CN110253730A - 淋釉节釉装置 - Google Patents

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谢志军
张�杰
陈红德
区仕雄
黎伯云
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    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
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Abstract

本发明提供的淋釉节釉装置包括:机架;设于所述机架上以用于输送砖坯的平行的多条皮带;以及跨设于所述皮带的上方以用于对所述砖坯进行淋釉的淋釉器;各条皮带沿着砖坯输送方向分成为两段,且各段之间的间隙与所述淋釉器的位置相对应,以使来自所述淋釉器的釉料能够穿过所述间隙。本发明能够避免皮带与釉料相互污染。

Description

淋釉节釉装置
技术领域
本发明属于建筑陶瓷领域,具体地,公开了一种淋釉节釉装置。
背景技术
在瓷砖生产过程中,施釉是陶瓷制作工艺技术的一种,即是指在成型的陶瓷坯体表面施以釉浆的过程。在对陶瓷进行施釉时,目前通常采用的手段是喷釉、淋釉等。其中,喷釉是指用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面,其适用于大型器皿及造型复杂或薄胎制品,可多次喷釉以进行多色施釉和达到较厚釉层;而淋釉则是把釉浆淋在坯体上。通常可根据需要选择施釉的手段。
随着现代陶瓷制作工艺的发展,尤其是在建筑陶瓷领域,目前所使用的施釉设备主要包括喷釉柜、钟罩淋釉器、直线淋釉器等。
然而现有的施釉设备普遍存在的问题是需要投入人力去安装、调整、清洗,极大的影响了施釉环节的工作效率,此外还容易造成因施釉量的偏差而引起瓷砖质量问题。
进一步地,现有的施釉设备,虽然其自动化的喷釉极大地提高了施釉环节的工作效率。但是,这些施釉设备存在釉料会污染输送带,以及输送带上的灰尘等杂质污染釉料的问题。
发明内容
鉴于以上存在的问题,本发明所要解决的技术问题在于提供一种能够避免皮带与釉料相互污染的淋釉节釉装置。
为此,本发明提供的淋釉节釉装置包括:机架;设于所述机架上以用于输送砖坯的平行的多条皮带;以及跨设于所述皮带的上方以用于对所述砖坯进行淋釉的淋釉器;各条皮带沿着砖坯输送方向分成为两段,且各段之间的间隙与所述淋釉器的位置相对应,以使来自所述淋釉器的釉料能够穿过所述间隙。
根据本发明,由于各条皮带沿着砖坯输送方向分成为两段,且各段之间的间隙与设于皮带上方的淋釉器的位置相对应,以使来自淋釉器的釉料能够穿过间隙。因此,釉料可以不触碰皮带而自间隙落下,从而避免了釉料污染皮带的问题,同时也避免了皮带上的灰尘等杂质污染釉料的问题。
较佳地,所述淋釉器斜跨于所述皮带的上方,且所述间隙与所述淋釉器相对应地倾斜排列。
根据本发明,由于淋釉器斜跨于皮带的上方,因此在对所输送的砖坯进行淋釉时,可以使砖坯受力均匀,避免砖坯破损,尤其适用于大规格的薄板砖。进一步地,在淋釉时将直线淋釉转为斜线淋釉,增长了单位时间内砖面接受淋釉的线长度,使砖面承受的淋釉力量更加均匀。有利于降低淋釉时砖坯的震动,甚至于砖坯无震动,使砖面淋釉更加均匀。尤其适合于大规格薄板砖的直线淋釉。
较佳地,还包括隔着所述皮带设于所述淋釉器的下方的釉料回收单元。
根据本发明,可以有效地回收穿过皮带段之间的间隙而落下的釉料。
根据下述具体实施方式并参考附图,将更好地理解本发明的上述内容及其它目的、特征和优点。
附图说明
图1示出了根据本发明一实施形态的淋釉节釉装置的结构示意图;
图2为图1所示淋釉节釉装置中的皮带的俯视图;
图3为图1所示淋釉节釉装置中的釉料回收单元的结构示意图,其中(a)图为釉料回收单元的主视图,(b)图为釉料回收单元的侧视图;
附图标记:
1、机架;
2、皮带;
21、第一段皮带,22、第二段皮带;
3、淋釉器;
4、釉料回收单元;
5、电机及波箱;
6、主动轮(大带轮);
7、被动轮(小带轮);
8、托带架。
具体实施方式
以下结合附图和下述实施方式进一步说明本发明,应理解,附图和下述实施方式仅用于说明本发明,而非限制本发明。
本发明针对现有技术中的各种施釉设备的不足提供了一种淋釉节釉装置包括:机架;设于所述机架上以用于输送砖坯的平行的多条皮带;以及跨设于所述皮带的上方以用于对所述砖坯进行淋釉的淋釉器;各条皮带沿着砖坯输送方向分成为两段,且各段之间的间隙与所述淋釉器的位置相对应,以使来自所述淋釉器的釉料能够穿过所述间隙。根据该淋釉节釉装置,釉料可以不触碰皮带而自间隙落下,从而避免了釉料污染皮带的问题,同时也避免了皮带上的灰尘等杂质污染釉料的问题。
图1至图3示出了本发明的淋釉节釉装置的一实施形态。如图1至图3所示,本实施形态的淋釉节釉装置包括机架1。在机架1上,设有用于输送砖坯的平行的多条皮带2。多条皮带2可以在传动电机的驱动下转动,以对载置于皮带2上的砖坯进行输送。该淋釉节釉装置还包括跨设于皮带2的上方以用于对砖坯进行淋釉的淋釉器3。
如图1和图2所示,各条皮带沿着砖坯输送方向分成为两段(即第一段皮带21、第二段皮带22),且各段皮带21、22之间的间隙与淋釉器3的位置相对应,即各段皮带21、22之间的间隙可位于淋釉器的出釉口的下方,从而可以使从淋釉器3输出的釉料能够穿过间隙而不触碰皮带。因此,与现有技术中通过一整条连续的皮带输送砖坯进行施釉相比,本发明由于皮带与从淋釉器落下的釉料不接触,从而可以避免釉料污染皮带的问题,同时也避免了皮带上的灰尘等杂质污染釉料的问题。
在本实施形态中,淋釉器3可以是斜线淋釉器。具体地,淋釉器3可斜跨于皮带2的上方,且各段皮带21、22之间的间隙与淋釉器3相对应地倾斜排列。由此,可以使砖坯受力均匀,避免砖坯破损。具体地,在淋釉时将直线淋釉转为斜线淋釉,增长了单位时间内砖面接受淋釉的线长度,使砖面承受的淋釉力量更加均匀。有利于降低淋釉时砖坯的震动,甚至于砖坯无震动,使砖面淋釉更加均匀。尤其适合于大规格薄板砖的直线淋釉,例如1200mmX2400mm,1200mmX3600mm等大规格薄板砖。
此外,如图1所示,该淋釉节釉装置还包括隔着皮带2设于淋釉器3的下方的釉料回收单元4。通过该釉料回收单元4可以有效地回收穿过皮带段21、22之间的间隙而落下的未经皮带上的杂质污染的釉料。通过釉料回收单元4回收的未污染的釉料可以再次输送至釉料器3进行施釉,从而可以节约釉料。
如图1和图3所示,釉料回收单元4,从侧面看上去成喇叭型,宽度略宽于皮带段间隙,下方为半圆形。上方的喇叭型口有利于增大釉料的回收面积及防止釉料回收过程中的飞溅。下方的半圆形收口,带斜度,起缓冲和导流作用。釉料回收单元比淋釉器略长,置于淋釉器淋釉口下方,略偏置,使釉料在通过皮带段间隙下落至釉料回收单元时起缓冲作用,避免釉料飞溅。
如图1和图2所示,皮带2由安装于机架1上的托带架8支撑。且各皮带段21、22分别由电机及波箱5驱动主动轮6进而带动被动轮7转动,从而使各皮带段运行。上述各皮带段之间的间隙的间隔可根据砖坯强度要求进行设定,例如根据小于5.5毫米,单片面积大于1.62平方米的薄板的砖坯强度要求,可确定皮带段之间的间隙在130-160毫米左右。
在不脱离本发明的基本特征的宗旨下,本发明可体现为多种形式,因此本发明中的实施形态是用于说明而非限制,由于本发明的范围由权利要求限定而非由说明书限定,而且落在权利要求界定的范围,或其界定的范围的等价范围内的所有变化都应理解为包括在权利要求书中。

Claims (3)

1.一种淋釉节釉装置,其特征在于,包括:
机架;
设于所述机架上以用于输送砖坯的平行的多条皮带;以及
跨设于所述皮带的上方以用于对所述砖坯进行淋釉的淋釉器;
各条皮带沿着砖坯输送方向分成为两段,且各段之间的间隙与所述淋釉器的位置相对应,以使来自所述淋釉器的釉料能够穿过所述间隙。
2.根据权利要求1所述的淋釉节釉装置,其特征在于,所述淋釉器斜跨于所述皮带的上方,且所述间隙与所述淋釉器相对应地倾斜排列。
3.根据权利要求1或2所述的淋釉节釉装置,其特征在于,还包括隔着所述皮带设于所述淋釉器的下方的釉料回收单元。
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