CN110253731A - 一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法,属于座便器制造技术领域。其中,排釉装置包括供气装置、第一进气管和第二进气管。第一进气管与供气装置连接,第一进气管具有用于与冲水口对接密封的对接部。第二进气管与供气装置连接,第二进气管用于与开口对接密封。供气装置被构造成为第一进气管和第二进气管供气。在排釉时,第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封后,供气装置向第一进气管提供的气体将直接进入复冲管道,从而提高了复冲管道内的压力,复冲管道内的釉料更多地被排出,减少了管道积釉量。此外,供气压力无需太大就能够实现对积釉的排出,流速不大流量变大,减少对复冲管道积釉液面的喷溅。
Description
技术领域
本申请涉及座便器制造技术领域,具体而言,涉及一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法。
背景技术
座便器在制造过程中,需要对座便器的内部管道涂一层釉层,以保证管道内部的光滑,在对座便器烧结前需要通过排釉装置将座便器的管道内的釉料排出。现有的排釉装置包括供气装置和与供气装置连接的两个气管,排釉时,其中一个气管与座便器的座圈面上的开口对接,另一个气管与座便器的水箱顶部的开口对接,参见公开号为CN207267285U的专利。采用这种排釉装置对座便器的管道进行排釉,烧结后的座便器的管道内存在出现气泡、裂纹等缺陷。
发明内容
本申请实施例提供一种排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法,以改善烧结后的座便器的管道内存在出现气泡、裂纹等缺陷的问题。
第一方面,本申请实施例提供一种排釉装置,适用于对包括座便本体的座便器的管道排釉,所述座便本体具有用于向其内部冲水的冲水口和设于顶部座圈面上的开口,排釉装置包括供气装置、第一进气管和第二进气管;
所述第一进气管与所述供气装置连接,所述第一进气管具有用于与所述冲水口对接密封的对接部;
所述第二进气管与所述供气装置连接,所述第二进气管用于与所述开口对接密封;
其中,所述供气装置被构造成为所述第一进气管和所述第二进气管供气。
上述技术方案中,排釉装置中的第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封后,供气压力无需太大就能够实现对积釉的排出,流速不大流量变大,减少对复冲管道积釉液面的喷溅,可有效避免烧结后的座便器的管道内出现气泡、裂纹等缺陷。
发明人发现:通过现有排釉装置进行排釉会出现气泡、裂纹等缺陷的原因主要是因为排釉过程中水箱的进水口漏气,导致压力不够排釉不干净,烧结后出现气泡、裂纹等缺陷;增大供气压力来提高排水口的气流,使得进入复冲管道的气体流速增大,造成对复冲管道釉料液面的喷溅,造成釉料挂壁不均匀,也会烧结后出现气泡、裂纹等缺陷。
另外,本申请实施例的排釉装置还具有如下附加的技术特征:
在本申请的一些实施例中,所述对接部为与所述冲水口大小相匹配的对接接头。
上述技术方案中,对接部为与冲水口大小相匹配的对接接头,对接接头能够实现第一进气管与冲水口的快速对接连通,保证第一进气管与冲水口对接后具有很好的密封性。
在本申请的一些实施例中,所述排釉装置还包括机架和第一驱动装置;
所述供气装置连接于所述机架;
所述第一驱动装置被构造成驱动所述第一进气管相对所述机架竖向移动;
所述第一驱动装置驱动所述第一进气管相对所述机架竖向向下移动能够使所述对接部与所述冲水口对接密封。
上述技术方案中,通过第一驱动装置可驱动第一进气管竖向移动,当第一驱动装置驱动第一进气管相对机架竖向向下移动时,可使第一进气管与对接部与冲水口对接密封,使得第一进气管与冲水口的对接更加方便快捷。
在本申请的一些实施例中,所述排釉装置还包括活动座和第二驱动装置;
所述活动座可移动地设置于所述机架,所述第二驱动装置被构造成驱动所述活动座相对所述机架横向移动;
所述第一进气管可移动地设置于所述活动座,所述第一驱动装置被构造成驱动所述第一进气管相对所述活动座竖向移动。
上述技术方案中,第二驱动装置能够驱动活动座相对机架横向移动,第一驱动装置能够驱动第一进气管相对活动座竖向移动,即通过第二驱动装置和第二驱动装置可使第一进气管在横向和竖向移动。当座便本体的冲水口在横向上偏离于第一进气管的对接部时,可通过第二驱动装置使第一进气管横向移动,以使第一进气管的对接部与冲水口对齐,再通过第一驱动装置使第一进气管竖向移动,进而使第一进气管的对接部与冲水口准确对接。
在本申请的一些实施例中,所述活动座为板状件,所述活动座具有相对的第一端和第二端;
所述机架上设有相对的且沿横向布置的第一滑槽和第二滑槽,所述第一端可移动地插设于所述第一滑槽,所述第二端可移动地插设于所述第二滑槽内。
上述技术方案中,机架设有横向布置的第一滑槽和第二滑槽,活动座的第一端可移动地插设于第一滑槽内,活动座的第二端可移动地插设于第二滑槽内,这种结构使得活动座相对机架滑动过程中具有很好的稳定性。
在本申请的一些实施例中,所述排釉装置还包括密封装置;
所述密封装置连接于所述机架,所述密封装置用于将所述第二进气管与所述开口密封。
上述技术方案中,密封装置的作用是对第二进气管与顶部座圈面上的开口进行密封,保证第二进气管与开口之间的密封性能。
在本申请的一些实施例中,所述密封装置包括遮盖件和第三驱动装置;
所述第二进气管连接于所述遮盖件,所述第三驱动装置被构造成驱动所述遮盖件相对所述机架竖向移动;
所述第三驱动装置驱动所述遮盖件竖向向下移动能够使所述遮盖件遮盖密封于所述开口,以使所述第二进气管与所述座便本体内部连通。
上述技术方案中,第二进气管连接于遮盖件,通过第三驱动装置驱动遮盖件相对机架竖向向下移动并使遮盖件遮盖密封于开口,则可实现第二进气管与开口之间的密封,这种结构的密封装置可方便快捷的将第二进气管与开口对接密封。
在本申请的一些实施例中,所述第一进气管与所述供气装置通过软管连通。
上述技术方案中,第一进气管与供气装置通过软管连接,在供气装置静止的情况下,第一进气管在竖向移动时,软管能够发生弯曲变形,以保证第一进气管竖向移动过程中的顺畅性。软管具有弯曲变形能力,不易被折断,保证第一进气管与供气装置之间始终处于连通状态。
在本申请的一些实施例中,所述供气装置包括第一供气单元和第二供气单元;
所述第一供气单元被构造成为所述第一进气管供气;
所述第二供气单元被构造成为所述第二进气管供气。
上述技术方案中,供气装置包括为第一进气管供气的第一供气单元和为第二进气管供气的第二供气单元,即第一进气管和第二进气管分别由第一供气单元和第二供气单元单独供气,便于控制第一进气管、第二进气管单独供气。第一供气单元单独工作时,第一进气管可向冲水口单独供气;第二供气单元单独工作时,第二进气管可向顶部座圈面上的开口单独供气;第一供气单元和第二供气单元同时工作时,第一进气管向冲水口供气的同时,第二进气管向顶部座圈面上的开口供气。
在本申请的一些实施例中,所述第一进气管上设有第一流量调节装置。
上述技术方案中,第一进气管上设有第一流量调节装置,第一流量调节装置可对通过第一进气管的气体的流量进行调节。
在本申请的一些实施例中,所述第一进气管上设有第一流量检测装置,所述第一流量调节装置响应于所述第一流量检测装置。
上述技术方案中,第一进气管上设有第一流量检测装置,第一流量检测装置可对通过第一进气管的气体的流量进行测量。第一流量调节装置响应于第一流量检测装置,则当第一流量检测装置所测量的值高于或低于预设值时,第一流量调节装置将调节通过第一进气管的气体的流量,以保持在预设值。
在本申请的一些实施例中,所述第二进气管上设有第二流量调节装置。
上述技术方案中,第二进气管上设有第二流量调节装置,第二流量调节装置可对通过第二进气管的气体的流量进行调节。
在本申请的一些实施例中,所述第二进气管上设有第二流量检测装置,所述第二流量调节装置响应于所述第二流量检测装置。
上述技术方案中,第二进气管上设有第二流量检测装置,第二流量检测装置可对通过第二进气管的气体的流量进行测量。第二流量调节装置响应于第二流量检测装置,则当第二流量检测装置所测量的值高于或低于预设值时,第二流量调节装置将调节通过第二进气管的气体的流量,以保持在预设值。
在本申请的一些实施例中,所述排釉装置还包括主管和分流调节装置;
所述主管具有进气端和出气端,所述进气端与所述供气装置连接;
所述分流调节装置具有进气口、第一出气口和第二出气口,所述出气端连接于所述进气口,所述第一进气管连接于所述第一出气口,所述第二进气管连接于所述第二出气口。
上述技术方案中,与供气装置连接的主管与分流调节装置的进气口连接,第一进气管与分流调节装置的第一出气口连接,第二进气管与分流调节装置的第二出气口连接,通过分流调节装置可将供气装置供给主管的气体按需分配给第一进气管和第二进气管。
在本申请的一些实施例中,所述座便器还包括与所述座便本体连接的水箱;
所述水箱具有进水口和排水口,所述排水口为所述冲水口。
上述技术方案中,与座便本体连接的水箱的排水口即为座便本体的冲水口,将第一进气管插入水箱并使对接部与排水口对接后,通过供气装置向排水口供气便可进行排釉。
第二方面,本申请实施例提供一种排釉系统,包括座便器和上述的排釉装置;
所述座便器包括座便本体,所述座便本体具有用于向其内部冲水的冲水口和设于顶部座圈面上的开口;
所述第一进气管的对接部与所述座便本体的冲水口对接密封;
所述第二进气管与所述座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封。
上述技术方案中,排釉装置的第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封,第二进气管与座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封,排釉装置中的供气装置工作便可实现排釉。这种排釉装置由于第一进气管的对接部直接与座便本体的冲水口直接对接密封,供气装置向第一进气管提供的气体将直接进入复冲管道,提高了复冲管道内的压力,复冲管道内的釉料更多地被排出,减少了管道积釉量。
第三方面,本申请实施例提供一种施釉排釉装置,包括施釉装置、输送装置和上述的排釉装置;
所述输送装置被构造成将座便器从施釉装置所在的施釉位置输送至排釉装置所在的排釉位置。
上述技术方案中,施釉装置的作用是对位于输送装置上的座便器的管道进行施釉。通过施釉装置对座便器的管道进行施釉后,可通过输送装置将座便器从施釉装置所在的位置输送至排釉装置所在的位置,再通过排釉装置将座便器的管道内油料排出。通过排釉装置对座便器进行排釉时,可有效降低复冲管道的积釉量。
另外,本申请实施例的施釉排釉装置还具有如下附加的技术特征:
在本申请的一些实施例中,所述施釉装置包括支架、用于与座便器的管道对接的进釉管、活动体、第四驱动装置和第五驱动装置;
所述活动体可移动地设置于所述支架;
所述第四驱动装置被构造成驱动所述活动体相对所述支架横向移动;
所述第五驱动装置被构造成驱动所述进釉管相对所述活动体竖向移动;
所述输送装置被构造成将座便器从施釉装置所在的施釉位置沿纵向输送至排釉装置所在的排釉位置。
上述技术方案中,通过第四驱动装置可驱动活动体相对支架横向移动,即实现进釉管的横向移动,通过第五驱动装置可驱动进釉管相对活动体竖向移动,以实现进釉管的竖向移动。在施釉前,输送装置沿纵向将座便器输送至施釉装置所在的位置时,可先通过第四驱动装置驱动进釉管横向移动,以使进釉管与座便器的管道的底部出口对齐,再通过第五驱动装置驱动进釉管竖向向上移动,以使进釉管与座便器的管道的底部出口对接密封,进而方便的对座便器的管道进行施釉。这种施釉装置可快速的与座便器的管道对接,并进行施釉。
在本申请的一些实施例中,所述施釉装置还包括夹套;
所述夹套可移动地设置于所述活动体,所述夹套夹于所述进釉管的外侧,所述第五驱动装置被构造成驱动所述夹套相对所述活动体竖向移动。
上述技术方案中,夹套可移动地设置于活动体,夹套夹于进釉管的外侧,夹套的设置便于进釉管的拆装,便于更换进釉管。
第四方面,本申请实施例提供一种施釉排釉系统,包括座便器和上述的施釉排釉装置,所述座便器放置于所述输送装置上。
上述技术方案中,施釉排釉系统包括座便器和施釉排釉装置,施釉排釉装置可对座便器进行施釉、排釉。在排釉过程中,可有效降低复冲管道的积釉量。
第五方面,本申请实施例提供一种排釉方法,包括以下步骤:
将第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封;
将第二进气管与座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封;
供气装置向第一进气管和第二进气管供气。
上述技术方案中,由于第一进气管的对接部与座便本体的冲水口直接对接密封,供气装置向第一进气管提供的气体将直接进入复冲管道,提高了复冲管道内的压力,复冲管道内的釉料更多地被排出,减少了管道积釉量。
另外,本申请实施例的排釉方法还具有如下附加的技术特征:
在本申请的一些实施例中,所述供气装置向第一进气管和第二进气管供气的步骤包括:
S1供气装置同时向第一进气管和第二进气管供气;
S2停止向第一进气管和第二进气管供气;
S3供气装置向第一进气管供气;
S4停止向第一进气管供气;
S5供气装置向第二进气管供气;
S6停止向第二进气管供气。
上述技术方案中,通过供气装置先同时向第一进气管和第二进气管供气,然后,再通过供气装置依次单独向第一进气管供气和第二进气管供气,可更彻底的将座便器的管道内的釉料排出。
本申请的有益效果包括:
本申请实施例提供的排釉装置及系统、施釉排釉装置及系统和排釉方法,第一进气管具有用于与座便本体的冲水口对接的对接部,减少了管道积釉量,提高了釉料的挂壁均匀性,降低了烧结后成品管道的缺陷率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为现有技术中座便器的结构示意图;
图2为本申请实施例提供的排釉装置的结构示意图;
图3为本申请其他实施例提供的第一进气管和第二进气管与供气装置连接的第一种可能的结构示意图;
图4为本申请其他实施例提供的第一进气管和第二进气管与供气装置连接的第二种可能的结构示意图;
图5为图2所示的排釉装置的局部视图;
图6为本申请实施例提供的排釉系统的结构示意图;
图7为本申请实施例提供的施釉排釉装置的结构示意图;
图8为图7所示的施釉装置在第一视角下的结构示意图;
图9为图7所示的施釉装置在第二视角下的结构示意图。
图标:100-排釉装置;10-供气装置;11-第一供气单元;12-第二供气单元;20-第一进气管;21-对接部;22-软管;30-第二进气管;40-主管;41-进气端;42-出气端;43-分流调节装置;431-进气口;432-第一出气口;433-第二出气口;50-机架;51-第一滑槽;52-第二滑槽;60-第一驱动装置;70-活动座;80-第二驱动装置;90-密封装置;91-遮盖件;92-第三驱动装置;200-座便器;210-座便本体;2101-顶部座圈面;2102-冲水空间;2103-开口;2104-水环;2105-复冲管道;2106-出水管道;2107-窝口;2108-冲水口;220-水箱;2201-进水口;2202-排水口;300-排釉系统;400-施釉排釉装置;410-施釉装置;411-支架;4111-顶板;4112-条形槽;412-进釉管;4121-第一管段;4122-第二管段;4123-第三管段;413-活动体;4131-第一连接板;4132-第二连接板;4133-第三连接板;4134-第四连接板;414-第四驱动装置;415-第五驱动装置;416-夹套;420-输送装置;A-竖向;B-横向;C-纵向。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本申请实施例的描述中,需要说明的是,指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请实施例的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接连接,也可以通过中间媒介间接连接。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
实施例
通常,如图1所示,座便器200包括座便本体210和水箱220,水箱220设于座便本体210的顶部。水箱220具有进水口2201和排水口2202。座便本体210具有顶部座圈面2101,座便本体210内部设有冲水空间2102、水环2104和管道,水环2104靠近于顶部座圈面2101。其中,顶部座圈面2101上设有与冲水空间2102连通的开口2103;座便本体210具有冲水口2108,冲水口2108即为水箱220的排水口2202,冲水口2108与水环2104连通;管道包括复冲管道2105和出水管道2106,复冲管道2105的一端与水环2104连通,出水管道2106的一端贯通座便本体210的底部,复冲管道2105的另一端和出水管道2106的另一端汇集于冲水空间2102的底部,复冲管道2105、出水管道2106和冲水空间2102三者汇集处形成窝口2107。
现有的排釉装置中,与供气装置连接的两个气管直接为座便本体210的顶部座圈面2101上的开口2103和水箱220顶部的开口2103对接,然而,由于水箱220具有进水口2201和排水口2202,进入水箱220的气体很大一部分从进水口2201中泄露于外界,只有少部分的气体能够从水箱220的排水口2202进入至复冲管道2105内,复冲管道2105的压力减小,从而导致复冲管道2105内积釉严重。目前一般通过增大压力提高排水口2202的气流,使得进入复冲管道2105的气体流速增大,造成对复冲管道2105釉料液面的喷溅,造成釉料挂壁不均匀,烧结后出现气泡、裂纹等缺陷。
本申请第一方面实施例提供一种排釉装置100,以有效降低复冲管道2105内的积釉。
如图2所示,排釉装置100包括供气装置10、第一进气管20和第二进气管30。第一进气管20与供气装置10连接,第一进气管20具有用于与座便本体210的冲水口2108对接密封的对接部21。第二进气管30与供气装置10连接,第二进气管30用于与座便本体210的顶部座圈面2101上的开口2103对接密封。供气装置10被构造成为第一进气管20和第二进气管30供气。
排釉装置100中的第一进气管20具有用于与座便本体210的冲水口2108对接的对接部21,在排釉时,第一进气管20的对接部21与座便本体210的冲水口2108对接密封后,供气装置10向第一进气管20提供的气体将直接进入复冲管道2105,从而提高了复冲管道2105内的压力,复冲管道2105内的釉料更多地被排出,减少了管道积釉量。此外,供气压力无需太大就能够实现对积釉的排出,流速不大流量变大,减少对复冲管道2105积釉液面的喷溅,可有效避免烧结后的座便器200的管道内出现气泡、裂纹等缺陷。
需要说明的是,排釉装置100在对座便器200的管道进行排釉时,若座便器200中只设置有座便本体210,而并未设置水箱220时,第一进气管20的对接部21则与座便本体210的冲水口2108直接对接密封;若座便本体210中既设置有座便本体210,又设置有水箱220时,水箱220的排水口2202则为座便本体210的冲水口2108,第一进水管的对接部21则从水箱220的顶部进入水箱220内并于排水口2202对接密封。
其中,供气装置10的作用是为第一进水管和第二进水管提供带有一定压力的气体。
继续参照图1,本实施例中,供气装置10包括第一供气单元11和第二供气单元12,第一供气单元11被构造成为第一进气管20供气,第二供气单元12被构造成为第二进气管30供气。
第一进气管20和第二进气管30分别由第一供气单元11和第二供气单元12单独供气,便于控制第一进气管20、第二进气管30单独供气。第一供气单元11单独工作时,第一进气管20可向冲水口2108单独供气;第二供气单元12单独工作时,第二进气管30可向顶部座圈面2101上的开口2103单独供气;第一供气单元11和第二供气单元12同时工作时,第一进气管20向冲水口2108供气的同时,第二进气管30向顶部座圈面2101上的开口2103供气。
本实施例中,对接部21为与冲水口2108大小相匹配的对接接头。对接接头能够实现第一进气管20与冲水口2108的快速对接连通,保证第一进气管20与冲水口2108对接后具有很好的密封性。
需要说明的是,当冲水口2108为开设于座便本体210上的孔道时,对接接头与冲水口2108的大小相匹配可理解为对接接头的外径与孔道的内径相匹配,对接接头插设于孔道内后则实现密封对接;当冲水口2108凸出于座便本体210的小段管时,对接接头与冲水口2108的大小相匹配可理解为,对接接头的内径与小段管的外径相匹配,对接接头套设于小段管的外侧则实现密封对接。
在其他实施例中,对接部21也可以是其他结构,比如对接部21为第一进气管20外圆周上的密封圈,对接部21与冲水口2108对接后也能够实现密封。
其中,第一供气单元11的作用是为第一进气管20供气,第二供气单元12的作用是为第一进气管20供气,第一供气单元11和第二供气单元12可以是风机、气泵、压缩气体储存罐等,作为示例的,第一供气单元11和第二供气单元12均为风机。
其中,第一进气管20和第一供气单元11可以直接连接,也可以间接连接;第二进气管30和第二供气单元12可以直接连接,也可以间接连接。若第一进气管20和第二进气管30为软质材料制成,第一进气管20和第二进气管30可分别与第一供气单元11和第二供气单元12直接连接;若第一进气管20和第二进气管30为硬质材料制成,第一进气管20与第一供气单元11可通过软管22间接连接,第二进气管30与第二供气单元12也可通过软管22间接连接。本实施例中,第一进气管20为硬质材质,第二进气管30为软质材质,第一进气管20与第一供气单元11通过软管22连接,第二进气管30与第二供气单元12直接连接。
进一步地,第一进气管20上设有第一流量调节装置,第一流量调节装置可对通过第一进气管20的气体的流量进行调节,从而根据需求对通过第一进气管20的气体的流量进行调节。第一流量调节装置可以是电磁流量阀、手动流量阀等。
进一步地,第二进气管30上设有第二流量调节装置,第二流量调节装置可对通过第二进气管30的气体的流量进行调节,从而根据需求对通过第二进气管30的气体的流量进行调节。作为示例的,第二流量调节装置可以是电磁流量阀、手动流量阀等。
可选的,第一进气管20上设有第一流量检测装置,第一流量调节装置响应于第一流量检测装置。
第一流量调节装置响应于第一流量检测装置,可理解为,第一流量调节装置和第一流量检测装置均与控制器连接。作为示例的,第一流量检测装置为流量计,第一调节装置为电磁流量阀。
第一流量检测装置可对通过第一进气管20的气体的流量进行测量,当第一流量检测装置所测量的值高于或低于预设值时,第一流量调节装置将在控制器的作用下调节通过第一进气管20的气体的流量,以保持在预设值。
可选的,第二进气管30上设有第二流量检测装置,第二流量调节装置响应于第二流量检测装置。
第二流量调节装置响应于第二流量检测装置,可理解为,第二流量调节装置和第二流量检测装置均与控制器连接。作为示例的,第一流量检测装置为流量计,第二调节装置为电磁流量阀。
第二流量检测装置可对通过第二进气管30的气体的流量进行测量,当第二流量检测装置所测量的值高于或低于预设值时,第二流量调节装置将在控制器的作用下调节通过第一进气管20的气体的流量,以保持在预设值。
当然,在其他实施例中,也可以在第一进气管20和第二进气管30上设置压力检测装置以及压力调节装置。第一进气管20上的压力检测装置用于检测第一进气管20内的气体压力,第一进气管20上的压力调节装置用于调节第一进气管20内的气体的压力;第二进气管30上的压力检测装置用于检测第二进气管30内的气体压力,第二进气管30上的压力调节装置用于调节第二进气管30内的气体的压力。
本实施例中,第一进气管20和第二进气管30分别由第一供气单元11和第二供气单元12分别供气。在其他实施例中,第一进气管20和第二进气管30也可由同一个供气装置10供气,比如,如图3所示,供气装置10连接有主管40,第一进气管20和第二进气管30均与主管40连接,则第一进气管20、第二进气管30和主管40三者构成三叉管,供气装置10向主管40供气后,主管40内的气体将被分流至第一进气管20和第二进气管30内,其中,供气装置10可以是风机、气泵、压缩气体储存罐等。当然,第一进气管20和第二进气管30也可以与主管40间接连接,比如,如图4所示,第一进气管20和第二进气管30通过分流调节装置43与主管40连接,主管40具有进气端41和出气端42,进气端41与供气装置10连接,分流调节装置43具有进气口431、第一出气口432和第二出气口433,出气端42连接于进气口431,第一进气管20连接于第一出气口432,第二进气管30连接于第二出气口433。通过分流调节装置43可将供气装置10供给主管40的气体按需分配给第一进气管20和第二进气管30。作为示例的,分流调节装置43为三通阀。
进一步地,如图5所示,本实施例中,排釉装置100还包括机架50和第一驱动装置60,供气装置10连接于机架50,第一驱动装置60被构造成驱动第一进气管20相对机架50竖向A移动,第一驱动装置60驱动第一进气管20相对机架50竖向A向下移动能够使对接部21与冲水口2108对接密封。
当第一驱动装置60驱动第一进气管20相对机架50竖向A向下移动时,可使第一进气管20与对接部21与冲水口2108对接密封,使得第一进气管20与冲水口2108的对接更加方便快捷。
其中,供气装置10的第一供气单元11和第二供气单元12均固定在机架50上,第一进气管20竖向A布置。
此外,由于第一进气管20与供气装置10的第一供气单元11通过软管22连接,第一进气管20在竖向A移动时,软管22能够发生弯曲变形,以保证第一进气管20竖向A移动过程中的顺畅性。软管22具有弯曲变形能力,不易被折断,保证第一进气管20与第一供气装置10之间始终处于连通状态。
可选的,排釉装置100还包括活动座70和第二驱动装置80。活动座70可移动地设置于机架50,第二驱动装置80被构造成驱动活动座70相对机架50横向B移动。第一进气管20可移动地设置于活动座70,第一驱动装置60被构造成驱动第一进气管20相对活动座70竖向A移动。
通过第一驱动装置60和第二驱动装置80可使第一进气管20在竖向A和横向B移动。当座便本体210的冲水口2108在横向B上偏离于第一进气管20的对接部21时,可通过第二驱动装置80使第一进气管20横向B移动,以使第一进气管20的对接部21与冲水口2108对齐,再通过第一驱动装置60使第一进气管20竖向A移动,进而使第一进气管20的对接部21与冲水口2108准确对接。
其中,机架50主要起到连接和支撑各部件的作用,其结构可以是多种,作为示例的,机架50为框架结构。活动座70也可以是多种结构,作为示例的活动座70为板状结构。
第一驱动装置60的作用是驱动第一进气管20相对活动座70竖向A移动,第一驱动装置60可以是多种结构。本实施例中,第一驱动装置60为气缸,气缸竖直布置,气缸的缸体与活动座70固定连接,气缸的活塞杆连接有连接板,第一进气管20竖向A固定于连接板上,气缸的活塞杆相对缸体伸缩则可使连接板竖向移动,从而带动第一进气管20移动。当然,气缸可以是一个,也可以是多个(包括两个),作为示例的,气缸为两个。在其他实施例中,第一驱动装置60也可以是其他结构,比如,第一驱动装置60为液压缸。
需要说明的,当第一进气管20除了对接接头以外的部分也可以是为软质的,可将对接接头与连接板固定,气缸的活塞杆相对缸体伸缩则可使连接板移动,从而带动第一进气管20的对接接头竖向移动。
第二驱动装置80的作用是驱动活动座70相对机架50横向B移动,第二驱动装置80也可以是多种结构。本实施例中,第二驱动装置80包括第一电机和第一丝杆,第一电机固定在机架50,第一电机的输出轴与第一丝杆连接,活动座70螺接于第一丝杆的外侧以构成第一丝杆螺母副,第一电机带动第一丝杆转动时,活动座70则将相对机架50横向B移动。在其他实施例中,第二驱动装置80也可以是其他结构,比如第二驱动装置80为气缸,通过气缸的伸缩来实现活动座70的横向B移动。
其中,活动座70与机架50的连接形式有多种。本实施例中,活动座70为板状件,活动座70具有相对的第一端和第二端。机架50上设有相对的且沿横向B布置的第一滑槽51和第二滑槽52,第一端可移动地插设于第一滑槽51,第二端可移动地插设于第二滑槽52内。
机架50设有横向B布置的第一滑槽51和第二滑槽52,活动座70的第一端可移动地插设于第一滑槽51内,活动座70的第二端可移动地插设于第二滑槽52内,这种结构使得活动座70相对机架50滑动过程中具有很好的稳定性。
其中第一滑槽51的槽口面向于第二滑槽52的槽口。
在其他实施例中,活动座70与基架也可是其他连接形式,以实现活动座70的可移动。比如,活动座70的底部间隔设置两个T形块,在机架50上间隔设置两个T形槽,两个T形块分别可移动地设于两个T形槽内。
进一步地,如图1所示,排釉装置100还包括密封装置90,密封装置90连接于机架50,密封装置90用于将第二进气管30与开口2103密封。密封装置90的作用是对第二进气管30与顶部座圈面2101上的开口2103进行密封,保证第二进气管30与开口2103之间的密封性能。
其中,密封装置90可以是多种结构,只要密封装置90能够将第二进气管30与顶部座圈面2101上的进行密封即可。
本实施例中,密封装置90包括遮盖件91和第三驱动装置92。第二进气管30连接于遮盖件91,第三驱动装置92被构造成驱动遮盖件91相对机架50竖向A移动。第三驱动装置92驱动遮盖件91竖向A向下移动能够使遮盖件91遮盖密封于开口2103,以使第二进气管30与座便本体210内部连通。
上述技术方案中,第二进气管30连接于遮盖件91,通过第三驱动装置92驱动遮盖件91相对机架50竖向A向下移动并使遮盖件91遮盖密封于开口2103,则可实现第二进气管30与开口2103之间的密封,这种结构的密封装置90可方便快捷的将第二进气管30与开口2103对接密封。
其中,遮盖件91为板件,遮盖件91上设有贯穿气上下表面的通孔,第二进气管30延伸至通孔内,进气管的外壁与通孔的孔壁密封。遮盖件91在第三驱动装置92驱动下竖向A向下移动过程中,遮盖件91最终将遮盖密封于座便本体210的顶部座圈面2101上,从而使现第二进气管30与开口2103对接密封。
其中,第三驱动装置92的作用是驱动遮盖件91相对机架50竖向A移动,第三驱动装置92可以是多种结构。本实施例中,第三驱动装置92为气缸,气缸的缸体与基架连接固定,气缸的活塞杆与遮盖件91连接固定。当然,气缸可以是一个或多个(包括两个),作为示例的,气缸为四个,四个气缸分别位于矩形的四角处。在其他实施例中,第三驱动装置92也可是其他结构,比如,第三驱动装置92为液压缸。
如图6所示,本申请第二方面实施例提供一种排釉系统300,包括座便器200和上述实施例中的排釉装置100。第一进气管20的对接部21与所述座便本体210的冲水口2108对接密封,第二进气管30与座便本体210的顶部座圈面2101上的开口2103对接密封。
排釉装置100的第一进气管20的对接部21与座便本体210的冲水口2108对接密封,第二进气管30与座便本体210的顶部座圈面2101上的开口2103对接密封,排釉装置100中的供气装置10工作便可实现排釉。由于第一进气管20的对接部21直接与座便本体210的冲水口2108直接对接密封,供气装置10向第一进气管20提供的气体将直接进入复冲管道2105,提高了复冲管道2105内的压力,复冲管道2105内的釉料更多地被排出,减少了管道积釉量。
如图7所示,本申请第三方面实施例提供一种施釉排釉装置400,包括施釉装置410、输送装置420和上述实施例中的排釉装置100,输送装置420被构造成将座便器200从施釉装置410所在的施釉位置输送至排釉装置100所在的排釉位置。
施釉装置410的作用是对位于输送装置420上的座便器200的管道进行施釉。通过施釉装置410对座便器200的管道进行施釉后,可通过输送装置420将座便器200从施釉装置410所在的位置输送至排釉装置100所在的位置,再通过排釉装置100将座便器200的管道内油料排出。通过排釉装置100对座便器200进行排釉时,可有效降低复冲管道2105的积釉量。
本实施例中,如图8所示,施釉装置410包括支架411、用于与座便器200的管道对接的进釉管412、活动体413、第四驱动装置414和第五驱动装置415。活动体413可移动地设置于支架411,第四驱动装置414被构造成驱动活动体413相对支架411横向B移动。第五驱动装置415被构造成驱动进釉管412相对活动体413竖向A移动。输送装置420被构造成将座便器200从施釉装置410所在的施釉位置沿纵向C输送至排釉装置100所在的排釉位置。
通过第四驱动装置414可驱动活动体413相对支架411横向B移动,即实现进釉管412的横向B移动,通过第五驱动装置415可驱动进釉管412相对活动体413竖向A移动,以实现进釉管412的竖向A移动。在施釉前,输送装置420沿纵向C将座便器200输送至施釉装置410所在的位置时,可先通过第四驱动装置414驱动进釉管412横向B移动,以使进釉管412与座便器200的管道的底部出口对齐,再通过第五驱动装置415驱动进釉管412竖向A向上移动,以使进釉管412与座便器200的管道的底部出口对接密封,进而方便的对座便器200的管道进行施釉,座便器200的管道的底部出口即为复冲管道2105远离窝口2107的一端。这种施釉装置410可快速的与座便器200的管道对接,并进行施釉。
其中,如图9所示,支架411主要起到支撑和连接各部件的作用,支架411可以是多种结构,作为示例的,支架411为矩形框架结构,支架411上设有顶板4111。
活动体413为矩形框,活动体413包括首尾依次连接的第一连接板4131、第二连接板4132、第三连接板4133和第四连接板4134。支架411的顶板4111上设有两条条形槽4112,第一连接板4131和第三连接部竖向A布置并分别插设于两条条形槽4112内,第一连接板4131和第三连接板4133能够分别在两条条形槽4112内滑动,第二连接板4132位于顶板4111的上方,第四连接板4134位于顶板4111的下方。
第四驱动装置414的作用是驱动活动体413相对支架411横向B移动,第四驱动装置414可以是多种结构。本实施例中,第四驱动装置414包括第二电机和第二丝杆,第二电机固定支架411上,第二电机的输出轴与第二丝杆连接,活动体413螺接于第二丝杆的外侧以构成丝杆螺母副,第二电机带动第二丝杆转动时,活动体413将相对支架411沿横向B移动。其中,活动体413的第二连接板4132与丝杆螺接。在其他实施例中,第四驱动装置414也可以是其他结构,比如,第四驱动装置414为气缸,通过气缸的伸缩来实现活动体413的横向B移动。
进一步地,如图8所示,施釉装置410还包括夹套416,夹套416可移动地设置于活动体413,夹套416夹于进釉管412的外侧,第五驱动装置415被构造成驱动夹套416相对活动体413竖向A移动。夹套416的设置便于进釉管412的拆装,便于更换进釉管412。
其中,夹套416的横截面为C形,进釉管412卡于夹套416的C形卡口内。
第五驱动装置415的作用是驱动进釉管412竖向A移动,第五驱动装置415可以是多种结构。本实施例中,第五驱动装置415为气缸,气缸的缸体与活动体413的第四连接板4134连接固定,夹套416位于第一连接板4131与第二连接板4132之间并与气缸的活塞杆连接固定。
本实施例中,进釉管412为Z形结构,进釉管412包括依次连接的第一管段4121、第二管段4122和第三管段4123,第一管段4121和第三管段4123均与第二管段4122垂直,夹套416夹持在第二管段4122的外侧,第二管段4122沿纵向C延伸,第一管段4121从第二管段4122竖向A向上延伸,第三管段4123从第二管段4122竖向A向下延伸。
其中,第一管段4121远离第二管段4122的一端设有用于与座便器200的管道的出水管道2106对接密封的对接接头。
输送装置420的作用是将座便器200从施釉装置410的所在位置沿纵向C输送至排釉装置100所在的位置。输送装置420的传送带,输送装置420沿纵向C布置,即输送装置420的输送方向为纵向C。
需要说明的是,上述所指的竖向A、横向B和纵向C两两相互垂直,当然所指的垂直并不一定是绝对垂直。
本申请第四方面实施例提供一种施釉排釉系统,包括座便器200和上述实施例的施釉排釉装置400,座便器200放置于输送装置420上。
施釉排釉系统包括座便器200和施釉排釉装置400,施釉排釉装置400可对座便器200进行施釉、排釉。在排釉过程中,可有效降低复冲管道2105的积釉量。
本申请第五方面实施例提供一种排釉方法,适用于上述实施例的排釉装置100、排釉系统300、施釉排釉装置400和施釉排釉系统,排釉方法包括以下步骤:
将第一进气管20的对接部21与座便本体210的冲水口2108对接密封;
将第二进气管30与座便本体210的顶部座圈面2101上的开口2103对接密封;
供气装置10向第一进气管20和第二进气管30供气。
由于第一进气管20的对接部21与座便本体210的冲水口2108直接对接密封,供气装置10向第一进气管20提供的气体将直接进入复冲管道2105,提高了复冲管道2105内的压力,复冲管道2105内的釉料更多地被排出,减少了管道积釉量。
其中,供气装置10向第一进气管20和第二进气管30供气的步骤包括:
S1供气装置10同时向第一进气管20和第二进气管30供气;
S2停止向第一进气管20和第二进气管30供气;
S3供气装置10向第一进气管20供气;
S4停止向第一进气管20供气;
S5供气装置10向第二进气管30供气;
S6停止向第二进气管30供气。
也就是说,先通过第一供气单元11和第二供气单元12同时向第一进气管20和第二进气管30供气,先将复冲管道2105内的积釉排出一部分,再通过第一供气装置10向第一进气管20供气,使复冲管道2105内的积釉从出水管道2106排出,最后再通过第二供气单元12向第二进气管30供气,使窝口2107内的积釉从出水管道2106排出,以更彻底的将座便器200的管道内的釉料排出。
以上仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (22)
1.一种排釉装置,适用于对包括座便本体的座便器的管道排釉,所述座便本体具有用于向其内部冲水的冲水口和设于顶部座圈面上的开口,其特征在于,包括:
供气装置;
第一进气管,所述第一进气管与所述供气装置连接,所述第一进气管具有用于与所述冲水口对接密封的对接部;以及
第二进气管,所述第二进气管与所述供气装置连接,所述第二进气管用于与所述开口对接密封;
其中,所述供气装置被构造成为所述第一进气管和所述第二进气管供气。
2.根据权利要求1所述的排釉装置,其特征在于,所述对接部为与所述冲水口大小相匹配的对接接头。
3.根据权利要求1所述的排釉装置,其特征在于,所述排釉装置还包括机架和第一驱动装置;
所述供气装置连接于所述机架;
所述第一驱动装置被构造成驱动所述第一进气管相对所述机架竖向移动;
所述第一驱动装置驱动所述第一进气管相对所述机架竖向向下移动能够使所述对接部与所述冲水口对接密封。
4.根据权利要求3所述的排釉装置,其特征在于,所述排釉装置还包括活动座和第二驱动装置;
所述活动座可移动地设置于所述机架,所述第二驱动装置被构造成驱动所述活动座相对所述机架横向移动;
所述第一进气管可移动地设置于所述活动座,所述第一驱动装置被构造成驱动所述第一进气管相对所述活动座竖向移动。
5.根据权利要求4所述的排釉装置,其特征在于,所述活动座为板状件,所述活动座具有相对的第一端和第二端;
所述机架上设有相对的且沿横向布置的第一滑槽和第二滑槽,所述第一端可移动地插设于所述第一滑槽,所述第二端可移动地插设于所述第二滑槽内。
6.根据权利要求3所述的排釉装置,其特征在于,所述排釉装置还包括密封装置;
所述密封装置连接于所述机架,所述密封装置用于将所述第二进气管与所述开口密封。
7.根据权利要求6所述的排釉装置,其特征在于,所述密封装置包括遮盖件和第三驱动装置;
所述第二进气管连接于所述遮盖件,所述第三驱动装置被构造成驱动所述遮盖件相对所述机架竖向移动;
所述第三驱动装置驱动所述遮盖件竖向向下移动能够使所述遮盖件遮盖密封于所述开口,以使所述第二进气管与所述座便本体内部连通。
8.根据权利要求3-7任一项所述的排釉装置,其特征在于,所述第一进气管与所述供气装置通过软管连通。
9.根据权利要求1所述的排釉装置,其特征在于,所述供气装置包括第一供气单元和第二供气单元;
所述第一供气单元被构造成为所述第一进气管供气;
所述第二供气单元被构造成为所述第二进气管供气。
10.根据权利要求1所述的排釉装置,其特征在于,所述第一进气管上设有第一流量调节装置。
11.根据权利要求10所述的排釉装置,其特征在于,所述第一进气管上设有第一流量检测装置,所述第一流量调节装置响应于所述第一流量检测装置。
12.根据权利要求1或10或11所述的排釉装置,其特征在于,所述第二进气管上设有第二流量调节装置。
13.根据权利要求12所述的排釉装置,其特征在于,所述第二进气管上设有第二流量检测装置,所述第二流量调节装置响应于所述第二流量检测装置。
14.根据权利要求1所述的排釉装置,其特征在于,所述排釉装置还包括主管和分流调节装置;
所述主管具有进气端和出气端,所述进气端与所述供气装置连接;
所述分流调节装置具有进气口、第一出气口和第二出气口,所述出气端连接于所述进气口,所述第一进气管连接于所述第一出气口,所述第二进气管连接于所述第二出气口。
15.根据权利要求1所述的排釉装置,其特征在于,所述座便器还包括与所述座便本体连接的水箱;
所述水箱具有进水口和排水口,所述排水口为所述冲水口。
16.一种排釉系统,其特征在于,包括座便器和根据权利要求1-15任一项所述的排釉装置;
所述座便器包括座便本体,所述座便本体具有用于向其内部冲水的冲水口和设于顶部座圈面上的开口;
所述第一进气管的对接部与所述座便本体的冲水口对接密封;
所述第二进气管与所述座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封。
17.一种施釉排釉装置,其特征在于,包括施釉装置、输送装置和根据权利要求1-15任一项所述的排釉装置;
所述输送装置被构造成将座便器从施釉装置所在的施釉位置输送至排釉装置所在的排釉位置。
18.根据权利要求17所述的施釉排釉装置,其特征在于,所述施釉装置包括:
支架;
用于与座便器的管道对接的进釉管;
活动体,所述活动体可移动地设置于所述支架;
第四驱动装置,所述第四驱动装置被构造成驱动所述活动体相对所述支架横向移动;以及
第五驱动装置,所述第五驱动装置被构造成驱动所述进釉管相对所述活动体竖向移动;
所述输送装置被构造成将座便器从施釉装置所在的施釉位置沿纵向输送至排釉装置所在的排釉位置。
19.根据权利要求18所述的施釉排釉装置,其特征在于,所述施釉装置还包括夹套;
所述夹套可移动地设置于所述活动体,所述夹套夹于所述进釉管的外侧,所述第五驱动装置被构造成驱动所述夹套相对所述活动体竖向移动。
20.一种施釉排釉系统,其特征在于,包括座便器和根据权利要求17-19任一项所述的施釉排釉装置,所述座便器放置于所述输送装置上。
21.一种排釉方法,其特征在于,包括以下步骤:
将第一进气管的对接部与座便本体的冲水口对接密封;
将第二进气管与座便本体的顶部座圈面上的开口对接密封;
供气装置向第一进气管和第二进气管供气。
22.根据权利要求21所述的排釉方法,其特征在于,所述供气装置向第一进气管和第二进气管供气的步骤包括:
S1供气装置同时向第一进气管和第二进气管供气;
S2停止向第一进气管和第二进气管供气;
S3供气装置向第一进气管供气;
S4停止向第一进气管供气;
S5供气装置向第二进气管供气;
S6停止向第二进气管供气。
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