CN110137351B - 一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法 - Google Patents

一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110137351B
CN110137351B CN201910429755.6A CN201910429755A CN110137351B CN 110137351 B CN110137351 B CN 110137351B CN 201910429755 A CN201910429755 A CN 201910429755A CN 110137351 B CN110137351 B CN 110137351B
Authority
CN
China
Prior art keywords
nitrogen
titanium dioxide
doped titanium
dioxide array
memristor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910429755.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110137351A (zh
Inventor
姜超
余延涛
王春齐
黄小忠
杜作娟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central South University
Original Assignee
Central South University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central South University filed Critical Central South University
Priority to CN201910429755.6A priority Critical patent/CN110137351B/zh
Publication of CN110137351A publication Critical patent/CN110137351A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110137351B publication Critical patent/CN110137351B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/011Manufacture or treatment of multistable switching devices
    • H10N70/041Modification of switching materials after formation, e.g. doping
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/801Constructional details of multistable switching devices
    • H10N70/881Switching materials
    • H10N70/883Oxides or nitrides
    • H10N70/8833Binary metal oxides, e.g. TaOx

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

本发明公开了一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法,属于忆阻器制备技术领域,该忆阻器包括基底FTO、介质层和金属上电极,所述介质层为氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列,其中,N与Ti的原子数量比为0.5%~15%。本发明采用盐酸溶液水热工艺,以钛酸四丁酯为钛源,加入氮源,采用FTO玻璃为基底,通过调节水热温度,保温时间,溶液酸度和钛浓度改变纳米棒直径和长度,通过氮掺杂提供更多空穴缺陷,制备得到的掺氮二氧化钛具有较高的电子和离子迁移效率,提高器件开关速度和器件记忆时间。本发明制备方法简单,成本低,产品形貌质量高,纳米棒尺寸容易控制,氮掺杂量可以调节,有利于规模化生产。

Description

一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法
技术领域
本发明属于忆阻器制备技术领域,具体涉及一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法。
背景技术
二氧化钛是一种宽带隙的半导体材料,广泛应用于光催化,气敏传感器,太阳能电池和电子器件领域。纳米二氧化钛纳米棒具有定向有序生长外形,具备较大的比表面积和空穴位点,表现出纳米尺寸效应。金红石二氧化钛是一种热稳定结构,具有斜方晶结构。但是,由于二氧化钛带隙宽,单纯纳米二氧化钛棒的电子迁移效率较低,金红石二氧化钛光学吸收特性差,其应用受到了限制。
目前二氧化钛合成方法有很多,物理沉积法只能合成块体薄膜,水热合成可以合成多种形状的材料,比如球形、花形、棒状和片状。专利CN 103848458 A中披露了“氮掺杂金红石型二氧化钛纳米棒制备方法”,其采用难溶化合物氮化钛为原料,水热时间超过10h,最终干燥时间超过24h,合成纳米棒不规整,没有涉及到用于制备忆阻器。
发明内容
本发明的目的在于提供一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法。
本发明提供以下技术方案:一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,该忆阻器包括基底FTO、介质层和金属上电极,所述介质层为氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列,其中,N与Ti的原子数量之比为0.5%~15%。
作为优选,所述N与Ti的原子数量之比为5%~15%。
作为优选,所述二氧化钛纳米棒直径为10~200nm,长度为500~6000nm。
本发明还提供所述氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的制备方法,包括以下步骤:
(1)配置钛酸四丁酯盐酸溶液:钛酸四丁酯浓度为0.03~0.08mol/L,盐酸浓度为2~9mol/L,搅拌均匀后超声分散;
(2)按照设定比例向钛酸四丁酯盐酸溶液中加入氮源,搅拌均匀;
(3)将清洗干净的基底FTO玻璃片导电面向下斜放在水热反应釜中,加入步骤(2)所得溶液中,密封后放置于烘箱中,调整加热温度和保温时间;
(4)水热反应完成后,待反应釜冷却,取出反应釜聚四氟内胆,取出玻璃片用去离子水清洗,并用氮气吹干;
(5)采用真空蒸镀方法在步骤(4)制得的样品表面蒸镀特定形状的金属上电极,即得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器。
进一步,步骤(2)中,所述氮源为尿素、铵盐中的一种。
进一步,步骤(3)中,将基底FTO依次在丙酮溶液,酒精溶液和去离子水溶液中超声清洗2~10min,然后将清洗后的FTO用氮气吹干。
进一步,步骤(3)中,保温温度为120~200℃,时间为1~6h。
进一步,步骤(5)中,所述金属上电极呈线条状或者圆形,金属上电极的材料为铜、铝、金和银中的一种或者两种。
本发明的有益效果为:
本发明提供一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的制备方法,采用盐酸溶液水热工艺,以钛酸四丁酯为钛源,加入氮源,采用FTO玻璃为基底,通过调节水热温度,保温时间,溶液酸度和钛浓度改变纳米棒直径和长度,通过氮掺杂提供更多空穴缺陷,制备得到的掺氮二氧化钛具有较高的电子和离子迁移效率,提高器件开关速度和器件记忆时间。
本发明制备方法简单,成本低,产品形貌质量高,纳米棒尺寸容易控制,氮掺杂量可以调节,有利于规模化生产。
附图说明
图1为实施例1所得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的结构示意图。
图2为实施例1所得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的实物图。
图3为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的SEM图。
图4为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的XRD图。
图5为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的XPS图谱。
图6为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的O 1s高分辨XPS图谱。
图7为实施例1所得器件的单次I-V循环曲线。
图8为实施例1所得器件的单次循环中高低阻态分布图谱。
图9为实施例1所得器件四次稳定高低阻态转变特性。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明一部分实施例,而不是全部实施例,基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
下面结合实施例和附图对本发明进行进一步说明。
实施例1
本实施例一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的制备方法,包括以下步骤:
(1)配置钛酸四丁酯盐酸溶液:首先配置浓度为6mol/L盐酸溶液50ml,加入0.68ml钛酸四丁酯,得到钛浓度为0.04mol/L溶液,搅拌均匀后超声分散5min;
(2)加入5g尿素CO(NH2)2,搅拌10min,然后直接将溶液倒入水热反应釜聚四氟内胆中;
(3)将清洗干净的基底FTO玻璃片导电面向下斜放在水热反应釜中,加入步骤(2)所得溶液中,密封后放置于烘箱中,开启鼓风加热,设置保温温度140℃,保温时间3h;
(4)水热反应完成后,待反应釜冷却,取出反应釜聚四氟内胆,取出玻璃片用去离子水清洗,并用氮气吹干,得到氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列;
(5)采用真空蒸镀方法在步骤(4)制得的样品表面蒸镀条状铜电极作为上电极,即得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器存储单元,采用吉士利4200SCS半导体测试仪监测每个单元的阻变和记忆性能。
实施例1制备的氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器存储单元,如图1~2所示,包括基底FTO、介质层和金属上电极,呈四方形结构,介质层为氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列,根据X射线光电子荧光谱(XPS)分析得到N与Ti的原子数量之比为10%,二氧化钛纳米棒直径为10~200nm,长度为500~6000nm。
实施例2
本实施例一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的制备方法,包括以下步骤:
(1)配置钛酸四丁酯盐酸溶液:首先配置浓度为6mol/L盐酸溶液50ml,加入0.68ml钛酸四丁酯,得到钛浓度为0.04mol/L溶液,搅拌均匀后超声分散5min;
(2)加入2.5g尿素CO(NH2)2,搅拌10min,然后直接将溶液倒入水热反应釜聚四氟内胆中;
(3)将清洗干净的基底FTO玻璃片导电面向下斜放在水热反应釜中,加入步骤(2)所得溶液中,密封后放置于烘箱中,开启鼓风加热,设置保温温度120℃,保温时间6h;
(4)水热反应完成后,待反应釜冷却,取出反应釜聚四氟内胆,取出玻璃片用去离子水清洗,并用氮气吹干,得到氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列,根据X射线光电子荧光谱(XPS)分析得到N与Ti的原子数量之比为5%;
(5)采用真空蒸镀方法在步骤(4)制得的样品表面蒸镀条状铝电极作为上电极,即得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器存储单元。
实施例3
本实施例一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的制备方法,包括以下步骤:
(1)配置钛酸四丁酯盐酸溶液:首先配置浓度为6mol/L盐酸溶液50ml,加入0.8ml钛酸四丁酯,得到钛浓度为0.05mol/L溶液,搅拌均匀后超声分散5min;
(2)加入7.5g尿素CO(NH2)2,搅拌10min,然后直接将溶液倒入水热反应釜聚四氟内胆中;
(3)将清洗干净的基底FTO玻璃片导电面向下斜放在水热反应釜中,加入步骤(2)所得溶液中,密封后放置于烘箱中,开启鼓风加热,设置保温温度200℃,保温时间1h;
(4)水热反应完成后,待反应釜冷却,取出反应釜聚四氟内胆,取出玻璃片用去离子水清洗,并用氮气吹干,得到氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列,根据X射线光电子荧光谱(XPS)分析得到N与Ti的原子数量之比为13%;
(5)采用真空蒸镀方法在步骤(4)制得的样品表面蒸镀条状金电极作为上电极,即得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器存储单元。
图3为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的SEM图,由图可知,二氧化钛纳米棒垂直生长于FTO玻璃片上,产品形貌质量高,合成的纳米棒非常规整。
图4为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的XRD图,由图可知,合成的二氧化钛纳米棒结晶度高,杂质含量少。
图5为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的XPS图谱,由图可知,合成介质层含有少量氮元素峰;根据高频普的峰面积比,可以计算出氮原子相对钛原子含量比。
图6为实施例1制备的氮掺杂二氧化钛纳米棒阵列的O 1s高分辨XPS图谱,由图可知,高频普中存在两个O 1s峰,表明介质层中存在氧缺陷,该缺陷可能是Ti-N键的形成导致的。
图7为实施例1所得器件的单次I-V循环曲线,由图可知,器件在正向3V扫描电压作用下,电流迅速增大至10-5A,存在一个电流突变过程;在负向电压-1V扫描时,重新回到高阻态,电流恢复到10-7A,I-V循环曲线表明器件可以实现高低阻态的转变,为双极性忆阻器。
图8为实施例1所得器件的单次循环中高低阻态分布图谱,由图可知,器件高低阻态转变过程中,高阻态为106Ω,低阻态为105Ω,电阻值相差一个数量级。
图9为实施例1所得器件四次稳定高低阻态转变特性,由图可知,器件具有良好的循环稳定性,低阻态和高阻态保持稳定分布,没有交叉分布,性能稳定。

Claims (7)

1.一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,该忆阻器包括基底FTO、介质层和金属上电极,其特征在于,所述介质层为氮掺杂金红石晶型二氧化钛阵列,其中,N与Ti的原子数量之比为0.5%~15%;
上述氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器的制备方法,包括以下步骤:
(1) 配置钛酸四丁酯盐酸溶液:钛酸四丁酯浓度为0.03~0.08mol/L,盐酸浓度为2~9mol/L,搅拌均匀后超声分散;
(2) 按照设定比例向钛酸四丁酯盐酸溶液中加入氮源,搅拌均匀;
(3) 将清洗干净的基底FTO玻璃片导电面向下斜放在水热反应釜中,加入步骤(2)所得溶液中,密封后放置于烘箱中,调整加热温度和保温时间;
(4) 水热反应完成后,待反应釜冷却,取出反应釜聚四氟内胆,取出玻璃片用去离子水清洗,并用氮气吹干;
(5) 采用真空蒸镀方法在步骤(4)制得的样品表面蒸镀特定形状的金属上电极,即得氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器。
2.根据权利要求1所述的氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,其特征在于,所述N与Ti的原子数量之比为5%~15%。
3.根据权利要求1或2所述的氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,其特征在于,所述二氧化钛纳米棒直径为10~200nm,长度为500~6000nm。
4.根据权利要求1或2所述氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,其特征在于,步骤(2)中,所述氮源为尿素、铵盐中的一种。
5.根据权利要求1或2所述氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,其特征在于,步骤(3)中,将基底FTO依次在丙酮溶液,酒精溶液和去离子水溶液中超声清洗2~10min,然后将清洗后的FTO用氮气吹干。
6.根据权利要求1或2所述氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,其特征在于,步骤(3)中,保温温度为120~200℃,时间为1~6h。
7.根据权利要求1或2所述氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器,其特征在于,步骤(5)中,所述金属上电极呈线条状或者圆形,金属上电极的材料为铜、铝、金和银中的一种或者两种。
CN201910429755.6A 2019-05-22 2019-05-22 一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法 Active CN110137351B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910429755.6A CN110137351B (zh) 2019-05-22 2019-05-22 一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910429755.6A CN110137351B (zh) 2019-05-22 2019-05-22 一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110137351A CN110137351A (zh) 2019-08-16
CN110137351B true CN110137351B (zh) 2021-06-22

Family

ID=67572283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910429755.6A Active CN110137351B (zh) 2019-05-22 2019-05-22 一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110137351B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112054120B (zh) * 2020-08-26 2024-03-19 深圳泓越信息科技有限公司 一种导电细丝可调控的电阻存储器薄膜制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102484128A (zh) * 2009-09-04 2012-05-30 惠普发展公司,有限责任合伙企业 具有用电压相关电阻器形成的本征二极管的可开关结
CN106992249A (zh) * 2017-02-22 2017-07-28 北京航空航天大学 一种具有量子电导效应的离子型忆阻器
CN108281548A (zh) * 2018-02-07 2018-07-13 中南大学 一种双极性双稳态忆阻器及其制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8735863B2 (en) * 2011-01-28 2014-05-27 Privatran Integrated nonvolatile resistive memory elements

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102484128A (zh) * 2009-09-04 2012-05-30 惠普发展公司,有限责任合伙企业 具有用电压相关电阻器形成的本征二极管的可开关结
CN106992249A (zh) * 2017-02-22 2017-07-28 北京航空航天大学 一种具有量子电导效应的离子型忆阻器
CN108281548A (zh) * 2018-02-07 2018-07-13 中南大学 一种双极性双稳态忆阻器及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110137351A (zh) 2019-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Souza et al. Nanostructured hematite thin films produced by spin-coating deposition solution: Application in water splitting
JP4714844B2 (ja) ポーラス酸化亜鉛膜形成用前駆体の製造方法、ポーラス酸化亜鉛膜の製造方法
Abd-Ellah et al. Enhancement of solar cell performance of p-Cu2O/n-ZnO-nanotube and nanorod heterojunction devices
Chowdhury et al. Characterization of electrodeposited cadmium selenide thin films
CN106384785A (zh) 一种锡掺杂甲基铵基碘化铅钙钛矿太阳能电池
CN114016077B (zh) 一种硫化镉-硫铟锌异质结纳米棒阵列复合材料及其制备方法
CN111106248A (zh) 一种新型钙钛矿有机-无机杂合物薄膜及其制备方法
CN105088312A (zh) 二氧化钛纳米管阵列薄膜的制备方法
CN110137351B (zh) 一种氮掺杂二氧化钛阵列忆阻器及其制备方法
Xie Photoelectrochemical performance of cadmium sulfide quantum dots modified titania nanotube arrays
CN113314672A (zh) 一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法
CN106920880A (zh) 一种钙钛矿太阳能电池及其制备方法
Lee et al. Hydrothermal growth of vertical ZnO nanorods
CN113636597B (zh) 一种钽掺杂的二氧化钒薄膜的制备方法
CN105540535B (zh) 一种制备多尺度高γ相聚偏氟乙烯中空纳米线的方法
Liu et al. Preparation of CdS nanorods on silicon nanopillars surface by hydrothermal method
CN111097401B (zh) 旋涂制备ZnO/TiO2异质结薄膜材料的方法
CN111137921B (zh) 一种氟氧化钽纳米片的制备方法
AL-Zahrani et al. Effect of hydrothermal growth temperature and time on physical properties and photoanode performance of zno nanorods
CN112499681A (zh) 一种纳米花状碘硫化锑晶体的生长方法
Lamouchi et al. Correlation between SSM substrate effect and physical properties of ZnO nanowires electrodeposited with or without seed layer for enhanced photoelectrochemical applications
CN106830072B (zh) 一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法
CN107235508B (zh) 顶部具有分枝结构的二氧化钛纳米棒阵列的制备方法及阵列
Dey et al. Combined organic-perovskite solar cell fabrication as conventional energy substitute
CN108751739B (zh) 一种TiO2纳米棒与穗状棒束交错阵列薄膜及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant