CN110160989A - 一种痕量气体的探测方法及探测装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种痕量气体的探测方法及探测系统，其中，所述痕量气体的探测方法将待测气体充填于谐振腔中，利用谐振腔一方面增强入射到谐振腔中的探测光线的激光功率，提升待测痕量气体分子跃迁的饱和参数；另一方面增强待测痕量气体的有效吸收程，从而提高对待测痕量气体的微弱吸收的检测灵敏度，获得待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，以实现在常温条件下，利用常规的激光器提供的探测光线即可实现对痕量气体的浓度进行探测的目的。并且利用所述痕量气体的探测方法获得的待测痕量气体的分子饱和吸收光谱和待测气体中的背景气体分子的吸收光谱有效分开，从而消除背景气体的干扰，实现对待测痕量气体的探测。

Description

一种痕量气体的探测方法及探测装置
技术领域
本申请涉及光学探测技术领域，更具体地说，涉及一种痕量气体的探测方法及探测装置。
背景技术
分子吸收光谱(Molecular Absorption Spectrometry)技术是一种测量被测目标气体分子浓度的技术，具体为：对待测气体中某一目标气体分子组分的吸收线进行测量，获取目标气体分子的吸收率，利用吸收率和被测目标气体分子浓度的对应关系，获得被测目标气体在待测气体中的浓度。
目前常用的分子吸收光谱技术是测量目标气体分子(同位素)某条吸收谱线的吸收率，它满足Beer-Lambert关系式。数据库HITRAN公开了数十种主要大气分子及其同位素的吸收线参数。测量时，为了避免受到激光功率漂移、光学介质透射率起伏等效应的影响，通常需要扫描波长，通过记录一定波段范围的激光光谱，得到目标气体分子一条孤立谱线的完整包络，通过积分的方式消除线型函数的影响，从而得到目标气体的浓度。
然而，在常温或者高温条件下，即使在低压下，分子近红外跃迁的多普勒展宽(半高全宽)也达到数百MHz水平，由于背景气体中其它分子(或同位素)的存在，如果目标气体分子(同位素)的含量较低或者吸收谱线较弱(即目标气体为痕量气体时)，该谱线很容易被其它背景气体的吸收所覆盖，目标谱线的吸收信号会淹没在背景中无法提取，从而导致测量失效。
因此，现有技术中通常采用测量痕量气体的分子饱和吸收光谱的方式，期望利用分子饱和吸收光谱线宽较窄，不会受到气体背景气体吸收的影响的优势，实现待测气体中痕量气体的浓度测量，但在实际应用中发现，采用常规的连续波激光器无法实现在常温条件下使气体分子跃迁饱和，因此无法在常温条件下实现利用常规连续波激光器测量痕量气体的目的。
发明内容
为解决上述技术问题，本申请提供了一种痕量气体的探测方法及探测系统，以实现在常温条件下，利用待测痕量气体或同位素的腔增强无多普勒效应的分子饱和吸收光谱，对待测痕量气体或同位素的浓度探测的目的。
为实现上述技术目的，本申请实施例提供了如下技术方案：
一种痕量气体的探测方法，包括：
提供谐振腔，并在所述谐振腔的腔体内部充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；
提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔的延伸方向的一端入射到所述谐振腔内部，并从所述谐振腔的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度，以使所述谐振腔的纵模频率与入射的探测光线的频率匹配；
根据不同频率的携带待测痕量气体信息的探测光线，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
可选的，包括：激光发生装置、谐振腔、光电探测装置、反馈控制装置和扫描控制装置；其中，
所述谐振腔的腔体内部用于充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度；
所述激光发生装置，用于在所述反馈控制装置的控制下，提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔的延伸方向的一端入射到所述谐振腔内部，并从所述谐振腔的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；
所述光电探测装置，用于将携带待测痕量气体信息的探测光线转换为电信号形式的探测信息；
所述扫描控制装置，用于记录所述电信号形式的探测信息，和用于控制所述激光发生装置以步进的方式调整出射的探测光线的频率；
所述反馈控制装置，用于控制所述激光发生装置出射的探测光线的频率与所述谐振腔的纵模频率匹配。
可选的，所述谐振腔包括：
外壳，所述外壳具有相对设置的入射端和出射端；
位于所述外壳内部，靠近所述入射端一侧的第一反射镜，所述第一反射镜朝向所述入射端一侧具有增透膜；
位于所述外壳内部，靠近所述出射端一侧的第二反射镜，所述第一反射镜和第二反射镜的反射面相对设置；
与所述第一反射镜相邻设置和/或与所述第二反射镜相邻设置的压电装置；所述压电装置用于根据接收的控制电信号，推动与所述压电装置相邻的第一反射镜和/或第二反射镜移动，以使所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度。
可选的，所述反馈控制装置包括：射频信号源、检相装置和PID放大装置；其中，
所述射频信号源，用于产生正弦射频信号；
所述检相装置，用于根据所述正弦射频信号，将电信号形式的探测信息转换为误差信号；
所述PID放大装置，用于将所述误差信号，转换为反馈锁定信号，以使所述激光发生装置出射的探测光线的频率与所述谐振腔的纵模频率匹配。
可选的，所述激光发生装置包括：激光器、频率调制装置和耦合透镜；
所述激光器，用于产生激光；
所述频率调制装置，用于根据所述反馈锁定信息，对所述激光器产生的激光进行调制，以获得频率与所述谐振腔的纵模频率匹配的探测光线；
所述耦合透镜，用于对所述探测光线进行耦合后向所述谐振腔入射。
可选的，所述频率调制装置为电光调制器。
可选的，所述扫描控制装置包括：信息存储装置和频率扫描装置；其中，
所述信息存储装置，用于记录所述电信号形式的探测信息；
所述频率扫描装置，用于产生控制电信号，并向所述激光器传输。
可选的，所述扫描控制装置还用于，根据记录的所述电信号形式的探测信息，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
可选的，所述光电探测装置包括：透镜匹配模块和光电探测模块；其中，
所述透镜匹配模块，用于匹配所述光电探测装置内部光场的空间模式；
所述光电探测模块，用于将携带待测痕量气体信息的探测光线转换为电信号形式的探测信息。
从上述技术方案可以看出，本申请实施例提供了一种痕量气体的探测方法及探测系统，其中，所述痕量气体的探测方法将待测气体充填于谐振腔中，利用谐振腔一方面增强入射到谐振腔中的探测光线的激光功率，提升待测痕量气体分子跃迁的饱和参数；另一方面增强待测痕量气体的有效吸收程，从而提高对待测痕量气体的微弱吸收的检测灵敏度，获得待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，以实现在常温条件下，利用常规的激光器提供的探测光线即可实现对痕量气体的浓度进行探测的目的。
另外，由于分子饱和吸收光谱的消多普勒展宽特性，使得获得的待测痕量气体的分子饱和吸收光谱和待测气体中的背景气体分子的吸收光谱有效分开，从而消除背景气体的干扰，实现对待测痕量气体的探测。由于分子不同同位素的饱和吸收光谱频率明显不同，本申请实施例提供的痕量气体的探测方法对于探测特定同位素的分子也特别有效。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请的一个实施例提供的一种痕量气体的探测方法的流程示意图；
图2为本申请的一个实施例提供的一种谐振腔的结构示意图；
图3为本申请的一个实施例提供的一种痕量气体的探测系统的结构示意图；
图4为模拟得到的待测气体中的待测痕量气体(12C16O)分压和其R(19)跃迁兰姆凹陷面积的关系；
图5为测得的腔增强的分子V＝3-0、R(19)跃迁的分子饱和吸收光谱。
具体实施方式
正如背景技术所述，目前常用的激光吸收光谱技术是测量目标气体分子(同位素)某条吸收谱线的吸收率，它满足Beer-Lambert关系式：
Tv＝Iv/I0＝exp(-kvL)；
其中，Tv表示激光在介质中经过L光程的透射率，kv为吸收率，它是压力P下，被测目标气体分子的浓度Xgas、吸收谱线强度S(T)和线型函数的函数，且线性函数满足其中，v表示频率。吸收率kv可以表示为：
其中，为线型函数，由高斯型的多普勒加宽线形和洛仑兹型的压力加宽线形卷积得到，且线型函数满足数据库HITRAN公开了数十种主要大气分子及其同位素的吸收线参数(包括谱线中心、S(T)等)。测量时，为了避免受到激光功率漂移、光学介质透射率起伏等效应的影响，通常需要扫描波长，通过记录一定波段范围的激光光谱，得到目标气体分子一条孤立谱线的完整包络，通过积分的方式消除线型函数的影响，从而得到目标气体的浓度。
然而，在常温或者高温条件下，即使在低压下，分子近红外跃迁的多普勒展宽(半高全宽)也达到数百MHz水平，由于背景气体中其它分子(或同位素)的存在，如果目标气体分子(同位素)的含量较低或者吸收谱线较弱，该谱线很容易被其它背景气体的吸收所覆盖，目标谱线的吸收信号会淹没在背景中无法提取，从而导致测量失效。
分子饱和吸收光谱是当一束窄线宽激发光将部分分子激发到上态，使得布居在下态的分子数减少，这时探测光所测得的吸收信号减小。如果激发光和探测光频率相同、方向相反，这时候由于二者同时仅仅和横向速度为零的分子相作用，这时将得到无多普勒展宽、线宽大为压窄的吸收凹陷，被称为兰姆凹陷。由于分子饱和吸收光谱线宽一般比多普勒展宽窄约三个量级，因此不会受到其它背景气体吸收的影响，可以大大提高探测的选择性。
分子饱和吸收峰(兰姆凹陷)的深度Δα可以由下面公式表示：
其中，Pi为待测气体分压，αmP为待测分子在不考虑饱和效应下的吸收系数，S为饱和参数，可以由下面公式计算得到：
其中，Is为饱和功率，Is0为待测气体在零压力极限下的饱和功率，ΓP为压力加宽系数，压力加宽系数用于描述分子饱和吸收光谱的线宽与气体压力的关系，ΓT为渡越时间加宽，P为样品气体总压。而兰姆凹陷的面积可以由以下公式得到：
其中ΓFWHM为兰姆凹陷的半高全宽。根据所测得到兰姆凹陷的面积，可以计算得到待测气体的浓度。
然而，利用分子饱和吸收光谱来探测痕量分子，还存在很多困难。首先是分子的近红外振转跃迁矩很小，在常温条件下，分子的渡越加宽(约数百kHz)远大于自然加宽(亚Hz甚至更小)，使得需要很高的激光功率(kW/cm2以上)才可能使得跃迁饱和。在气体检测中常用的连续波半导体激光器无法达到所需的要求。同时，饱和吸收受到压力加宽的影响比较明显，为得到具有足够对比度的饱和吸收光谱，一般需要在低压(10Pa或更低)下测量，这对测量灵敏度提出了更高的要求。
有鉴于此，本申请实施例提供了一种痕量气体的探测方法，包括：
提供谐振腔，并在所述谐振腔的腔体内部充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；
提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔的延伸方向的一端入射到所述谐振腔内部，并从所述谐振腔的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度，以使所述谐振腔的纵模频率与入射的探测光线的频率匹配；
根据不同频率的携带待测痕量气体信息的探测光线，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
所述痕量气体的探测方法将待测气体充填于谐振腔中，利用谐振腔一方面增强入射到谐振腔中的探测光线的激光功率，提升待测痕量气体分子跃迁的饱和参数；另一方面增强待测痕量气体的有效吸收程，从而提高对待测痕量气体的微弱吸收的检测灵敏度，获得待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，以实现在常温条件下，利用常规的激光器提供的探测光线即可实现对痕量气体的浓度进行探测的目的。
另外，由于分子饱和吸收光谱的消多普勒展宽特性，使得获得的待测痕量气体的分子饱和吸收光谱和待测气体中的背景气体分子的吸收光谱有效分开，从而消除背景气体的干扰，实现对待测痕量气体的探测。由于分子不同同位素的饱和吸收光谱频率明显不同，本申请实施例提供的痕量气体的探测方法对于探测特定同位素的分子也特别有效。
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请实施例提供了一种痕量气体的探测方法，如图1所示，包括：
S101：提供谐振腔，并在所述谐振腔的腔体内部充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；
S102：提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔的延伸方向的一端入射到所述谐振腔内部，并从所述谐振腔的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度，以使所述谐振腔的纵模频率与入射的探测光线的频率匹配；
S103：根据不同频率的携带待测痕量气体信息的探测光线，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
需要说明的是，痕量气体是指在一定压力的气体样品中组分含量极低(ppm量级或更低)的气体成分，例如大气中的二氧化碳或甲烷及其同位素气体等均可认为是痕量气体。
本申请的一个实施例提供了一种谐振腔的可行结构，参考图2，在本实施例中，所述谐振腔包括外壳、设置于外壳21中的第一反射镜22、第二反射镜23以及至少一个压电装置(图2中未示出)；其中，外壳21包括相对设置的入射端和出射端，第一反射镜22和第二反射镜23分别靠近入射端和出射端设置，且第一反射镜22和第二反射镜23的反射面相对；靠近入射端设置的第一反射镜22朝向入射端一侧可以贴附一个增透膜以增加入射的探测光线的透过率。
在本实施例中，所述痕量气体的探测方法将待测气体充填于谐振腔中，利用谐振腔一方面增强入射到谐振腔中的探测光线的激光功率，提升待测痕量气体分子跃迁的饱和参数；另一方面增强待测痕量气体的有效吸收程，从而提高对待测痕量气体的微弱吸收的检测灵敏度，获得待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，以实现在常温条件下，利用常规的激光器提供的探测光线即可实现对痕量气体的浓度进行探测的目的。
另外，由于分子饱和吸收光谱的消多普勒展宽特性，使得获得的待测痕量气体的分子饱和吸收光谱和待测气体中的背景气体分子的吸收光谱有效分开，从而消除背景气体的干扰，实现对待测痕量气体的探测。由于分子不同同位素的饱和吸收光谱频率明显不同，本申请实施例提供的痕量气体的探测方法对于探测特定同位素的分子也特别有效。
下面本申请实施例提供了一种能够实施痕量气体的探测方法的痕量气体的探测系统，如图3所示，所述痕量气体的探测系统包括：激光发生装置10、谐振腔20、光电探测装置30、反馈控制装置40和扫描控制装置50；其中，
所述谐振腔20的腔体内部用于充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；所述谐振腔20的腔体在所述谐振腔20的延伸方向上具有伸缩自由度；
所述激光发生装置10，用于在所述反馈控制装置40的控制下，提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔20的延伸方向的一端入射到所述谐振腔20内部，并从所述谐振腔20的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；
所述光电探测装置30，用于将携带待测痕量气体信息的探测光线转换为电信号形式的探测信息；
所述扫描控制装置50，用于记录所述电信号形式的探测信息，和用于控制所述激光发生装置10以步进的方式调整出射的探测光线的频率；
所述反馈控制装置40，用于控制所述激光发生装置10出射的探测光线的频率与所述谐振腔20的纵模频率匹配。
在本实施例中，由于所述反馈控制装置40可以控制所述激光发生装置10出射的探测光线的频率与所述谐振腔20的纵模频率匹配，因此，所述扫描控制装置50可以仅用于控制所述激光发生装置10以步进的方式调整出射的探测光线的频率即可，当激光发生装置10出射的探测光线的频率在扫描控制装置50的控制下发生变化时，所述反馈控制装置40实时调整所述谐振腔20的纵模频率和/或所述激光发生装置10出射的探测光线的频率，以使所述激光发生装置10出射的探测光线的频率与所述谐振腔20的纵模频率匹配。
另外，所述扫描控制装置50控制所述激光发生装置10以步进的方式调整出射的探测光线的频率的目的，是为了使得所述扫描控制装置50中可以记录不同频率的探测光线携带的待测痕量气体信息对应的电信号形式的探测信息，以可以根据记录的电信号形式的探测信息，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
即可选的，在本申请的一个实施例中，所述扫描控制装置50还用于，根据记录的所述电信号形式的探测信息，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
参考图2，所述谐振腔20包括：
外壳21，所述外壳21具有相对设置的入射端和出射端；
位于所述外壳21内部，靠近所述入射端一侧的第一反射镜22，所述第一反射镜22朝向所述入射端一侧具有增透膜；
位于所述外壳21内部，靠近所述出射端一侧的第二反射镜23，所述第一反射镜22和第二反射镜23的反射面相对设置；
与所述第一反射镜22相邻设置和/或与所述第二反射镜23相邻设置的压电装置；所述压电装置用于根据接收的控制电信号，推动与所述压电装置相邻的第一反射镜22和/或第二反射镜23移动，以使所述谐振腔20的腔体在所述谐振腔20的延伸方向上具有伸缩自由度。
在本实施例中，所述第一反射镜22和第二反射镜23之间构成了谐振腔20的腔体，以使探测激光可以在腔体中得到腔增强。
位于所述第一反射镜22朝向所述入射端一侧的增透膜用于增加入射到第一反射镜22上的探测光线的透过率，提高探测光线的光能利用率。
可选的，所述反馈控制装置40包括：射频信号源、检相装置和PID(比例-积分-微分)放大装置；其中，
所述射频信号源，用于产生正弦射频信号；
所述检相装置，用于根据所述正弦射频信号，将电信号形式的探测信息转换为误差信号；
所述PID放大装置，用于将所述误差信号，转换为反馈锁定信号，以使所述激光发生装置10出射的探测光线的频率与所述谐振腔20的纵模频率匹配。
在本实施例中，所述反馈控制装置40中的射频信号源用于提供检相装置的工作基准信号，所述检相装置将电信号形式的探测信息转换为误差信号，所述PID放大装置将所述误差信号转换为反馈锁定信号，并传输给所述压电装置，以使所述压电装置根据所述反馈锁定信号，在所述谐振腔20的延伸方向上调整所述谐振腔20的腔体长度，以调节所述谐振腔20的纵模频率，使其与所述激光发生装置10出射的探测光线的频率匹配。
那么相应的，所述扫描控制装置50只需要控制所述激光发生装置10以步进的方式调整出射的探测光线的频率即可，所述反馈控制装置40通过调节所述谐振腔20的腔体长度的方式，使得所述谐振腔20的纵模频率与所述激光发生装置10出射的探测光线的频率匹配。
需要说明的是，所述扫描控制装置50控制所述激光发生装置10的探测光线的频率的变化步长越小，最终计算获得的待测气体的浓度越精确。所述扫描控制装置50控制的所述激光发生装置10的探测光线的频率变化范围可以是兆赫兹量级，也可以是数百兆赫兹量级。本申请对所述探测光线的变化步长的具体取值以及所述探测光线的具体频率变化范围并不做限定，具体视实际情况而定。
可选的，所述激光发生装置10包括：激光器、频率调制装置和耦合透镜；
所述激光器，用于产生激光；
所述频率调制装置，用于根据所述反馈锁定信息，对所述激光器产生的激光进行调制，以获得频率与所述谐振腔20的纵模频率匹配的探测光线；
所述耦合透镜，用于对所述探测光线进行耦合后向所述谐振腔20入射。
所述激光器可以是半导体激光器、光纤激光器或固体激光器等常规的激光器种类。本申请对此并不做限定，具体视实际情况而定。
可选的，所述频率调制装置为电光调制器。
可选的，所述扫描控制装置50包括：信息存储装置和频率扫描装置；其中，
所述信息存储装置，用于记录所述电信号形式的探测信息；
所述频率扫描装置，用于产生控制电信号，并向所述激光器传输。
在本实施中，所述扫描控制装置50通过产生的控制电信号，控制所述激光器产生的激光的频率以一定的步长变化。
可选的，所述光电探测装置30包括：透镜匹配模块和光电探测模块；其中，
所述透镜匹配模块，用于匹配所述光电探测装置30内部光场的空间模式；
所述光电探测模块，用于将携带待测痕量气体信息的探测光线转换为电信号形式的探测信息。
下面以具体的实施例说明本申请实施例提供的痕量气体的探测系统的具体实施效果。
在本实施例中，所述待测痕量气体为12C16O气体分子，目的是测量12C16O气体分子的红外振转跃迁的分子饱和吸收光谱，并根据谱峰的面积获得12C16O气体分子的气体分压。
可选的，所述激光器为外腔式半导体激光器，其输出的激光经过一个电光调制器调制以及耦合透镜的耦合后进入谐振腔20；谐振腔20的内部充填待测气体，所述待测气体中包含12C16O气体，待测气体的总压力为P，由连接谐振腔20的压力计测得；谐振腔20中设置有第一反射镜22和第二反射镜23，第一反射镜22和第二反射镜23的反射率达99.995％，第一反射镜22和第二反射镜23构成了一个光学谐振腔20，第一反射镜22或第二反射镜23的背面连接一个压电装置，可以带动镜片沿光路方向(谐振腔20延伸方向)作微小的移动。
从谐振腔20中出射的携带待测痕量气体信息的探测光线被光电探测装置30转换为电信号形式的探测信息，电信号形式的探测信号经过滤波放大后，分为两路信号，一路信号被送入反馈控制装置40中，被反馈控制装置40解调后产生反馈锁定信号，以使所述谐振腔20的纵模频率与所述激光发生装置10出射的探测光线的频率匹配；另一路信号送入扫描控制装置50中记录下来，同时扫描控制装置50控制激光产生装置进行步进式的频率扫描。
通过以上的探测激光的扫描过程，即可获得待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，参考图4和图5，图4为模拟得到的待测气体中的待测痕量气体(12C16O)分压和其R(19)跃迁兰姆凹陷面积的关系，图4中横坐标为12C16O气体的气体分压(PartialPressure)，单位为帕斯卡(Pa)，纵坐标为兰姆凹陷的面积(Area of Lamb Dip)，单位为10-9cm-1MHz；图5为测得的腔增强的分子V＝3-0、R(19)跃迁的分子饱和吸收光谱；图5中横坐标为相对频率(Relative Frequency)单位为兆赫兹(MHz)；纵坐标为吸收系数(AbsorptionCoefficient)，单位为10-9cm-1。从图4中看出，待测痕量气体(12C16O)分压和其R(19)跃迁兰姆凹陷面积在很大范围内都有很好的线性对应关系，适于进行定量测量。拟合图5所示的分子饱和吸收光谱，得到其峰高、峰宽和峰面积，即可确定待测痕量气体(12C16O)在待测气体中的分压。
综上所述，本申请实施例提供了一种痕量气体的探测方法及探测系统，其中，所述痕量气体的探测方法将待测气体充填于谐振腔中，利用谐振腔一方面增强入射到谐振腔中的探测光线的激光功率，提升待测痕量气体分子跃迁的饱和参数；另一方面增强待测痕量气体的有效吸收程，从而提高对待测痕量气体的微弱吸收的检测灵敏度，获得待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，以实现在常温条件下，利用常规的激光器提供的探测光线即可实现对痕量气体的浓度进行探测的目的。
另外，由于分子饱和吸收光谱的消多普勒展宽特性，使得获得的待测痕量气体的分子饱和吸收光谱和待测气体中的背景气体分子的吸收光谱有效分开，从而消除背景气体的干扰，实现对待测痕量气体的探测。由于分子不同同位素的饱和吸收光谱频率明显不同，本申请实施例提供的痕量气体的探测方法对于探测特定同位素的分子也特别有效。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种痕量气体的探测方法，其特征在于，包括：
提供谐振腔，并在所述谐振腔的腔体内部充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；
提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔的延伸方向的一端入射到所述谐振腔内部，并从所述谐振腔的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度，以使所述谐振腔的纵模频率与入射的探测光线的频率匹配；
根据不同频率的携带待测痕量气体信息的探测光线，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
2.一种痕量气体的探测系统，其特征在于，包括：激光发生装置、谐振腔、光电探测装置、反馈控制装置和扫描控制装置；其中，
所述谐振腔的腔体内部用于充填待测气体，所述待测气体中包括待测痕量气体；所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度；
所述激光发生装置，用于在所述反馈控制装置的控制下，提供不同频率的探测光线，所述探测光线从所述谐振腔的延伸方向的一端入射到所述谐振腔内部，并从所述谐振腔的延伸方向的另一端出射，以获得携带待测痕量气体信息的探测光线；
所述光电探测装置，用于将携带待测痕量气体信息的探测光线转换为电信号形式的探测信息；
所述扫描控制装置，用于记录所述电信号形式的探测信息，和用于控制所述激光发生装置以步进的方式调整出射的探测光线的频率；
所述反馈控制装置，用于控制所述激光发生装置出射的探测光线的频率与所述谐振腔的纵模频率匹配。
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述谐振腔包括：
外壳，所述外壳具有相对设置的入射端和出射端；
位于所述外壳内部，靠近所述入射端一侧的第一反射镜，所述第一反射镜朝向所述入射端一侧具有增透膜；
位于所述外壳内部，靠近所述出射端一侧的第二反射镜，所述第一反射镜和第二反射镜的反射面相对设置；
与所述第一反射镜相邻设置和/或与所述第二反射镜相邻设置的压电装置；所述压电装置用于根据接收的控制电信号，推动与所述压电装置相邻的第一反射镜和/或第二反射镜移动，以使所述谐振腔的腔体在所述谐振腔的延伸方向上具有伸缩自由度。
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述反馈控制装置包括：射频信号源、检相装置和PID放大装置；其中，
所述射频信号源，用于产生正弦射频信号；
所述检相装置，用于根据所述正弦射频信号，将电信号形式的探测信息转换为误差信号；
所述PID放大装置，用于将所述误差信号，转换为反馈锁定信号，以使所述激光发生装置出射的探测光线的频率与所述谐振腔的纵模频率匹配。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述激光发生装置包括：激光器、频率调制装置和耦合透镜；
所述激光器，用于产生激光；
所述频率调制装置，用于根据所述反馈锁定信息，对所述激光器产生的激光进行调制，以获得频率与所述谐振腔的纵模频率匹配的探测光线；
所述耦合透镜，用于对所述探测光线进行耦合后向所述谐振腔入射。
6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述频率调制装置为电光调制器。
7.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述扫描控制装置包括：信息存储装置和频率扫描装置；其中，
所述信息存储装置，用于记录所述电信号形式的探测信息；
所述频率扫描装置，用于产生控制电信号，并向所述激光器传输。
8.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述扫描控制装置还用于，根据记录的所述电信号形式的探测信息，获取所述待测痕量气体的分子饱和吸收光谱，并根据所述痕量气体的分子饱和吸收光谱，计算所述待测气体中所述待测痕量气体的浓度。
9.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述光电探测装置包括：透镜匹配模块和光电探测模块；其中，
所述透镜匹配模块，用于匹配所述光电探测装置内部光场的空间模式；
所述光电探测模块，用于将携带待测痕量气体信息的探测光线转换为电信号形式的探测信息。
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