CN110267927B - 涂覆的窗玻璃 - Google Patents

涂覆的窗玻璃 Download PDF

Info

Publication number
CN110267927B
CN110267927B CN201880011032.8A CN201880011032A CN110267927B CN 110267927 B CN110267927 B CN 110267927B CN 201880011032 A CN201880011032 A CN 201880011032A CN 110267927 B CN110267927 B CN 110267927B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
coated glazing
glass substrate
transparent glass
coated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201880011032.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110267927A (zh
Inventor
M·A·法恩沃思
G·R·尼考尔
P·A·斯金纳
P·D·沃伦
A·J·艾伯特
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pilkington Group Ltd
Original Assignee
Pilkington Group Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pilkington Group Ltd filed Critical Pilkington Group Ltd
Publication of CN110267927A publication Critical patent/CN110267927A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110267927B publication Critical patent/CN110267927B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/77—Coatings having a rough surface
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C03C2218/1525—Deposition methods from the vapour phase by cvd by atmospheric CVD

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

一种涂覆的窗玻璃，其依次包含至少以下:透明玻璃基材、基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，以及另外层，其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻，其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包括当按照ISO 25178‑2:2012测试时，其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面，并且其中当按照ASTM D1003‑13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值。

Description

涂覆的窗玻璃
本发明涉及涂覆的窗玻璃、所述窗玻璃的制造方法和所述窗玻璃的用途。
涂覆的窗玻璃用于许多领域中，例如用于建筑、汽车和技术应用中。这种窗玻璃可以表现出低发射率和/或阳光控制的有利特性，这能够改善通过窗玻璃的热损失和/或增益的调节。在一些情况下，诸如对于商业制冷应用(例如冷冻柜盖、冰淇淋柜台前部和熟食柜台前部)，可能需要对窗玻璃进行热弯曲和/或钢化以获得所需产品。然而，在某些条件下，这些弯曲和/或钢化过程可能导致涂层的叠层内的后续粘合失效。
US2015146286(A1)描述了一种低辐射涂层，其利用介电阻挡层来调节在热处理时氧到含有透明导电氧化物(TCO)的下层功能层的扩散。据说，通过避免功能层的过高氧含量(其导致明显损伤，如功能层中的裂缝)，涂层的叠层表现出改善的可弯曲性。
然而，希望提供一种低辐射(low-e)涂覆的窗玻璃，其在热弯曲和/或钢化操作时表现出涂层的叠层内粘合失效的发生率降低。
根据本发明的第一方面，提供了一种涂覆的窗玻璃，其依次包含至少以下层:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
另外层，
其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻，
其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面，并且
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值。
令人惊奇地，已经发现在与已知的涂覆的窗玻璃相比时，根据第一方面的涂覆的窗玻璃在热弯曲和/或钢化操作时表现出涂层内的粘合失效的发生率降低。推测粘合失效的降低是由于与透明玻璃基材相邻的层具有改进的表面形貌。
在本发明的上下文中，其中层被称为“基于”一种或多种特定材料，这意味着该层主要由相应的所述一种或多种材料构成，这通常意味着它包含至少约50原子％的所述一种材料或多种材料。
在本发明的以下讨论中，除非另有说明，否则参数的允许范围的上限或下限的替代值的公开，以及所述值中的一个比其他的更优选的表示，应理解为以下隐含的陈述：位于更优选与较不优选的所述替代值之间的所述参数的每个中间值本身优选于所述较不优选的值，并且还优选于位于所述较不优选的值与所述中间值之间的每个值。
在整个说明书中，术语“包括”或“包含”意指包括指定的一种或多种组分但不排除其他组分的存在。术语“基本上由......组成”或“基本上由......构成”意指包括指定的组分但排除其他组分，除了作为杂质而存在的材料、由于用于提供组分的方法而存在的不可避免的材料，以及为了实现本发明的技术效果以外的目的而添加的组分以外。通常，在提及组合物时，基本上由一组组分构成的组合物包含小于5重量％，通常小于3重量％，更通常小于1重量％的未指定组分。
术语“由......组成”或“由......构成”意指包括指定组分但排除其他组分。
在任何适当的时候，根据上下文，术语“包括”或“包含”的使用也可以被认为包括“基本上由......组成”或“基本上由......构成”的含义，并且也可以被认为包括“由......组成”或“由......构成”的含义。
本文中提及的诸如“在x至y的范围内”意味着包括“从x至y”的解释，因此包括值x和y。
在本发明的上下文中，透明材料或透明基材是能够透射可见光的材料或基材，使得能够通过所述材料或基材清楚地看到位于所述材料另一边或后面的物体或图像。
在本发明的上下文中，对于层的表面处的任何给定位置，层的“厚度”由在层的最小尺寸方向上，从层的表面处的所述位置到所述层的相反表面处的位置穿过层的距离表示。
在本发明的上下文中，如果涂覆的窗玻璃形成角度使得涂覆的窗玻璃占据至少两个平面，该至少两个平面在所述平面相交处形成角度，和/或如果涂覆的窗玻璃是曲面的，使得涂覆的窗玻璃在至少一个方向上具有曲率半径，则涂覆的窗玻璃被认为是“弯曲的”。
优选地，所述基于金属氧化物的层是基于SnO2、TiO2或氧化铝的层。最优选地，所述基于金属氧化物的层是基于SnO2的层。
优选地，所述基于准金属氧化物的层是基于SiO2或氮氧化硅的层，更优选基于SiO2的层。
优选地，存在所述基于金属氧化物的层和所述基于准金属氧化物的层两者。在该实施方案中，优选地，基于金属氧化物的层是基于SnO2的层，并且基于准金属氧化物的层是基于SiO2的层。
当存在所述基于金属氧化物的层和所述基于准金属氧化物的层两者时，优选地，透明玻璃基材与基于金属氧化物的层相邻，并且基于准金属氧化物的层与另外层相邻。更优选地，透明玻璃基材与基于SnO2的层相邻，并且基于SiO2的层与另外层相邻。
优选地，所述基于金属氧化物的层与所述玻璃基材直接接触。优选地，所述基于金属氧化物的层与所述基于准金属氧化物的层直接接触。最优选地，所述基于金属氧化物的层与所述玻璃基材和所述基于准金属氧化物的层两者直接接触。优选地，所述基于准金属氧化物的层与所述另外层直接接触。优选地，所述另外层是涂覆的窗玻璃的最外层。
优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少35nm，更优选至少36nm，甚至更优选至少40nm，最优选至少45nm，但优选至多100nm，更优选至多80nm，甚至更优选至多70nm，最优选至多60nm。这些优选的厚度在有助于热弯曲和/或钢化操作时降低涂层内的粘合失效的频率方面是有利的。
优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少50％，更优选至少70％，甚至更优选至少80％，甚至更优选至少90％的厚度为至少35nm。优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少50％，更优选至少70％，甚至更优选至少80％，甚至更优选至少90％的厚度为至少36nm。优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少50％，更优选至少70％，甚至更优选至少80％，甚至更优选至少90％的厚度为至少40nm。优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少50％，更优选至少70％，甚至更优选至少80％，甚至更优选至少90％的厚度为至少45nm。优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少50％，更优选至少70％，甚至更优选至少80％，甚至更优选至少90％的厚度为至少50nm。
当存在所述基于金属氧化物的层和所述基于准金属氧化物的层两者时，这些层中的一个与所述另外层相邻，并且优选地，与所述另外层相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少10nm，更优选至少15nm，甚至更优选至少17nm，最优选至少19nm，但优选至多40nm，更优选至多30nm，甚至更优选至多25nm，最优选至多23nm。
优选地，所述另外层是基于透明导电氧化物(TCO)的层。优选地，TCO是掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)，掺杂铝、镓或硼的氧化锌(ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:B)，掺杂锡的氧化铟(ITO)，锡酸镉，ITO:ZnO，ITO:Ti，In2O3，In2O3-ZnO(IZO)，In2O3:Ti，In2O3:Mo，In2O3:Ga，In2O3:W，In2O3:Zr，In2O3:Nb，In2-2xMxSnxO3(M为Zn或Cu)，ZnO:F，Zn0.9Mg0.1O:Ga，和(Zn、Mg)O:P，ITO:Fe，SnO2:Co，In2O3:Ni，In2O3:(Sn、Ni)，ZnO:Mn和ZnO:Co中的一种或多种。最优选所述另外层基于掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)。
优选地，所述另外层的厚度为至少200nm，更优选至少250nm，甚至更优选至少330nm，最优选至少450nm，但优选至多900nm，更优选至多800nm，甚至更优选至多700nm，最优选至多500nm。
优选地，与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含在涂覆之前其表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm，更优选至少5.0nm，甚至更优选至少5.5nm，甚至更优选至少6.0nm，最优选至少6.5nm，但优选至多20nm，更优选至多15nm，甚至更优选至多13nm，最优选至多11nm的表面。Sa表示表面粗糙度，并按照ISO 25178-2:2012，几何产品规范(GPS)-表面纹理:区域-第2部分:术语、定义和表面纹理参数测量。与具有较粗糙表面的基材相邻的层似乎有利于在热弯曲和/或钢化操作时减少涂层内的粘合失效的发生率。与基材相邻的层的粗糙度很大程度上决定了随后沉积的层的表面粗糙度。
优选地，涂覆的窗玻璃包含最外层(即，离透明玻璃基材最远的层)，其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少12.5nm，更优选至少13.5nm，甚至更优选至少14.5nm，甚至更优选至少15.5nm，最优选至少16.0nm，但优选至多45nm，更优选至多30nm，甚至更优选至多25nm，最优选至多21nm的表面。同样，较粗糙的外表面似乎有利于在热弯曲和/或钢化操作时减少涂层内的粘合失效的发生率。优选地，所述最外层是所述另外层。
优选地，当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出的平均雾度值为至少0.5％，更优选至少0.6％，甚至更优选至少0.7％，最优选至少0.8％，但优选至多3.0％，更优选至多2.0％，甚至更优选至多1.5％，最优选至多1.3％。
优选地，涂覆的窗玻璃依次包含至少以下层构成，更优选由其组成:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层，其是基于SnO2的层，
基于准金属氧化物的层，其是基于SiO2的层，和
另外层，其是基于掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)的层，
其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm的表面，并且
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.50％的平均雾度值。
透明玻璃基材可以是透明的基于金属氧化物的玻璃板。优选地，玻璃板是透明的浮法玻璃板，优选是低铁浮法玻璃板。透明浮法玻璃是指具有如BS EN 572-1和BS EN 572-2(2004)中定义的组成的玻璃。对于透明浮法玻璃，由重量表示的Fe2O3含量通常为0.11％。具有小于约0.05重量％的Fe2O3含量的浮法玻璃通常被称为低铁浮法玻璃。这种玻璃通常具有相同的其它组分氧化物的基本组成，即低铁浮法玻璃也是钠钙硅酸盐玻璃，透明浮法玻璃也是如此。通常，低铁浮法玻璃具有小于0.02重量％的Fe2O3。或者，玻璃板是基于硼硅酸盐的玻璃板，基于碱铝硅酸盐的玻璃板或基于氧化铝的晶质玻璃板。
可以通过任何合适的手段诸如热和/或化学钢化方法将涂覆的窗玻璃在一定程度上钢化。可以通过适当手段诸如压弯、下垂弯曲或辊压成形操作将涂覆的窗玻璃弯曲。可以在一个或多个方向上将涂覆的窗玻璃弯曲。优选地，在一个或多个方向中的至少一个方向上的曲率半径在100mm与20000mm之间，更优选在200mm与10000mm之间，甚至更优选在300mm与8000mm之间。
优选地，涂覆的窗玻璃是零售店面窗玻璃、陈列室窗玻璃或冷藏窗玻璃。
根据本发明的第二方面，提供了一种根据第一方面的涂覆的窗玻璃的制造方法，依次包括以下步骤:
a)提供透明玻璃基材，
b)直接或间接地在透明玻璃基材的表面上依次沉积至少以下层:
i)基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
ii)另外层。
优选地，透明玻璃基材的所述表面是透明玻璃基材的主表面。
所述基于金属氧化物的层、所述基于准金属氧化物的层和所述另外层可以各自具有根据本发明第一方面的相应命名的层的任何特征。
优选地，所述基于金属氧化物的层是基于SnO2、TiO2或氧化铝的层。最优选地，所述基于金属氧化物的层是基于SnO2的层。优选地，所述基于准金属氧化物的层是基于SiO2或氮氧化硅，更优选基于SiO2的层。优选地，所述另外层是基于透明导电氧化物(TCO)的层。最优选地，所述另外层基于掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)。
优选地，所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层直接沉积在透明玻璃基材的表面上。更优选地，所述基于金属氧化物的层直接沉积在透明玻璃基材的表面上。
优选地，步骤b)i)包括在透明玻璃基材表面上依次沉积基于金属氧化物的层，接着是基于准金属氧化物的层。优选地，所述基于准金属氧化物的层直接沉积在所述基于金属氧化物的层的表面上。
优选地，所述另外层直接沉积在所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层的表面上。更优选地，所述另外层直接沉积在所述基于准金属氧化物的层的表面上。
优选地，使用化学气相沉积(CVD)进行步骤b)i)。优选地，使用CVD进行步骤b)i)和b)ii)两者。在一些替代实施方案中，可有利的使用物理气相沉积(PVD)进行步骤b)ii)。
CVD可以与透明玻璃基材的制造一起进行。在一个实施方案中，可以利用众所周知的浮法玻璃制造方法形成透明玻璃基材。在该实施方案中，透明玻璃基材也可以称为玻璃带。方便地，可以在浮槽中、在退火炉中或在退火炉间隙中进行CVD。CVD的优选方法是常压CVD(例如在浮法玻璃工艺期间进行的在线CVD)。然而，应该理解的是，可在浮法玻璃制造过程以外或在玻璃带的形成和切割之后利用CVD方法。
优选在透明玻璃基材处于450℃至800℃范围内的温度下，更优选在透明玻璃基材处于550℃至750℃范围内的温度下进行CVD。在透明玻璃基材处于这些优选温度下沉积CVD涂层提供了更大的涂层结晶度，这可改善可钢化性(toughenability)(耐热处理性)。
优选地，在透明玻璃基材处于至少690℃，更优选至少715℃，甚至更优选至少725℃，最优选至少730℃，但优选至多790℃，更优选至多760℃，甚至更优选至多750℃，最优选至多745℃的温度时，进行步骤b)i)。优选地，在透明玻璃基材处于至少690℃，优选至少715℃，甚至更优选至少725℃，最优选至少730℃，但优选至多790℃，更优选至多760℃，甚至更优选至多750℃，最优选至多745℃的温度时，进行所步骤b)i)中的基于金属氧化物的层的沉积。
在一些优选的实施方案中，在透明玻璃基材处于至少650℃，更优选至少680℃，甚至更优选至少690℃，最优选至少695℃，但优选至多750℃，更优选至多730℃，甚至更优选至多720℃，最优选至多710℃的温度时，进行步骤b)i)中的基于准金属氧化物的层的沉积。
优选地，在透明玻璃基材处于至少600℃，更优选至少620℃，甚至更优选至少630℃，最优选至少640℃，但优选至多720℃，更优选至多700℃，甚至更优选至多680℃，最优选至多650℃的温度时，进行步骤b)ii)中的另外层的沉积。
在某些实施方案中，CVD方法是动态方法，其中透明玻璃基材在蚀刻或涂覆时移动。优选地，在步骤b)i)和/或步骤b)ii)期间，透明玻璃基材以例如大于3m/min的预定速率移动。更优选地，在步骤b)i)和/或步骤b)ii)期间，透明玻璃基材以3m/min与20m/min之间的速率移动。
如上面详细说明的，优选地，可以在浮法玻璃生产过程期间、基本上在大气压下进行CVD。或者，可以使用低压CVD或超高真空CVD进行CVD。可以使用气溶胶辅助CVD或直接液体注射CVD进行CVD。此外，可以使用微波等离子体辅助CVD、等离子体增强CVD、远程等离子体增强CVD、原子层CVD、燃烧CVD(火焰热解)、热丝CVD、金属有机CVD、快速热CVD、气相外延或光引发CVD进行CVD。在步骤b)i)和/或步骤b)ii)中沉积任何CVD涂层之后(以及在沉积任何PVD涂层之前)，通常将玻璃基材切割成片材，用于存储或方便从浮法玻璃生产设施运输到真空沉积设施。
CVD还可以包括形成一种或多种气态混合物。如本领域技术人员所理解的，适用于气态混合物的前体化合物应适用于CVD方法。这些化合物在某些时候可以是液体或固体，但是是挥发性的，使得它们可蒸发以用于气态混合物中。一旦处于气态，前体化合物就可以被包含在气流中并用于CVD方法中以进行步骤b)i)和/或步骤b)ii)。对于气态前体化合物的任何特定组合，用于实现特定的沉积速率和涂层厚度的最佳浓度和流速可以变化。
气态混合物可以包含一种或多种前体化合物和载气或稀释剂，例如氮气、空气和/或氦气，优选氮气。前体化合物可以在不经历点火和过早反应的情况下混合。因此，在某些实施方案中，CVD方法包括混合前体化合物以形成气态混合物。
对于通过CVD沉积SnO2，气态混合物优选包含二甲基二氯化锡(DMT)、氧气和蒸汽。可使用相同的气态混合物沉积SnO2:F，条件是加入氟源，诸如HF或三氟乙酸。对于沉积SiO2，气态混合物可以包含硅烷(SiH4)、乙烯(C2H4)和氧气。对于沉积二氧化钛，气态混合物可以包含四氯化钛(TiCl4)和乙酸乙酯(EtOAc)。优选地，气态混合物包含氮气。在一些实施方案中，气态混合物也可以包含氦气。
在某些实施方案中，在步骤b)i)和b)ii)中沉积层之前，将一种或多种气态混合物通过涂覆装置进料并利用一个或多个气体分配器梁(beam)从涂覆装置中排出。优选地，在通过涂覆装置进料之前形成一种或多种气态混合物。例如，可以在连接到涂覆装置入口的进料管线中混合前体化合物。在其他实施方案中，可以在涂覆装置中形成一种或多种气态混合物。
可以朝向并沿着透明玻璃基材引导一种或多种气态混合物。利用涂覆装置有助于朝向并沿着透明玻璃基材引导气态混合物。优选地，以层流方式朝向并沿着透明玻璃基材引导气态混合物。
优选地，涂覆装置横向延伸横跨透明玻璃基材并且设置在其上方预定距离处。涂覆装置优选位于至少一个预定位置。在CVD方法与浮法玻璃制造方法结合使用时，涂覆装置优选设置在其浮槽(float bath)部分中。然而，涂覆装置可以设置在退火炉中，和/或设置在浮槽与退火炉之间的间隙中。
理想的是,将一种或多种气态混合物保持在低于前体化合物的热分解温度的温度，以防止在混合物到达透明玻璃基材表面之前的预反应。在涂覆装置中，气态混合物保持在低于其反应温度的温度下并被输送到玻璃基材表面附近的位置，玻璃基材处于高于反应温度的温度。气态混合物在玻璃基材的表面处或附近反应，以在其上形成所需的层。CVD方法导致在玻璃基材上高品质涂层的沉积。
优选地，涂覆的透明玻璃基材的表面是气体侧表面。涂覆玻璃制造商通常优选在气体侧表面(与浮法玻璃的锡侧表面相反)上沉积涂层，因为在气体侧表面上沉积可改善涂层的性能。
优选地，通过溅射沉积进行步骤b)ii)中利用的任何PVD。特别优选PVD是磁控管阴极溅射，以DC模式、脉冲模式、介质或射频模式或任何其他合适的模式，由此在合适的溅射气氛中反应性或非反应性地溅射金属或半导体靶。取决于待溅射的材料，可以使用平面或旋转管状靶。优选通过设定合适的涂覆条件来进行涂覆过程，使得将涂层的任何层的任何氧化物(或氮化物)层的任何氧(或氮)缺乏保持为低水平，以实现涂覆的窗玻璃的可见光透射率和颜色的高稳定性，特别是在热处理期间。
优选地，该方法还包括在步骤b)ii)之后弯曲涂覆的窗玻璃。可以通过适当的手段诸如压弯、下垂弯曲或辊压成形操作将涂覆的窗玻璃弯曲。优选地，将涂覆的窗玻璃弯曲，使得沉积在透明玻璃基材表面上的所述层位于弯曲的涂覆的窗玻璃的凹面侧。作为替代或补充，该方法进一步包括通过任何合适的手段诸如热和/或化学钢化方法将窗玻璃在一定程度上钢化。
根据本发明的第三方面，提供了根据第一方面的涂覆的窗玻璃作为零售店面窗玻璃、陈列室窗玻璃或冷藏窗玻璃的用途。
根据本发明的第四方面，提供了一种由以下层构成的涂覆的窗玻璃:
透明玻璃基材，和
基于金属氧化物或基于准金属氧化物的基层，
其中所述基层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面。
第四方面的涂覆的窗玻璃是第一方面的涂覆的窗玻璃形成中的中间产品。
优选地，所述基层包含其表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm，更优选至少5.0nm，甚至更优选至少5.5nm，甚至更优选至少6.0nm，最优选至少6.5nm，但优选至多20nm，更优选至多15nm，甚至更优选至多13nm，最优选至多11nm的表面。Sa表示表面的粗糙度，并按照ISO25178-2:2012几何产品规范(GPS)-表面纹理:区域-第2部分:术语、定义和表面纹理参数测量。
优选地，当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值，更优选至少0.5％，更优选至少0.6％，甚至更优选至少0.7％，最优选至少0.8％，但优选至多3.0％，更优选至多2.0％，甚至更优选至多1.5％，最优选至多1.3％。
根据本发明的第五方面，提供一种涂覆的窗玻璃，其依次包含至少以下层:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
另外层，
其中，所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻，
其中涂覆的窗玻璃包含最外层(即离透明玻璃基材最远的层)，其中所述最外层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时其表面算术平均高度值Sa为至少12.5nm的表面，和
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值。
令人惊奇地发现，在与已知的涂覆的窗玻璃相比时，根据第五方面的涂覆的窗玻璃在热弯曲和/或钢化操作时表现出涂层内粘合失效的发生率降低。
优选地，所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少13.5nm，更优选至少14.5nm，甚至更优选至少15.5nm，最优选至少16.0nm，但优选为至多45nm，更优选至多30nm，甚至更优选至多25nm，最优选至多21nm的表面。较粗糙的表面似乎有利于在热弯曲和/或钢化操作时减少涂层内粘合失效的发生率。优选地，所述最外层是所述另外层。
根据本发明的第六方面，提供一种涂覆的窗玻璃，其依次包含至少以下层:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
另外层，
其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻，
其中，与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少35nm，和
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值。
本文描述的任何发明经必要修改后可以与本文描述的任何其他发明的任何特征组合。
应当理解，适用于本发明的一个方面的可选特征能以任何组合、任何数量的形式使用。此外，它们也能以任何组合和任何数量的形式与本发明的任何其他方面一起使用。这包括但不限于来自本申请权利要求中用作任何其他权利要求的从属权利要求的任何权利要求的从属权利要求。
读者应注意与本申请相关的、在与本说明书同时或在本说明书之前提交的、且与本说明书一起公开以供公众查阅的所有文件和文献，所有这些文件和文献的内容通过引用结合于此。
本说明书中公开的所有特征(包括任何所附权利要求、摘要和附图)，和/或如此公开的任何方法或过程的所有步骤可以以任何组合的形式进行组合，除了至少一些这样的特征和/或步骤的组合是相互排斥的。
除非另外明确地说明，否则本说明书中公开的每个特征(包括任何所附权利要求、摘要和附图)可以由用于相同、等同或类似目的的替代特征所代替。因此，除非另外明确地说明，否则所公开的每个特征仅是等效或类似特征的一般系列中的一个示例。
现在将通过以下具体实施方案并参考附图进一步描述本发明，这些实施方案是以说明而非限制的方式给出，其中:
图1是根据本发明某些实施方案的涂覆的窗玻璃的横截面示意图；
图2是根据本发明某些实施方案的弯曲的涂覆的窗玻璃的横截面示意图；
图3是图2中所示的弯曲的涂覆的窗玻璃的示意性平面图；
图4是用于实施浮法玻璃方法的装置的纵截面示意图，该装置包括用于根据本发明的某些实施方案制造涂覆的窗玻璃的多个CVD装置；
图5是已经弯曲并测试了耐湿性的比较例1的涂覆的窗玻璃的照片；
图6是已经弯曲并测试了耐湿性的本发明的实施例6的涂覆的窗玻璃的照片；
图7是已经弯曲并测试了耐湿性的比较例2的涂覆的窗玻璃的照片；和
图8至12分别是已经弯曲并测试了耐湿性的本发明的实施例10至14的涂覆的窗玻璃的照片。
图1显示了根据本发明某些实施方案的涂覆的窗玻璃1的横截面。涂覆的窗玻璃1包含透明浮法玻璃基材2，其已经使用CVD依次涂覆了基于SnO2的层3、基于SiO2的层4和基于掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)的层5。
图2描绘了根据本发明某些实施方案的弯曲的涂覆的窗玻璃6的横截面。弯曲的涂覆的窗玻璃6具有与图1中所示的涂覆的窗玻璃1相同的结构，但弯曲的涂覆的窗玻璃6随后在压弯过程中被弯曲以实现弯曲的直角。图3显示了当以平面图观察时弯曲的涂覆的窗玻璃6具有矩形轮廓。
如上面所讨论的，CVD方法可以与浮法玻璃方法中的玻璃基材的制造一起进行。浮法玻璃方法通常利用浮法玻璃装置诸如图4中所示的装置10进行。然而，应该理解的是，本文中描述的浮法玻璃装置10仅是这种装置的示例。
如图4中所示，浮法玻璃装置10可包含通道部分20，熔融玻璃19沿该通道部分20从熔化炉输送到其中形成玻璃基材的浮槽部分11。在该实施方案中，玻璃基材将被称为玻璃带8。然而，应该理解的是，玻璃基材不限于是玻璃带。玻璃带8从浮槽部分11通过相邻的退火炉12和冷却部分13前进。浮槽部分11包括:其中容纳有熔融锡15的浴液的底部14、顶部16、相对的侧壁(未示出)和端壁17。顶部16、侧壁和端壁17一起限定了外壳18，在该外壳18中保持非氧化性气氛以防止熔融锡15的氧化。
在运行中，熔融玻璃19沿着通道20在调节闸门21下方流动，并且以受控量向下流到锡槽15的表面上。在熔融锡的表面上，熔融玻璃19在重力和表面张力的影响以及某些机械影响下横向扩展，横跨锡槽15前进以形成玻璃带8。在提升辊22上方玻璃带8被从浮槽部分11移除，此后在对齐的辊上被输送通过退火炉12和冷却部分13。涂层的沉积优选发生在浮槽部分11中，尽管沉积可进一步沿着玻璃生产线，例如在浮槽11与退火炉12之间的间隙28中，或在退火炉中发生。
如图4中所示，在浮槽部分11中显示了四个CVD装置9、9A、9B、9C。因此，取决于所要求的涂层的出现率和厚度，可能需要使用CVD装置9、9A、9B、9C中的一些或全部。可以提供一个或多个另外的涂覆装置(未示出)。作为替代或补充，一个或多个CVD装置可以位于退火炉间隙28中。任何副产品均通过涂覆机抽吸狭缝然后通过污染控制设备移除。例如，在一个实施方案中，利用CVD装置9A形成氧化锡涂层，利用CVD装置9形成二氧化硅涂层，并利用相邻的装置9B和9C形成掺杂氟的氧化锡涂层。
在浮槽部分11中保持合适的非氧化性气氛，通常是氮气或氮气与氢气的混合物，其中以氮气为主，以防止包含在浮槽中的熔融锡15的氧化。通过可操作地连接到分配歧管24的导管23导入气氛气体。以足以补偿正常损失并保持轻微正压(大约高于环境大气压约0.001至约0.01个大气压)的速率引入非氧化性气体，以防止外部大气的渗透。出于描述本发明的目的，上述压力范围被认为构成正常大气压。
涂层的CVD通常在基本大气压下进行。因此，浮槽部分11、退火炉12和/或浮槽11与退火炉12之间的间隙28中的压力可以基本上是大气压。用于保持浮槽部分11和外壳18中的期望的温度制度的热量由外壳18中的辐射加热器25提供。退火炉12中的气氛通常是气氛性空气，因为冷却部分13未被封闭，因此玻璃带8向周围气氛开放。随后玻璃带8被冷却至环境温度。为了冷却玻璃带8，可以通过冷却部分13中的风扇26将环境空气导向玻璃带8。也可以在退火炉12中设置加热器(未示出)，用于使玻璃带8的温度在其传送通过退火炉12时根据预定的制度而逐渐降低。
实施例
涂覆的窗玻璃的厚度和雾度测量
所有层的沉积均使用CVD进行。使用4mm的钠钙硅玻璃基材在浮法线上生产下表1中所示的所有实施例。比较例1至3以13.3m/min的平均线速度涂覆，而实施例4至6以8.3m/min的平均线速度涂覆。对于比较例1至3，在700℃的玻璃温度下进行SnO2基层的沉积，对于实施例4至6，在720℃的玻璃温度下进行SnO2基层的沉积。
采用以下组分使用单个涂覆机在玻璃表面上方沉积SnO2层:
·N2载气、O2、二甲基二氯化锡和H2O。
采用以下组分使用单个涂覆机在玻璃表面上方沉积SiO2层:
·N2载气、He载气、O2、C2H4和SiH4。
对于比较例1至3和实施例4至6中的每一个，采用以下组分使用两个涂覆机在玻璃表面上方沉积SnO2:F层:
·N2载气、O2、二甲基二氯化锡、HF和H2O。
通过SEM确定实施例的层厚度。实施例的雾度值使用BYK-Gardner雾度计按照ASTMD1003-13标准测量。
表1:比较例和本发明实施例的层厚度和雾度值。
涂覆的窗玻璃的压弯和湿度测试
然后将所有上述实施例压弯以产生具有低曲率半径(<600mm)的弯曲的涂覆的窗玻璃。通过切割成(约550mm×550mm)的尺寸并且对切割边缘进行边缘加工(以降低其锐度(出于安全原因)，通常降低源自边缘的破裂的风险，和/或出于美观原因)来制备用于弯曲的实施例。边缘加工是涉及边缘研磨和/或抛光的研磨机加工过程。然后洗涤实施例并使用加热炉将每个实施例从室温加热至>600℃。在预期形状的凹侧上涂覆的情况下，然后将每个实施例压弯以实现相同的曲率。然后通过空气淬冷步骤将实施例钢化。
接下来，测试弯曲的实施例对湿度的抵抗力。使用湿度箱将弯曲的实施例暴露于潮湿的环境条件(暴露于95％相对湿度(rh)，40℃，>7天)，并观察涂层内的粘合失效的发生率。在每种情况下，比较例1至3比本发明的实施例4至6具有更大的粘合失效发生率。图5显示了湿度测试后比较例1的照片。粘合失效的区域用黑色笔标记，并且作为较浅色的区域清晰可见。观察到的粘合失效通常发生在SiO2与SnO2:F层之间的界面处。与此相反，在湿度测试后本发明的实施例在涂层内表现出非常小的粘合失效，如图6中的实施例6的照片所示，其显示了在弯曲中非常小的粘合失效色斑。
涂覆的窗玻璃的表面形貌分析
制备另外三组涂覆的窗玻璃实施例(7a至7c，8a至8c和9a至9c)，以研究层的表面形貌。实施例7a、8a和9a仅涂覆有SnO2的基层。实施例7b、8b和9b涂覆有SnO2的基层和SiO2的顶层。实施例7c、8c和9c涂覆有SnO2的基层、SiO2的中间层和SnO2:F的顶层。实施例7a至7c、8a至8c和9a至9c以与比较例1至3和实施例4至6相同的方式制备(除了实施例7a至b、8a至b和9a至b在分析之前涂覆有较少的层以外)。此外，对于实施例7a至c，在720℃的玻璃温度下进行SnO2的基层的沉积，对于实施例8a至c和9a至c，在735℃的玻璃温度下进行SnO2的基层的沉积。而且，在实施例8c中于马上开始SnO2:F的顶层的沉积之前，将涂覆的窗玻璃冷却以测试对粗糙度和雾度的影响。
然后通过原子力显微镜(AFM)分析实施例7a至7c、8a至8c和9a至9c，并且使用BYK-Gardner雾度计按照ASTM D1003-13标准测量实施例7c、8c和9c的雾度值。
对于AFM，从每个实施例中除去小部分(约4cm2)的涂覆的玻璃。为了消除来自涂覆的表面的任何表面污染，通过在甲醇中超声处理约60秒来清洁实施例，并用压缩气体除尘器干燥。清洁后，将实施例直接放在AFM仪器台上，并使用仪器的内部真空系统固定到台上，以备分析。
原子力显微术是一种技术，其使用包含小的尖锐的尖端(半径约2nm至20nm)的悬臂来物理测量纳米高度范围和纳米至微米横向范围的表面形貌。AFM仪器通常配备有几种操作模式，以下是其中的示例:
TappingModeTM
这是悬臂在其共振频率处或附近振荡，轻微地敲击所研究的表面的模式。悬臂的振幅随着接近样品表面而变化，并且通过监测这些变化的系统获得形貌图像。用于该技术的TESPA AFM探针具有8nm的标称尖端半径。
采用ScanAsystMT(PFTSA)的PeakForce TappingTM
一种成像技术，其中使AFM悬臂与表面接触和脱离接触，在远低于其共振频率下振荡。该模式在图像中的每个像素处完成非常快的力曲线。然后，将这些曲线中的每一个的峰值力用作成像反馈信号，从而提供直接的力控制。这使其能够以比TappingModeTM更低的力运行，这有助于保护易损的样品和尖端。
ScanAsystTM是一种PFT变体，它利用智能算法来自动优化所有成像参数。用于该技术的SCANASYST-AIR探针具有2nm的标称尖端半径。
在500nm×500nm、1μm×1μm(两次)和5μm×5μm的区域上方分析实施例。使用Dimension Icon AFM在峰值力轻敲操作模式下进行1μm×1μm和5μm×5μm的扫描，其结合ScanAsyst(PFTSA)。这种成像模式使用由具有小于传统的轻敲模式中使用的尖端(尖端半径～8nm)的硅尖端(半径～2nm)的氮化硅悬臂构成的探针。使用软轻敲模式进行500nm×500nm的扫描。PFTSA图像同时作为“高度传感器”和“峰值力误差”被收集，而轻敲模式图像作为“高度传感器”和“幅度误差”而获得。
数据分析
采用NanoScope Analysis版本1.40软件将原始数据平坦化(以去除样品倾斜)并分析以下3D面区粗糙度参数的数据:
·Sa-算术平均高度-表示与表面的算术平均值相比每个点的高度差异。该参数通常用于评价表面粗糙度。
按照ISO 25178-2:2012几何产品规范(GPS)-表面纹理:区域-第2部分:术语、定义和表面纹理参数测量Sa。对每个实施例取四个Sa值的平均。
表2:一些实施例的平均Sa和平均雾度
/>
表2显示实施例8a具有比实施例7a更粗糙的基层表面，推测这是由于实施例8a采用的较高的玻璃基材温度。如上面详述的，基层的粗糙度在很大程度上决定了随后沉积的层的粗糙度，尽管值得注意的是，在实施例8c中的顶层沉积之前进行的冷却导致比实施例9c在没有冷却的情况下获得的粗糙度更低的粗糙度。表2也显示叠层的粗糙度与其显示的雾度之间存在很强的相关性。
涂覆的窗玻璃的进一步压弯和湿度测试
以与上面详述的实施例4至6相同的方式制备另外五个实施例(10至14)。以与上面详述的比较例1至3和实施例4至6相同的方式对实施例10至14进行压弯和湿度测试。实施例10至14均具有至少35nm厚的SnO2的基层。
以与上面详述的相同方式确定比较例1和2以及实施例10至14的平均雾度和Sa值，并显示在下表3中。对于Sa值，对于上面关于实施例7a至7c、8a至8c和9a至9c详述的三种不同扫描尺寸测量的四个值取平均。Sa值表示每个实施例的SnO2:F的顶层的表面算术平均高度。
在湿度测试之后，对每个实施例分配0至10的粘合失效等级，0表示没有粘合失效，并且逐渐增加到10，表示完全粘合失效。
表3:比较例和本发明实施例的平均雾度、平均Sa和粘合失效等级
如上详述的，图5显示了湿度测试后比较例1的照片。湿度试验后的比较例2和实施例10至14的照片分别示于图7至12中。如从表3和相关图中注意到的，一般来说，粘合失效等级与SnO2:F的顶层表面的平均雾度和平均Sa成反比，当然这主要是由SnO2的基层的粗糙度引起的。虽然可在较低的平均Sa下实现可接受的粘合失效等级，但是要求至少16nm的Sa以实现最佳的粘合失效性能。
本发明不限于前述实施方案的细节。本发明扩展到本说明书(包括任何所附权利要求、摘要和附图)中公开的特征的任何新颖的一个或任何新颖的组合，或扩展到所公开的任何方法或过程的步骤的任何新颖的一个或任何新颖的组合。

Claims (40)

1.一种涂覆的窗玻璃，其依次包含至少以下层:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
另外层，
其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻，
其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.0nm的表面，并且
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值。
2.根据权利要求1所述的涂覆的窗玻璃，其中所述基于金属氧化物的层是基于SnO2、TiO2或氧化铝的层，并且其中所述基于准金属氧化物的层是基于SiO2或氮氧化硅的层。
3.根据权利要求2所述的涂覆的窗玻璃，其中所述基于金属氧化物的层是基于SnO2的层，并且其中所述基于准金属氧化物的层是基于SiO2的层。
4.根据权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中存在所述基于金属氧化物的层和所述基于准金属氧化物的层两者，并且其中透明玻璃基材与基于金属氧化物的层相邻，基于准金属氧化物的层与所述另外层相邻。
5.根据权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少35nm。
6.根据权利要求5所述的涂覆的窗玻璃，其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少36nm。
7.根据权利要求5所述的涂覆的窗玻璃，其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少40nm。
8.根据权利要求5所述的涂覆的窗玻璃，其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层的至少一部分的厚度为至少45nm。
9.根据权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中所述另外层是基于透明导电氧化物(TCO)的层，其中所述TCO是掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)，掺杂铝、镓或硼的氧化锌(ZnO:Al、ZnO:Ga、ZnO:B)，掺杂锡的氧化铟(ITO)，锡酸镉，ITO:ZnO，ITO:Ti，In2O3，In2O3-ZnO(IZO)，In2O3:Ti，In2O3:Mo，In2O3:Ga，In2O3:W，In2O3:Zr，In2O3:Nb，In2-2xMxSnxO3，ZnO:F，Zn0.9Mg0.1O:Ga，和(Zn，Mg)O:P，ITO:Fe，SnO2:Co，In2O3:Ni，In2O3:(Sn、Ni)，ZnO:Mn和ZnO:Co中的一种或多种，其中In2-2xMxSnxO3中的M为Zn或Cu。
10.根据权利要求9所述的涂覆的窗玻璃，其中所述TCO是掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)。
11.根据前述权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含在涂覆之前，其表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm。
12.根据权利要求11所述的涂覆的窗玻璃，其中表面算术平均高度值Sa为至少5.0nm。
13.根据权利要求11所述的涂覆的窗玻璃，其中表面算术平均高度值Sa为至少5.5nm。
14.根据权利要求11所述的涂覆的窗玻璃，其中表面算术平均高度值Sa为至少6.0nm。
15.根据权利要求11所述的涂覆的窗玻璃，其中表面算术平均高度值Sa为至少6.5nm。
16.根据前述权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中所述涂覆的窗玻璃包含最外层，其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少12.5nm，但至多45nm的表面。
17.根据权利要求16所述的涂覆的窗玻璃，其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少13.5nm，但至多30nm的表面。
18.根据权利要求16所述的涂覆的窗玻璃，其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少14.5nm，但至多25nm的表面。
19.根据权利要求16所述的涂覆的窗玻璃，其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少15.5nm，但至多25nm的表面。
20.根据权利要求16所述的涂覆的窗玻璃，其中所述最外层包含其表面算术平均高度值Sa为至少16.0nm，但至多21nm的表面。
21.根据权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中当按照ASTM D1003-13测试时，所述涂覆的窗玻璃表现出至少0.5％的平均雾度值。
22.根据权利要求21所述的涂覆的窗玻璃，其中所述涂覆的窗玻璃表现出至少0.6％的平均雾度值。
23.根据权利要求21所述的涂覆的窗玻璃，其中所述涂覆的窗玻璃表现出至少0.7％的平均雾度值。
24.根据权利要求21所述的涂覆的窗玻璃，其中所述涂覆的窗玻璃表现出至少0.8％的平均雾度值。
25.根据权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中所述涂覆的窗玻璃依次包含至少以下:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层，其是基于SnO2的层，
基于准金属氧化物的层，其是基于SiO2的层，和
另外层，其是基于掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)的层，
其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm的表面，并且
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.50％的平均雾度值。
26.根据权利要求1或2或3所述的涂覆的窗玻璃，其中所述涂覆的窗玻璃顺序由以下组成:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层，其是基于SnO2的层，
基于准金属氧化物的层，其是基于SiO2的层，和
另外层，其是基于掺杂氟的氧化锡(SnO2:F)的层，
其中与所述透明玻璃基材相邻的所述层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其涂覆之前的表面算术平均高度值Sa为至少4.5nm的表面，并且
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.50％的平均雾度值。
27.根据权利要求1-3、6-8、10、12-15、17-20和22-24中任一项所述的涂覆的窗玻璃，其中将所述涂覆的窗玻璃进行热弯曲、钢化，或者热弯曲且钢化。
28.根据前述权利要求1-27中任一项所述的涂覆的窗玻璃的制造方法，依次包括以下步骤:
a)提供透明玻璃基材，
b)直接或间接地在透明玻璃基材的表面上依次沉积至少以下层:
i)基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
ii)另外层。
29.根据权利要求28所述的方法，其中使用化学气相沉积(CVD)进行步骤b)i)。
30.根据权利要求28所述的方法，其中使用CVD进行步骤b)i)和b)ii)两者。
31.根据权利要求28或29所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少690℃的温度时，进行步骤b)i)。
32.根据权利要求28或29所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少715℃的温度时，进行步骤b)i)。
33.根据权利要求28或29所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少725℃的温度时，进行步骤b)i)。
34.根据权利要求28或29所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少730℃的温度时，进行步骤b)i)。
35.根据权利要求28或29所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少690℃，但至多790℃的温度时，进行步骤b)i)中的基于金属氧化物的层的所述沉积。
36.根据权利要求35所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少715℃，但至多760℃的温度时，进行步骤b)i)中的基于金属氧化物的层的所述沉积。
37.根据权利要求35所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少725℃，但至多750℃时，进行步骤b)i)中的基于金属氧化物的层的所述沉积。
38.根据权利要求35所述的方法，其中当透明玻璃基材处于至少730℃，但至多745℃的温度时，进行步骤b)i)中的基于金属氧化物的层的所述沉积。
39.根据权利要求28或29的方法，其中所述方法还包括在步骤b)ii)之后弯曲涂覆的窗玻璃。
40.一种涂覆的窗玻璃，其依次包含至少以下层:
透明玻璃基材，
基于金属氧化物的层和/或基于准金属氧化物的层，和
另外层，
其中所述基于金属氧化物的层或所述基于准金属氧化物的层与所述透明玻璃基材相邻，
其中涂覆的窗玻璃包含最外层，其中所述最外层包含当按照ISO 25178-2:2012测试时，其表面算术平均高度值Sa为至少为12.5nm的表面，并且
其中当按照ASTM D1003-13测试时，涂覆的窗玻璃表现出至少0.47％的平均雾度值。
CN201880011032.8A 2017-02-09 2018-02-09 涂覆的窗玻璃 Active CN110267927B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB1702168.4A GB201702168D0 (en) 2017-02-09 2017-02-09 Coated glazing
GB1702168.4 2017-02-09
PCT/GB2018/050371 WO2018146487A1 (en) 2017-02-09 2018-02-09 Coated glazing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110267927A CN110267927A (zh) 2019-09-20
CN110267927B true CN110267927B (zh) 2023-10-27

Family

ID=58462022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880011032.8A Active CN110267927B (zh) 2017-02-09 2018-02-09 涂覆的窗玻璃

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20200031709A1 (zh)
EP (1) EP3580187B1 (zh)
JP (1) JP7320451B2 (zh)
CN (1) CN110267927B (zh)
BR (1) BR112019015934A2 (zh)
ES (1) ES2927431T3 (zh)
GB (1) GB201702168D0 (zh)
PL (1) PL3580187T3 (zh)
WO (1) WO2018146487A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2582886B (en) * 2018-10-08 2023-03-29 Pilkington Group Ltd Process for preparing a coated glass substrate

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102227653A (zh) * 2008-11-27 2011-10-26 埃西勒国际通用光学公司 制造具有防眩性能的光学制品的方法
WO2016001661A2 (en) * 2014-07-02 2016-01-07 Pilkington Group Limited Planarisation of a coating
CN105829258A (zh) * 2013-10-18 2016-08-03 康宁股份有限公司 提供基材和基材上保护性涂层的方法和设备
CN105848883A (zh) * 2013-10-14 2016-08-10 康宁股份有限公司 含有具有中等粘性和保留强度的膜的玻璃制品
CN106068247A (zh) * 2014-02-24 2016-11-02 皮尔金顿集团有限公司 涂覆的窗玻璃

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001002449A (ja) * 1999-04-22 2001-01-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd 低放射ガラスと該低放射ガラスを使用したガラス物品
EP1500634A4 (en) 2002-03-26 2008-01-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd GLASS SUBSTRATE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
FR2857030B1 (fr) * 2003-07-01 2006-10-27 Saint Gobain Procede de depot d'oxyde de titane par source plasma
GB201018141D0 (en) * 2010-10-27 2010-12-08 Pilkington Group Ltd Polishing coated substrates
US20120107558A1 (en) * 2010-11-01 2012-05-03 Shari Elizabeth Koval Transparent substrate having durable hydrophobic/oleophobic surface
US20140124030A1 (en) 2011-06-30 2014-05-08 Kaneka Corporation Thin film solar cell and method for manufacturing same
GB201406177D0 (en) * 2014-04-04 2014-05-21 Pilkington Group Ltd A glazing
GB201506244D0 (en) * 2015-04-13 2015-05-27 Pilkington Group Ltd Coated glazing
GB201515985D0 (en) * 2015-09-09 2015-10-21 Pilkington Group Ltd Deposition process

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102227653A (zh) * 2008-11-27 2011-10-26 埃西勒国际通用光学公司 制造具有防眩性能的光学制品的方法
CN105848883A (zh) * 2013-10-14 2016-08-10 康宁股份有限公司 含有具有中等粘性和保留强度的膜的玻璃制品
CN105829258A (zh) * 2013-10-18 2016-08-03 康宁股份有限公司 提供基材和基材上保护性涂层的方法和设备
CN106068247A (zh) * 2014-02-24 2016-11-02 皮尔金顿集团有限公司 涂覆的窗玻璃
WO2016001661A2 (en) * 2014-07-02 2016-01-07 Pilkington Group Limited Planarisation of a coating

Also Published As

Publication number Publication date
US20200031709A1 (en) 2020-01-30
ES2927431T3 (es) 2022-11-04
WO2018146487A1 (en) 2018-08-16
PL3580187T3 (pl) 2022-10-17
EP3580187A1 (en) 2019-12-18
EP3580187B1 (en) 2022-08-24
BR112019015934A2 (pt) 2020-03-24
GB201702168D0 (en) 2017-03-29
JP2020508955A (ja) 2020-03-26
CN110267927A (zh) 2019-09-20
JP7320451B2 (ja) 2023-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11091391B2 (en) Heat treatable coated glass pane
CN112130233B (zh) 硬质抗反射涂层及其制造和用途
US7049003B2 (en) Method of manufacturing windshield using ion beam milling of glass substrate(s)
US6808606B2 (en) Method of manufacturing window using ion beam milling of glass substrate(s)
JP6334782B2 (ja) ガラス基板上にシリカコーティングを形成するプロセス
WO2006054730A1 (ja) 薄膜付きガラス板の製造方法
RU2526298C2 (ru) Кремниевый тонкопленочный солнечный элемент, обладающий усовершенствованной дымчатостью, и способы его изготовления
AU2007290843B2 (en) Method of making a low-resistivity, doped zinc oxide coated glass article and the coated glass article made thereby
US20170313618A1 (en) Glass treatment
CN110267927B (zh) 涂覆的窗玻璃
JPWO2016163199A1 (ja) ガラス板およびその製造方法
JP2014534143A (ja) 光触媒材料及び前記材料を含む板ガラス又は光起電力セル
US20240034669A1 (en) Coated glazing
CN1321084C (zh) 透明薄膜的形成方法,根据该方法形成的透明薄膜及具有透明薄膜的透明基体
WO2005087678A1 (en) Process for the deposition of aluminium oxide coatings
US8465841B2 (en) Coated glass article
JP2009242128A (ja) 透明導電ガラス基板およびその製造方法
WO2014112482A1 (ja) 積層膜付きガラス基板及びその製造方法
WO2023100710A1 (ja) 膜付きガラス基板
CN115605446A (zh) 带有透明导电膜的玻璃基板及其制造方法
JPH07291664A (ja) 透明導電性薄膜
WO2003082759A1 (fr) Substrat de verre possedant un film mince et procede de fabrication correspondant
US20190071349A1 (en) SOLAR CONTROL GLAZING COMPRISING A LAYER OF A NiCuCr ALLOY

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant