中的分配设备107以在浸渍槽105中混合蚀刻浆料121。在一些实施方式中，用于产生防眩光表面的设备101可包含浸渍槽105和分配设备107而没有图1例示的其他特征。在另外的实施方式中，设备101可被认为是浸渍槽105、分配设备107和图1中例示或未例示的一个或多个另外特征。

如图4所示，浸渍槽105的内部109可包含用假想线表示的制品接收区域401。如图5和6所示，制品接收区域401可在浸渍槽105的制品放入方向501上延伸。出于本申请的目的，制品接收区域401被认为是当以制品放入方向501(例如例示的线性制品放入方向501)放入时，可容纳制品103、制品载体111和/或制品架127而不物理接触分配设备107的内部109的区域。如图4所示，垂直于制品放入方向501截取(例如沿着图5和6中的平面503)的制品接收区域401的横截面区域403可包含至少一个外周侧404a-d。制品接收区域401的横截面区域403沿着制品接收区域401的长度在制品放入方向501上可以是恒定的，并且可包含一定的覆盖面积(footprint)，该覆盖面积大于制品103、制品载体111和/或制品架127的相应的横截面区域的最大覆盖面积。因此，可将制品103、制品载体111和/或制品架127以制品放入方向501放入而不物理接触分配设备107。如图5和6所示，对应于上述横截面区域403的覆盖面积的横截面区域403的所述至少一个外周侧404a-d的投影405a-d可以在制品放入方向501和/或与制品放入方向501相反的制品取出方向502上延伸。如图所示，所述至少一个外周侧404a-d在制品放入方向501上的投影405a-d可限定制品接收区域401。如图4所示，制品接收区域401的横截面区域403的外周侧404a-d可限定可包含各种形状的封闭区域。例如，外周侧可形成曲线形状(如长椭圆形、圆形)；多边形(如三角形、矩形)或其他形状。例如，如在图4的示例性实施方式中所示，外周侧404a-d可包含矩形形状，该矩形形状包含平行的第一和第二侧404a、404b，它们与平行的第三和第四侧404c、404d垂直。提供具有矩形外周侧404a-d的制品接收区域401可被设计成容纳如图1示意性所示的设计用于支承制品103(例如一片或多片玻璃片)的制品载体111和/或制品架127。在一些实施方式中，制品载体111可以在几何结构上类似于并小于由制品接收区域401的外周侧404a-d所限定的形状，以允许在不干扰分配设备107的其他部件(例如分配端口)的情况下，通过将制品以制品放入方向501放入而浸渍更多数目的制品。

参考图4，分配设备107还可包含多个分配装置407，每个分配装置407包含至少一个分配端口409，以使得多个分配端口409可以位于浸渍槽105内并且沿着所述至少一个外周侧404a-d的投影405a-d间隔开。在一些实施方式中，如图4中的示例性分配端口409所示，分配端口可包含在管端部处的开口。因此，在例示的实施方式中，每个分配装置407可包含分配管410，其中在分配管410的端部处具有开口，所述分配管410包含分配装置407的分配端口409。在例示的实施方式中，垂直于分配管410的对称纵轴截取的内部横截面沿着分配管410的长度可以基本上是相同的。虽然未示出，但是在一些实施方式中，可以使内部路径成形为产生通过分配管410到达管端部处的开口的流体喷射流。在另外的实施方式中，如图所示，分配管410可以包含一个或多个侧开口408。如果提供侧开口408，则其可允许来自浸渍槽105的蚀刻浆料与流经分配管410的蚀刻浆料混合。例如，在操作时，流经分配管410的蚀刻浆料可因为文丘里效应(Venturi effect)而在侧开口408处造成压力下降。压力下降使得从浸渍槽105中汲取蚀刻浆料，通过侧开口408并进入分配管410的内部，以在离开分配端口409之前被夹带及进一步混合。虽然未要求，但是侧开口408可有助于使浸渍槽105中的蚀刻浆料进一步均化。

在一些实施方式中，多个分配端口中的一组端口可沿着制品接收区域401的所述至少一个外周侧的投影的长度间隔开。虽然未示出，但是一个或多个侧可以仅包含一个分配端口或不具有分配端口。在一些实施方式中，多个分配端口的一组端口可沿着制品接收区域的每个侧面投影的长度间隔开，但是多个分配端口可以沿着小于所有制品接收区域的侧面投影间隔开。例如，如图4所示，多个分配端口409可包含第一组分配端口411，其沿着第一外周侧404a的投影405a的长度间隔开；第二组分配端口413，其沿着第二外周侧404b的投影405b的长度间隔开；第三组分配端口415，其沿着第三外周侧404c的投影405c的长度间隔开；以及第四组分配端口417，其沿着第四外周侧404d的投影405d的长度间隔开。提供沿着制品接收区域每侧的长度间隔开的多个分配端口可有助于增强蚀刻浆料121的均化，并且提供从制品接收区域401的每侧接近的蚀刻浆料流。

在一些实施方式中，多个分配端口409可任选地包含分配端口的多个回路，其彼此平行连接。虽然可以提供分配端口的两个或更多个回路，但是在另外的实施方式中，可以替换性地提供分配端口的单个回路。在一些实施方式中，如图1、3、5和6所示，多个分配端口409可被设置成分配端口的第一回路113、分配端口的第二回路115和分配端口的第三回路117。共用流体供给线119可以连接如图1所示的彼此平行的分配端口的多个回路113、115、117。由于各回路平行连接，因此可使通过共用流体供给线119的蚀刻剂浆料分开，以使部分蚀刻剂浆料通过多个回路113、115、117中的每个回路。提供多个回路可允许蚀刻剂浆料流正中(target)浸渍槽105的不同深度或重叠深度。

在一些实施方式中，每个回路113、115、117可提供分配端口，所述分配端口通过限定制品接收区域401的流体路径而彼此连接。例如，如图3、5和6所示，分配端口409的第一回路113可通过限定制品接收区域401的第一管道301连接。分配端口409的第二回路115可通过同样限定制品接收区域401的第二管道303连接。更进一步，分配端口409的第三回路117可通过同样限定制品接收区域401的第三管道305连接。如图3和5所示，每个回路113、115、117可配备相应的进口端口307以与共用流体供给线119流体连接。

如图3所示，每个分配端口409可以有助于限定由分配装置407提供的合成分配方向309。出于本申请的目的，合成分配方向可以是通过浸没在水主体的自由表面下方的分配端口的水层流的合成向量。因此，通过实验或计算机建模，可以将从分配端口中流出来的每个部分的流体的流动向量相加以获得流经分配端口的流体的合成流动向量，其中，合成流动向量的合成方向向量可被认为是合成分配方向。在一些实施方式中，如果分配装置407包含线性圆柱管410并且分配端口409具有垂直于该线性圆柱管410的线性对称轴的横截面，则合成分配方向可包含管410的线性对称轴方向。

如图5和6所示，在一些实施方式中，从多个分配端口中的每个分配端口409延伸的合成分配方向309可包含向制品接收区域401内部延伸的第一方向分量309a。提供向制品接收区域401内部延伸的每个第一方向分量309a可以有助于引导蚀刻浆料121以朝向放置于制品接收区域401中的制品的方向彻底混合。由此，无机材料可以更彻底地混合并分布在整个蚀刻浆料121中，并且将混合的蚀刻浆料121引入制品接收区域401内的制品103，以在制品接收区域401内对制品提供一致的蚀刻。

如图5和6进一步所示，在一些实施方式中，从多个分配端口中的每个分配端口409延伸的合成分配方向309可包含第二方向分量309b，其以制品放入方向501延伸或者以与制品放入方向501相反的制品取出方向502延伸。在一些实施方式中，回路113、115、117中的一个或多个回路可包含至少一个具有第二分量的分配端口，该第二分量在制品放入方向上延伸；以及包含至少另一个具有第二分量的分配端口，该第二分量在制品取出方向上延伸。在另外的实施方式中，如图所示，每个回路113、115、117的分配端口409的对应第二方向分量309b可全部在制品放入方向501上延伸或全部在制品取出方向502上延伸。

以相同的方向延伸每个回路113、115、117的所有分配端口的第二方向分量309b可有助于在槽中的蚀刻浆料121的整个深度“D”中的各个深度位置正中混合目标。由于重力作用，因此认为不溶性物质倾向于沉降到浸渍槽105的下部。为了避免不溶性物质不成比例地积聚于浸渍槽105的底部，分配端口的第三回路117中的至少一些或所有的分配端口的第二方向分量309b可以制品放入方向501延伸。来自第三回路117的分配端口409的蚀刻浆料的向下引导的流可有效地将不溶性物质从浸渍槽105的底部扫除并且促进浸渍槽105中的蚀刻剂浆料流，这可有效地将不溶性物质向浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度“D”的中心深度带“D1”抬升。在一些实施方式中，分配端口409可位于下部深度带“D2”中，该下部深度带“D2”可以为蚀刻浆料的深度“D”的最下部的25％。

为了进一步提升不溶性物质(例如利用分配端口的第三回路117提升的不溶性物质)以及混合蚀刻浆料121中的不溶性物质，分配端口的第二回路115中的至少一些或所有的分配端口的第二方向分量309b可以制品取出方向502延伸，所述制品取出方向502可以与制品放入方向501相反。如图所示，在一些实施方式中，分配端口的第二回路115中的分配端口409可分别位于中心深度带“D1”中，所述中心深度带“D1”位于浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度“D”的上部33％下方。在一些实施方式中，如图所示，中心深度带“D1”位于浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度“D”的上部33％下方并且位于深度“D”的下部33％的上方。来自第二回路115的分配端口409的蚀刻浆料的向上引导的流可有效地促进包含不溶性物质的蚀刻物质流流动到浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度“D”的上部33％。

为了进一步混合蚀刻浆料121中的不溶性物质并且使蚀刻浆料121循环回浸渍槽105中的蚀刻浆料121的下部深度，分配端口的第一回路113中的至少一些或所有的分配端口409的第二方向分量309b可以制品放入方向501延伸。如图所示，在一些实施方式中，分配端口的第一回路113中的分配端口409可分别位于中心深度带“D1”中，所述中心深度带“D1”位于浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度“D”的上部33％下方。在一些实施方式中，如图所示，中心深度带“D1”可位于浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度“D”的上部33％下方并且位于深度“D”的下部33％的上方。来自第一回路113的分配端口409的蚀刻浆料的向下引导的流可有效地促进包含不溶性物质的蚀刻物质流从蚀刻浆料121的深度“D”的上部33％流向浸渍槽105的下部深度。

如图5和6所示，在一些实施方式中，来自第一回路113的分配端口409与来自第二回路115的分配端口409在垂直于制品放入方向501的方向上可横向不对齐。提供横向不对齐可避免蚀刻浆料的相反方向流的直接冲突，从而促进蚀刻浆料在彼此横向相反的方向上的流动，由此使一些蚀刻浆料在蚀刻浆料的相反流之间循环以提供蚀刻浆料中的不溶性物质的混合。

参考图5和6，在一些实施方式中，多个分配端口中的每个分配端口409的每个合成分配方向309可以与垂直于制品放入方向501的平面503成约30°至约80°的角延伸。在一些实施方式中，如图5所示，第一回路113、第二回路115和第三回路117中的分配端口的第一组411和第二组413中的每个分配端口409，其每个合成分配方向309可以角“A”延伸，所述角“A”在约30°至约80°范围内，例如约60°至约80°，例如约80°。如图所示，分配端口的第一组411和第二组413中的每个分配端口409的每个合成分配方向309的角“A”可以相同的角“A”延伸，但是在另外的实施方式中可以提供不同的角。将角“A”增加到约60°至约80°的范围，例如增加到约80°可增加沿着第二方向分量309b(即制品放入方向501或制品取出方向502)传送的蚀刻浆料流的量，同时还增加制品接收区域401的尺寸。

在一些实施方式中，如图6所示，第一回路113、第二回路115和第三回路117中的分配端口的第三组415和第四组417中的每个分配端口409，其每个合成分配方向309可以角“B”延伸，所述角“B”在约30°至约80°范围内，例如约30°至约60°，例如约45°。如图所示，分配端口的第三组415和第四组417中的每个分配端口409的每个合成分配方向309的角“B”可以相同的角“B”延伸，但是在另外的实施方式中可以提供不同的角。将角“B”减小到约30°至约60°的范围，例如减小到约45°可增加沿着第一方向分量309a(即朝向制品接收区域401内的方向)传送的蚀刻浆料流的量。

如图1所示，提供制品载体111并调整其尺寸以使其以制品放入方向501移动而被容纳在如图2所示的制品接收区域401中。事实上，制品载体111的外框可小于如图4所示的制品接收区域401，以使制品载体111可放入到制品接收区域401中。制品载体111可以制品放入方向501移动，以使得制品载体111的安装表面125从浸渍槽105的外部(见图1)，移动通过浸渍槽105的上部中的开口，蚀刻浆料121的自由表面123下方，通过制品接收区域401的上部开口并进入如图2所示的制品接收区域401。

在一些实施方式中，可将制品保持器(例如制品架127)安装于制品载体111以允许制品载体111运载制品103(即一个或多个制品)。例如，如图所示，制品架127可支承制品103(例如一片或多片玻璃片)并且可以任选地安装于安装表面125以与制品载体111一起移动。

如图1和2所示，设备101可任选地包含子槽129，其可含有蚀刻浆料121。泵送单元可流体连接于浸渍槽105和子槽129以在浸渍槽105与子槽129之间提供流体循环。在一些实施方式中，泵送单元可包含单个或多个流体泵。例如，如图1和2所示，泵送单元可包含第一浆料泵131，其可以从与浸渍槽105的排出口流体连接的排出线135中汲取蚀刻浆料，并且使蚀刻浆料通过流动线137和共用流体供给线119，以利用分配设备107在浸渍槽105中得到分配。

排出线135还可使蚀刻浆料121从浸渍槽105回到子槽129。在排出线135中可以设置阀139，如果存在阀139，则其用于控制从蚀刻浆料浸渍槽105的排出线135中排出进入到蚀刻浆料子槽129的蚀刻浆料121的量。在一些实施方式中，可关闭阀139以使所有的蚀刻浆料121通过第一浆料泵131和分配设备107自循环回浸渍槽105。如关于浸渍槽105所使用的术语“自循环”意为蚀刻浆料从浸渍槽105泵送回到浸渍槽105中。在另外的实施方式中，阀139可以部分或完全地开启以将来自浸渍槽105的排出口的至少一部分蚀刻浆料排出到子槽129。

在一些实施方式中，泵送单元还可包含至少一个第二浆料泵133。如图1和2所示，可设置所述至少一个第二浆料泵133以将蚀刻浆料121从子槽129泵送到蚀刻浆料浸渍槽105。在一些实施方式中，所述至少一个第二浆料泵133还可在子槽129中自循环蚀刻浆料121的浆料。如关于子槽129所使用的术语“自循环”意为蚀刻浆料从子槽129泵送回到子槽129中。将蚀刻浆料121泵送到蚀刻浆料浸渍槽105以及蚀刻浆料121的浆料在子槽129中的自循环可以同时进行或者可以不同时进行。

所述至少一个第二浆料泵133可以具有一个或多个泵。出于例示的目的，在图1和2中，所述至少一个第二浆料泵133用单个第二浆料泵141示出。在该实例中，第二浆料泵141的抽吸端143通过流动线145与子槽129连接，而第二浆料泵141的排放端147通过流动线149、151分别与浸渍槽105和子槽129连接。阀153可以位于流动线149、151中以决定蚀刻浆料浸渍槽105与蚀刻浆料子槽129中的哪一者将在任意给定的时间接收来自泵排放端147的蚀刻浆料。如果在所述至少一个第二浆料泵133中包括不止一个泵，则一个泵可专用于将蚀刻浆料121从子槽129泵送到蚀刻浆料浸渍槽105，而另一个泵可专用于蚀刻浆料121在子槽129中的自循环。如在示例性实施方式中所示，可将流动线149设计成将蚀刻浆料121从子槽129引入到浸渍槽105而不经过分配设备107。虽然未示出，但是在一些实施方式中，流动线149可与共用流体供给线119连接以通过分配设备107将流体从子槽129引入到浸渍槽105。在另外的实施方式中，可以提供阀以使从子槽129到浸渍槽105的流动分流或者允许选择性流动，从而选择性流动直接被引到子槽129(即，没有分配设备107)或者允许通过分配设备107将选择性流动引入到子槽129。

任选地，子槽129可以包含搅拌器155以搅拌子槽129中的蚀刻浆料121。搅拌器155可以是机械装置，例如桨、叶轮，其可以围绕转轴旋转以搅拌并由此混合子槽129中的蚀刻浆料121。发动机157可以连接于搅拌器155以提供搅拌器155的旋转。

蚀刻浆料121在子槽129中的自循环以及搅拌器155的运动均可起到均化子槽129中的蚀刻浆料121的作用。然后可在所需的时间将该均化的蚀刻浆料121转移到蚀刻浆料浸渍槽105。另外，分配设备107可进一步均化浸渍槽105中的蚀刻浆料121以提供均匀的蚀刻流体组合物，该均匀的蚀刻流体组合物用于对浸渍在浸渍槽105中的制品表面进行均匀蚀刻。

可以设置过滤器159以移除在蚀刻浆料121循环期间形成的大颗粒和附聚物。过滤器159可以包括一个或多个过滤器，其由材料例如尼龙或其他合适的过滤器材料制成。在设备101中存在用于过滤器159的各个合适位置。一个实例为蚀刻浆料121从浸渍槽105排出进入子槽129的点处。另一个实例可以为刚好在蚀刻浆料121进入浸渍槽105之前。虽然未示出，但是在一些实施方式中，在共用流体供给线119中可以提供类似的过滤器以在用分配设备107将物质分配回浸渍槽105之前，过滤从浸渍槽105中排出的物质。

可以设置温度传感器161以感应子槽129中的蚀刻浆料121的温度。可以设置一个或多个加热装置163以在需要时向子槽129提供热，从而使子槽129中的蚀刻浆料121的温度保持在适于使蚀刻浆料对玻璃进行蚀刻的所需范围。可以利用温度传感器161的输出控制加热装置163。例如，控制器单元165可以接收来自温度传感器161的数据，并接着将适当的命令发送到加热装置163以调整加热装置163的输出。还可以使用冷却装置以有助于保持蚀刻浆料的所需温度范围。

图7为例示了针对制品103产生防眩光表面的方法的示例性流程图701。在703处可开始各种方法，例如由制品103(如单个制品或多个制品)开始。在一些实施方式中，具有一个或多个表面区域的制品被粗糙化(例如以提供防眩光表面)。在一些实施方式中，所述制品可包含玻璃制品、玻璃陶瓷制品。例如，在一些实施方式中，所述制品可包含玻璃片或玻璃陶瓷片。在一些实施方式中，制品可在没有任何实质防眩光性质的情况下开始于703。在另外的实施方式中，开始于703的制品可任选地在之前未用离子交换工艺强化的情况下开始，这是因为使制品表面粗糙化可降低利用离子交换工艺所获得的益处。

如箭头704所指示的，在一个实施方式中，所述方法可继续到步骤705：利用如上文关于图1-6所更完整论述的浸渍槽105产生防眩光表面。如上所述，浸渍槽105可包含制品接收区域401，其沿着浸渍槽105的制品放入方向501延伸。如前文所述及图4所示，垂直于制品放入方向501截取的制品接收区域401的横截面403可包含所述至少一个外周侧404a-d。如上文参考图5和6进一步论述的，所述至少一个外周侧404a-d在制品放入方向501上的投影405a-d限定制品接收区域401。

步骤705可包括将制品103以制品放入方向501放入到制品接收区域401中。如图2所示，一旦放入制品103，则制品103可浸没在位于浸渍槽105内的蚀刻浆料121的自由表面123下方。本公开的实施方式可提供制品103，其可包含单个制品，但是制品103可包含所例示的多个制品。在一些实施方式中，可例如用制品载体111放入制品。

步骤705还包括当制品103浸没(即至少部分或完全浸没)在蚀刻浆料的自由表面123下方时，利用蚀刻浆料121使制品103的暴露表面区域粗糙化。可以取决于待被蚀刻的制品103的组成，蚀刻浆料可以包含各种组合物。在一些实施方式中，蚀刻浆料121可包含悬浮在蚀刻剂中的不溶性盐或填料。在一些实施方式中，蚀刻浆料121可以包含多种氟盐、一些不溶性盐和一些可溶性盐。在一些实施方式中，这些盐可以溶解或悬浮于无机酸中以形成蚀刻浆料。氟盐可以为蚀刻浆料中的主要蚀刻剂，并且可用于对玻璃制品的暴露表面区域进行蚀刻及粗糙化。蚀刻浆料121的一个实例由以下物质组成：作为氟化物盐的10-20重量％氟化铵(NH₄F)和二氟化氢铵(NH₄HF₂)；作为另外的盐的0-10重量％硝酸钾(KNO₃)；作为填料的5-20重量％硫酸钡(BaSO₄)；1-10重量％可溶性淀粉；以及0-5重量％聚丙烯酰胺，其中盐酸(HCl)被用作无机酸。

在一些实施方式中，制品103可以被浸没在浸渍槽105中的蚀刻浆料121的自由表面123下方一段时间直到发生了(或预计发生了)充分的表面粗糙化。一旦过了该时间段，则可从制品接收区域401中取出制品103，例如通过在制品取出方向502上移动制品103中的制品来取出。

步骤705还可包括沿着由多个分配端口中的每个分配端口409得到的合成分配方向309分配蚀刻浆料流，所述多个分配端口位于浸渍槽105中并且沿着所述至少一个外周侧404a-d的投影405a-d间隔开。在一些实施方式中，每个蚀刻浆料流的合成分配方向以与垂直于制品放入方向的平面成一定角度延伸，所述合成分配方向具有向制品接收区域401内部延伸的第一方向分量309a。例如，如上所述，一些实施方式可提供与垂直于制品放入方向501的平面503成约30°至约80°的角“A”、“B”。每个分配端口409的合成分配方向309的方向向量可提供朝向制品接收区域401中的制品103的蚀刻浆料121的流，以使均化的蚀刻浆料朝向待被粗糙化的制品103的表面的流动增强。因此，由于蚀刻浆料121的流，在待被粗糙化的表面区域上可实现更加彻底和更加一致的蚀刻。

沿着合成分配方向309分配来自多个端口中的每个分配端口409的蚀刻浆料流可在各个时间段期间进行。例如，可在放入制品103之前分配蚀刻浆料流。在该实施方式中，可实现蚀刻浆料121的更加均匀的混合以在将制品103放入制品接收区域401之前使无机物质分布更加均匀。另外或者替换性地，分配蚀刻浆料流可在将制品103放入制品接收区域401期间，在制品接收区域401中使制品的暴露表面区域粗糙化期间，和/或从制品接收区域401中取出制品103期间进行，以允许更加均化的蚀刻流接触待被粗糙化的表面，同时还将均化的蚀刻流向内引导向制品以持续提供均化的蚀刻浆料源来接触待被粗糙化的制品表面。

在一些实施方式中，可通过设置蚀刻浆料流从多个分配端口分配，所述多个分配端口被设置在分配端口的第一回路113、分配端口的第二回路115和/或分配端口的第三回路117中，来实现在浸渍槽105内的蚀刻浆料121的均化增强以及均化的蚀刻浆料121更均匀地暴露于待粗糙化的制品的所有表面。在一些实施方式中，分配端口的回路113、115、117可位于浸渍槽105中的蚀刻浆料121的深度的上部33％下方。出于本申请的目的，蚀刻浆料121的深度被认为是在浸渍槽105中的蚀刻浆料121的自由表面123与浸渍槽的底壁之间的最大距离。将回路放置在浸渍槽中的蚀刻浆料的深度的上部33％下方可有助于搅拌蚀刻浆料的下部深度，从而有助于防止不溶性物质因为重力沉降到浸渍槽的下部中。

可对从各个回路中的每个分配端口中延伸的合成分配方向进行定向以在浸渍槽105中提供蚀刻浆料121的所需搅拌和移动。例如，在一些实施方式中，每个合成分配方向309可包括第一方向分量309a以促进蚀刻浆料朝向制品接收区域401中的制品103流动。在另外的实施方式中，从分配端口的第三回路中的每个分配端口409中延伸出来的合成分配方向309包含第二方向分量309b，其在制品放入方向501上延伸以有助于从浸渍槽105的底部扫除原本在重力影响下可能积聚的不溶性物质。在另外的实施方式中，从分配端口的第二回路中的每个分配端口409中延伸出来的合成分配方向309包含第二方向分量309b，其在制品取出方向502上延伸以有助于将从浸渍槽105的底部扫除的不溶性物质移向浸渍槽105中的蚀刻浆料的深度的上部33％。在另外的实施方式中，从分配端口的第一回路中的每个分配端口409中延伸出来的合成分配方向309包含第二方向分量309b，其在制品放入方向501上延伸以有助于混合不溶性物质并促进不溶性物质从蚀刻浆料的深度的上部33％移动到浸渍槽105中的蚀刻溶液的下部深度。在一些实施方式中，来自第一回路113的蚀刻浆料流可以横向偏移第二回路115的蚀刻浆料流，以促进形成弯曲流流动，从而进一步促进容纳在浸渍槽105内的蚀刻浆料121中的不溶性物质的无规分布。

如上所述，分配设备107可有助于防止不溶性物质沉降在浸渍槽105的底部。在另外的实施方式中，通过移动装置167可以实现另外的搅拌。移动装置167向制品载体111提供垂直、水平、旋转和振动运动的任意组合，以在蚀刻浆料121和制品载体111内的制品103之间提供相对移动，从而促进将新鲜蚀刻浆料引入到待粗糙化的制品表面。在一个实例中，移动装置167可以被设计成以特定频率和幅度，例如以100mm冲程(stroke)进行的10个周期/分钟抬升和降落制品载体111。除了在图7所示的步骤705中可以提供该移动装置外，在可提供的其他加工步骤中也可以提供类似的移动装置。

在一些实施方式中，为了进一步均化浸渍槽105中的蚀刻浆料121，可以提供任选的子槽129，其中，步骤705可包括使蚀刻浆料121从浸渍槽105，通过子槽129，然后循环回到浸渍槽105。在包含子槽129的一些实施方式中，可以搅拌(例如通过搅拌器155)子槽中的蚀刻浆料121以均化子槽129中的蚀刻浆料。在子槽129中搅拌蚀刻浆料可提供均化的蚀刻浆料，该均化的蚀刻浆料可被重新引入到浸渍槽105中。

为了大规模生产制品(例如防眩光玻璃)，如图1所示，制品103可包含由制品架127支承的多个制品。在一些实施方式中，所述制品103可包含一片玻璃片或多片玻璃片。可在制品放入方向501上降低运载制品架127和制品103的制品载体111直到制品架127和制品103浸没(例如完全浸没)在蚀刻浆料121的自由表面123下方并位于制品接收区域401中(例如完全位于其中)。

在包含子槽129的一些实施方式中，在将具有制品103的制品载体111浸渍在浸渍槽105中之前，可以任选地使蚀刻浆料121在子槽129中自循环预定的一段时间。例如，流动线151中的阀153可至少部分地开启，同时所述至少一个第二浆料泵133使流体经过流动线145、151自循环。在另外的实施方式中，可以启动搅拌器155以搅拌子槽129中的蚀刻浆料121。蚀刻浆料121的自循环和/或在子槽129中搅拌蚀刻浆料121可改进蚀刻浆料121的均匀性。在一些实施方式中，经过一段时间后，可以至少部分开启流动线149中的阀153以允许所述至少一个第二浆料泵133将均化的蚀刻浆料121从子槽129重新引入浸渍槽105。一旦蚀刻浆料浸渍槽105中的蚀刻浆料121的自由表面123达到了预定水平，则可将具有制品103的制品载体111浸渍或浸没在蚀刻浆料浸渍槽105的制品接收区域401中的蚀刻浆料中。

在另外的实施方式中，在将具有制品103的制品载体111浸渍在浸渍槽105中之前，可以任选地使蚀刻浆料121在浸渍槽105中自循环一段时间。例如，第一浆料泵131可以使流体从排出线135出发，通过流动线137，并且从共用流体供给线119出发，通过分配设备107来进行自循环。浸渍槽105中的蚀刻浆料121的自循环可改进均匀性并且防止来自蚀刻浆料121的不溶性物质沉降。在预定的时间段之后，可将具有制品103的制品载体111浸渍或浸没在蚀刻浆料浸渍槽105的制品接收区域401中的蚀刻浆料中。

在对制品表面进行粗糙化(例如产生防眩光玻璃)的过程期间，一个或多个温度传感器161、一个或多个加热装置163、至少一个第二浆料泵133以及一个或多个阀153、139可以接收来自控制器单元165的命令。控制器单元165可以包含程序指令，该程序指令在被执行时将导致子槽129中的蚀刻浆料121自循环和搅拌适当的时间段，随后，在适当的时间将蚀刻浆料121从子槽129转移到浸渍槽105，接着在适当的时间将蚀刻浆料121从浸渍槽105排出到子槽129。

此外，控制器单元165可向第一浆料泵131发送命令。例如，控制器单元165可以包含程序指令，该程序指令在被执行时将导致浸渍槽105中的蚀刻浆料121自循环和搅拌适当的时间段。

另外，控制器单元165可以任选地操作机器人(未示出)以运载制品载体111并且在适当的时间将包含制品103的制品载体111浸渍到浸渍槽105中。机器人的运动可与子槽129和/或浸渍槽105中的蚀刻浆料121的自循环同步，以在蚀刻浆料121蚀刻制品103表面的最佳条件时将制品载体111浸渍在蚀刻浆料浸渍槽105中。

如图7所示，如箭头706所指示的，在步骤705之后，所述方法可以如图所示在707处结束。已经通过实验确定，具有分配设备107的浸渍槽105可显著改进浸渍槽105中的蚀刻浆料121的均化。图8为例示了在浸渍槽中使用及不使用分配设备的情况下，测量浸渍槽的不同区域中的固体含量的实验结果图。参考图8，附图标记801U表示在使用分配设备时，在浸渍槽105的上部部分中测得的固体含量的数据集，而803U表示在不使用分配设备107的情况下，在浸渍槽105的上部部分中测得的固体含量的数据集。附图标记801C表示在使用分配设备时，在浸渍槽105的中心部分中测得的固体含量的数据集，而803C表示在不使用分配设备107的情况下，在浸渍槽105的中心部分中测得的固体含量的数据集。附图标记801B表示在使用分配设备时，在浸渍槽105的底部部分中测得的固体含量的数据集，而803B表示在不使用分配设备107的情况下，在浸渍槽105的底部部分中测得的固体含量的数据集。附图标记805所示的“破折号”符号表示数据集Q1(即，按顺序排序(rank-ordered)的固体含量数据集的上半部中的中间值)，并且在807处引用的“破折号”符号表示数据集Q3(即，按顺序排序的固体含量数据集的下半部中的中间值)。对于每个数据集，破折号805出现在交叉阴影线柱的上端，而破折号807出现在交叉阴影线柱的下端。在每个数据集中，上部的字母“X”(参见图例中的字母“X”809)表示数据集中测得的最大固体含量，而下部的字母“X”(参见图例中的字母“X”811)表示数据集中测得的最小固体含量。在每个数据集中，“+”符号(参见图例中的“+”符号813)表示数据集中测得的固体含量中值。

由实验结果中值813(用“+”符号表示)可见，当与数据集803U、803C、801B比较时，使用分配设备时测得的数据集801U、801C、801B中的固体含量中值相对较靠近。因此，证据提示，当使用分配设备107时，蚀刻浆料中的固体含量中值在浸渍槽的上部、中部和下部区域间分布地更加均匀。

图9为例示了图8实验的标准偏差的图。事实上，附图标记901U、901C、901B、903U、903C、903B分别表示数据集801U、801C、801B、803U、803C、803B的对应标准偏差。如图9中可见到的，每个数据集801U、801C、801B的对应标准偏差低于每个数据集803U、803C、803B的每个标准偏差。因此，使用分配设备107在浸渍槽105的上部、中部和底部区域中比不使用分配设备107的槽的任何区域实现了更高程度的均匀性。另外，使用分配设备107在槽的底部区域所获得的均匀性比不使用分配设备107在槽的底部区域中所获得的均匀性大很多个数量级。

大规模生产制品(例如防眩光玻璃)的一个关键问题是产率。外观缺陷，例如条纹、白色污迹、小孔等可不利地影响产率。这些外观缺陷可来自于浸渍制品103期间蚀刻浆料121的不均匀性。这些外观缺陷可能导致在制品表面(例如玻璃表面)上的不均匀的防眩光特征尺寸和特征尺寸分布，这可能导致闪耀水平高。通过将制品103暴露于在浸渍槽105的上部、中部和底部区域均更加均化且均匀的蚀刻浆料121，可以显著减少制品表面上的外观缺陷，从而提高产率并降低不利特征的水平(例如降低防眩光玻璃片或其他制品的闪耀水平)。

回到图7，任选地，在步骤705之前可以进行另外的步骤。如箭头708所示，所述方法可以任选地进行到步骤709：对制品103进行预蚀刻。例如，可以将制品(例如玻璃制品)短暂地暴露于酸溶液中。在一些实施方式中，步骤709期间所使用的酸溶液可以为例如，氢氟酸(HF)与盐酸(HCl)或其他类型的酸溶液的稀释混合物。如果提供预蚀刻步骤709，则该步骤可去除表面缺陷和瑕疵，从而允许在随后的浆料蚀刻的步骤705期间形成均匀的表面织构。预蚀刻步骤709之后，所述方法可以如箭头712所示进行到清洁步骤711。在一些实施方式中，清洁步骤可包括用去离子水清洗。在另外的实施方式中，清洁步骤可包括用洗涤剂洗涤制品，然后在超声浴中用去离子水清洁制品。

如箭头713所示，所述方法还可以从清洁步骤开始来预清洁制品，从而从制品103中去除表面污染物。预清洁制品103可以包括首先用洗涤剂清洁制品，随后在超声浴中用去离子水进一步清洁制品。其他合适的方法可以任选地用于预清洁所需的制品。清洁步骤711之后，所述方法可以如箭头715所示进行到浆料蚀刻的步骤705。虽然未示出，但是在一些实施方式中，所述制品可以替换性地在预蚀刻步骤709之前进行预清洁。

在预蚀刻之后清洁制品103有益于从制品中去除酸以防止进一步的预蚀刻及防止将预蚀刻流体引入到浸渍槽105的蚀刻浆料121中，从而避免蚀刻浆料的化学组成发生可能的明显不期望的变化。在步骤705期间，可以通过将制品(例如部分、完全地)浸没在蚀刻浆料121的自由表面下方一段预定的时间(如30秒至120秒)来浸渍制品103。在步骤705之后，如箭头706所示，所述方法可以在707处结束。或者，所述方法可以如箭头718所示进行到清洁步骤716以从制品表面去除蚀刻浆料。在一些实施方式中，清洁步骤可包括将制品浸渍在洗涤槽中和/或使制品通过喷淋洗涤槽。

如箭头706所示，所述方法可以在清洁步骤716之后结束于707。或者，如箭头719所示，所述方法可以进行到后蚀刻步骤720。任选的后蚀刻步骤可包括将制品103浸没于后蚀刻酸溶液中约几分钟。后蚀刻酸溶液可以为例如氢氟酸(HF)与盐酸(HCl)的混合物。用于后蚀刻步骤720的酸溶液的浓度与用于预蚀刻步骤709的酸溶液的浓度可以相同或者可以不相同。或者，在清洁步骤716之后及在后蚀刻步骤720(如果进行)之前，可以如箭头722所示在步骤721期间任选地处理制品103以中和制品上的酸。在中和酸步骤721期间，可以将制品703浸没于碱溶液中几分钟以中和制品103上的任何残余蚀刻浆料。所述方法然后可以如箭头706所示结束，或者任选地，如箭头724所示进行到清洁步骤723。如果提供清洁步骤723，则该步骤可从制品103的表面清洁碱溶液以如箭头706所示完成所述方法，或者如箭头725所示进行到后蚀刻步骤720。

在后蚀刻步骤720后，可在步骤726期间清洁制品，然后在707处完成所述方法。在清洁步骤726期间，可以用去离子水彻底清洗及清洁制品103，然后干燥(如在空气中干燥)。得到的制品可包含防眩光性质，并且可用于要求防眩光性质的应用。在707处完成了所述方法后，如果制品包含玻璃，则可以通过离子交换工艺或其他技术使玻璃制品经历强化。

虽然未要求，但是在一些实施方式中，可以对制品的部分暴露表面提供耐酸膜以用作掩膜来防止在制品的某些表面上进行蚀刻。耐酸膜的实施方式可包含聚合物(如聚乙烯)或能够抵抗蚀刻工艺中涉及的各种蚀刻剂的其他合适材料。

尽管已经结合有限数量的实施方式描述了本发明，但是得益于本公开的本领域技术人员会理解，能够想出其他的实施方式而不偏离本文所公开的本发明的范围。因此，本发明的范围应仅由所附权利要求书限定。

Claims (22)

1.一种产生防眩光表面的设备，其包含：

浸渍槽，其包含制品接收区域，所述制品接收区域沿着浸渍槽的制品放入方向延伸，垂直于制品放入方向截取的制品接收区域的横截面区域包含至少一个外周侧，其中，所述至少一个外周侧在制品放入方向上的投影限定制品接收区域；和

多个分配端口，其位于浸渍槽内并且沿着所述至少一个外周侧的投影间隔开，并且从所述多个分配端口中的每个分配端口延伸的合成分配方向包含向制品接收区域内部延伸的第一方向分量。

2.如权利要求1所述的设备，其中，合成分配方向以与垂直于制品放入方向的平面成约30°至约80°的角延伸。

3.如权利要求1和2中任一项所述的设备，其中，多个分配端口包含分配端口的第一回路和分配端口的第二回路。

4.如权利要求3所述的设备，其中，从分配端口的第一回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

5.如权利要求3和4中任一项所述的设备，其中，从分配端口的第二回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在与制品放入方向相反的制品取出方向上延伸的第二方向分量。

6.如权利要求3-5中任一项所述的设备，其中，多个分配端口包含分配端口的第三回路。

7.如权利要求6所述的设备，其中，从分配端口的第三回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

8.如权利要求1-7中任一项所述的设备，还包含子槽和泵送单元，所述泵送单元与浸渍槽和子槽流体连接。

9.如权利要求8所述的设备，还包含在子槽中的搅拌器。

10.如权利要求1-9中任一项所述的设备，还包含制品载体，调整所述制品载体的尺寸以使其被容纳在制品接收区域中，其中，调整制品载体的尺寸以通过在制品放入方向上移动制品载体而将制品载体放入到制品接收区域中。

11.一种利用浸渍槽产生防眩光表面的方法，所述浸渍槽包含沿着浸渍槽的制品放入方向延伸的制品接收区域，垂直于制品放入方向截取的制品接收区域的横截面区域包含至少一个外周侧，其中，所述至少一个外周侧在制品放入方向上的投影限定制品接收区域，所述方法包括：

沿着由多个分配端口中的每个分配端口得到的合成分配方向分配蚀刻浆料流，所述多个分配端口位于浸渍槽内并且沿着所述至少一个外周侧的投影间隔开，其中，每个合成分配方向包括向制品接收区域内延伸的第一方向分量；

将制品以制品放入方向放入到制品接收区域中，其中，将制品浸没在位于浸渍槽内的蚀刻浆料的自由表面下方；以及

当制品浸没在蚀刻浆料的自由表面下方时，利用蚀刻浆料使制品的暴露表面区域粗糙化。

12.如权利要求11所述的方法，还包括从制品接收区域中取出制品的步骤。

13.如权利要求11和12中任一项所述的方法，其中，沿着由多个分配端口中的每个分配端口得到的合成分配方向分配蚀刻浆料流在放入制品之前，放入制品期间，放入制品之后和/或使暴露的表面区域粗糙化期间进行。

14.如权利要求11-13中任一项所述的方法，其中，合成分配方向以与垂直于制品放入方向的平面成约30°至约80°的角延伸。

15.如权利要求11-14中任一项所述的方法，其中，多个分配端口包含分配端口的第一回路和分配端口的第二回路。

16.如权利要求15所述的方法，其中，将分配端口的第一回路和分配端口的第二回路中的每个回路的分配端口设置在浸渍槽内的蚀刻浆料的深度的上部33％下方。

17.如权利要求15和16中任一项所述的方法，其中，从分配端口的第一回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

18.如权利要求15-17中任一项所述的方法，其中，从分配端口的第二回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在与制品放入方向相反的制品取出方向上延伸的第二方向分量。

19.如权利要求15-18中任一项所述的方法，其中，多个分配端口包含分配端口的第三回路。

20.如权利要求19所述的方法，其中，从分配端口的第三回路中的每个分配端口延伸的合成分配方向包括在制品放入方向上延伸的第二方向分量。

21.如权利要求11-20中任一项所述的方法，还包括将蚀刻浆料从子槽泵送到浸渍槽。

22.如权利要求21所述的方法，还包括在子槽中搅拌蚀刻浆料。