CN110128463A - 一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统 - Google Patents
一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110128463A CN110128463A CN201910286402.5A CN201910286402A CN110128463A CN 110128463 A CN110128463 A CN 110128463A CN 201910286402 A CN201910286402 A CN 201910286402A CN 110128463 A CN110128463 A CN 110128463A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- tower
- product
- boiling
- produces
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 32
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N trichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)(Cl)Cl DWAWYEUJUWLESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 8
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract description 3
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 74
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 5
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- -1 methyl siloxanes Chemical class 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HICCMIMHFYBSJX-UHFFFAOYSA-N [SiH4].[Cl] Chemical compound [SiH4].[Cl] HICCMIMHFYBSJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
本发明公开一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统，将来自单体合成的甲基氯硅烷粗单体直接进入二元塔，二元塔塔顶采出进入一甲塔，塔釜采出的粗二甲基二氯硅烷进入精二甲塔；精二甲塔塔顶采出精二甲基二氯硅烷产品，塔釜采出高沸物产品；一甲塔塔釜采出一甲基三氯硅烷产品，塔顶进入低沸物塔；低沸物塔塔顶采出低沸物产品，塔釜采出进入三甲塔；三甲塔塔釜采出三甲基一氯硅烷产品，塔顶采出进入含氢塔；含氢塔塔顶采出一甲二氯硅烷产品，塔釜采出氯硅烷废物。利用本发明的技术方案，同比可以减少设备投资20%，降低能耗30%，同时提高二甲产品质量至99.95%以上。
Description
技术领域
本发明涉及一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统，属有机硅生产技术领域。
背景技术
甲基氯硅烷混合单体包括二甲基二氯硅烷（简称二甲）、一甲基三氯硅烷（简称一甲）、三甲基一氯硅烷（简称三甲）、一甲基二氯硅烷（简称一甲含氢）、高沸物和低沸物。众所周知，目前国内外甲基氯硅烷单体合成普遍采用“直接法”合成工艺，以硅粉和氯甲烷为原料，在铜催化剂体系作用下直接合成甲基氯硅烷混合单体，甲基氯硅烷混合单体通过精馏分离得到主要目标产物二甲，副产物一甲、一甲含氢、三甲、高沸物及低沸物。二甲再通过水解和裂解等过程生产各种有机硅中间体—低聚甲基硅氧烷或烷氧基硅烷，进一步加工成为各类有机硅下游产品。
在制备硅油、硅橡胶时对原料二甲的纯度要求相当高，尤其是制备高温硫化硅橡胶，要求关键原料二甲的纯度达到99.95%以上。但粗单体组分复杂，沸点差距小，目前国内有机硅生产厂家精馏所得二甲产品与国外先进水平相比，纯度不高，且蒸汽用量较大、设备投资较高，导致产品市场竞争力低下。因此有必要对甲基氯硅烷混合单体分离提纯工艺进行相关技术研究，设计合理分离流程，尽可能的分离出合格纯度的二甲，同时减少设备投资、降低蒸汽消耗。
目前国内通用的有机硅单体分离工艺是顺式8塔，粗单体经过脱高塔、脱低塔，再进入二元塔分离出一甲产品和二甲产品；脱低塔塔顶采出物料经轻分塔、含氢塔、共沸塔、三甲塔分别分离出低沸物产品、一甲含氢产品、共沸物产品、三甲产品；脱高塔塔釜物料经过高沸塔分离出高沸物产品。该分离工艺共沸物塔塔顶采出的共沸物不易处理；高沸塔塔顶及三甲塔塔釜物料均需返回前系统，增加系统负荷，同时增加设备投入，增加蒸汽消耗；粗单体脱高塔、脱低塔，再进入二元塔分离出一甲产品和二甲产品，由于对塔顶及塔釜产品纯度要求均非常高，二元塔的操作条件比较苛刻，操作条件的微小波动可能就会导致其中某一种产品不合格，二甲产品为塔釜最后出料，部分与二甲沸点相近的物质无法分离导致二甲纯度不高。
发明内容
本发明提供了一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统，解决现有技术难提，在减少投资、降低能耗的前提下，提高产品质量。
本发明中使用的技术术语说明：
甲基氯硅烷粗单体：主要组分为一甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基一氯硅烷、一甲基二氯硅烷、四氯化硅等；
高沸物：标况下沸点大于70.2℃的组分；
低沸物：标况下沸点小于40.4℃的组分；
共沸物：三甲与四氯化硅组成的共沸物；
二元塔：用于分离一甲与二甲两种物质的塔器；
精二甲塔：用于脱除高沸物的塔器，本发明中所述的精二甲塔是脱高塔的一种；
一甲塔：用于分离一甲与三甲两种物质的塔器；
低沸物塔：用于脱除低沸物的塔器；
三甲塔：用于分离三甲与四氯化硅的塔器；
含氢塔：用于分离含氢与四氯化硅的塔器。
本发明技术方案如下：
一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统，将来自单体合成的甲基氯硅烷粗单体直接进入二元塔，二元塔塔顶采出进入一甲塔，塔釜采出的粗二甲进入精二甲塔；精二甲塔塔顶采出精二甲产品，塔釜采出高沸物产品；一甲塔塔釜采出一甲产品，塔顶采出进入低沸物塔；低沸物塔塔顶采出低沸物产品，塔釜采出进入三甲塔；三甲塔塔釜采出三甲产品，塔顶采出进入含氢塔；含氢塔塔顶采出一甲含氢产品，塔釜采出氯硅烷废物。
所述来自单体合成的粗单体中高沸含量小于0.2%。
所述二元塔塔釜温度控制在99-130℃，塔釜压力控制在0.15-0.4MPa。
所述精二甲塔塔顶采出二甲基二氯硅烷产品，塔釜采出高沸物产品去单体合成洗涤塔重新分离，塔顶温度控制在80-100℃，塔顶压力控制在0.03-0.15MPa。
所述一甲塔塔釜采出一甲基三氯硅烷产品，塔顶温度控制在70-90℃，塔顶压力控制在0.03-0.15MPa。
所述低沸物塔塔顶采出低沸物产品去低沸歧化工序重新重排循环生产粗单体，塔顶温度控制在60-80℃，塔顶压力控制在0.10-0.30MPa。
所述三甲塔塔釜采出三甲基三氯硅烷产品，塔顶温度控制在65-80℃，塔顶压力控制在0.05-0.18MPa。
所述含氢塔塔顶采出一甲基二氯硅烷产品，塔釜采出氯硅烷废物，塔顶温度控制在60-80℃，塔顶压力控制在0.08-0.20MPa
本发明的技术方案同时提供了甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺所用的系统，二元塔顶部与一甲塔连接，底部与精二甲塔连接；一甲塔顶部与低沸物塔连接；低沸物塔底部与三甲塔连接；三甲塔顶部与含氢塔连接。
本发明的技术特点如下：
1.组分一甲经过二元塔分离，再经过一甲塔分离，就直接从一甲塔塔釜出来采出一甲基三氯硅烷产品，一甲基三氯硅烷组分只需要蒸一次。
2.二元塔操作简单，只需保证二元塔塔釜二甲基二氯硅质量，粗二甲进入精二甲塔，除去粗二甲基二氯硅烷中的沸点相近的高沸物，二甲基二氯硅烷产品最后从精二甲塔塔顶采出，大幅度提高二甲基二氯硅烷产品质量，可达到99.95%以上。
3.本发明工艺只有6只精馏塔，比传统的顺式8塔少两只塔，减少设备投资。
4.国内普遍工艺高沸塔塔顶及三甲塔塔釜物料均需返回前系统，增加系统负荷，本发明工艺无此类返料。
5.低沸物塔塔顶采出的低沸物产品可去低沸歧化工序重新重排循环生产粗单体，精二甲塔塔釜采出的高沸物产品可去单体合成洗涤塔重新分离。
本发明工艺技术简单、控制条件严谨、具有良好的应用前景和应用价值，和现有技术相比其良效果在于：1.大幅度提高主产物二甲产品质量，达到99.95%以上；2.设备总数少，减少设备投资；3.本发明工艺流程简单，各热量充分利用，可大幅度降低蒸汽消耗及循环水用量，降低能耗30%以上；4.生产操作易控制且避免经常出现返料现象。
附图说明
图1为本发明的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯系统结构图，其中，1二元塔；2氯硅烷废物；3精二甲塔；4一甲塔；5低沸物塔；6三甲塔；7含氢塔；8甲基氯硅烷混合单体；9二甲产品；10高沸物产品；11一甲产品；12低沸物产品；13三甲产品；14一甲含氢产品。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明，但下述实施例仅仅为本发明的优先实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本发明的保护范围。
实施例一：
将来自单体合成的甲基氯硅烷粗单体8以20.5吨/小时的流量进入二元塔1，二元塔1塔釜采出的粗二甲基二氯硅烷进入精二甲塔3，塔顶采出进入一甲塔4；二元塔1塔釜温度控制在99.8℃，塔釜压力控制在0.16MPa。
精二甲塔3塔顶采出精二甲基二氯硅烷产品9，塔釜采出高沸物产品10，高沸物产品10去单体合成洗涤塔重新分离；精二甲塔3塔顶温度控制在86.5℃，塔顶压力控制在0.05MPa，二甲基二氯硅烷产品9纯度99.96%。
一甲塔4塔釜采出一甲基三氯硅烷产品12，塔顶采出进入低沸物塔5；一甲塔4塔顶温度控制在72.8℃，塔顶压力控制在0.06MPa，一甲基三氯硅烷产品12纯度高于99.1%。
低沸物塔5塔顶采出低沸物产品12，塔釜采出进入三甲塔6；低沸物塔5塔顶温度控制在65.5℃，塔顶压力控制在0.15MPa，低沸物产品12去低沸歧化工序重新重排循环生产粗单体。
三甲塔6塔釜采出三甲基一氯硅烷产品13，塔顶采出进入含氢塔7；三甲塔6塔顶温度控制在68.6℃，塔顶压力控制在0.08MPa，三甲基一氯硅烷产品13主含量99.55%。
含氢塔7塔顶采出一甲基二氯硅烷产品14，塔釜采出氯硅烷废物2；含氢塔7塔顶温度控制在65.9℃，塔顶压力控制在0.10MPa，一甲基二氯硅烷产品14主含量99.56%。
实施例二：
将来自单体合成的甲基氯硅烷粗单体8以25.5吨/小时的流量进入二元塔1，二元塔1塔釜采出的粗二甲基二氯硅烷进入精二甲塔3，塔顶进采出入一甲塔4；二元塔1塔釜温度控制在111.6℃，塔釜压力控制在0.21MPa。
精二甲塔3塔顶采出精二甲基二氯硅烷产品9，塔釜采出高沸物产品10，高沸物产品10去单体合成洗涤塔重新分离；精二甲塔3塔顶温度控制在90.8℃，塔顶压力控制在0.08MPa，二甲基二氯硅烷产品9纯度99.95%。
一甲塔4塔釜采出一甲基三氯硅烷产品12，塔顶采出进入低沸物塔5；一甲塔4塔顶温度控制在76.8℃，塔顶压力控制在0.11MPa，一甲基三氯硅烷产品12纯度高于99.05%。
低沸物塔5塔顶采出低沸物产品12，塔釜采出进入三甲塔6；低沸物塔5塔顶温度控制在71.3℃，塔顶压力控制在0.21MPa，低沸物产品12去低沸歧化工序重新重排循环生产粗单体。
三甲塔6塔釜采出三甲基一氯硅烷产品13，塔顶采出进入含氢塔7；三甲塔6塔顶温度控制在71.6℃，塔顶压力控制在0.012MPa，三甲基一氯硅烷产品13主含量99.62%。
含氢塔7塔顶采出一甲基二氯硅烷产品14，塔釜采出氯硅烷废物2；含氢塔7塔顶温度控制在71.3℃，塔顶压力控制在0.14MPa，一甲基二氯硅烷产品14主含量99.55%。
实施例三：
将来自单体合成的甲基氯硅烷粗单体8以30.0吨/小时的流量进入二元塔1，二元塔1塔釜采出的粗二甲基二氯硅烷进入精二甲塔3，塔顶进入一甲塔4；二元塔1塔釜温度控制在123℃，塔釜压力控制在0.31MPa。
精二甲塔3塔顶采出精二甲基二氯硅烷产品9，塔釜采出高沸物产品10，高沸物产品10去单体合成洗涤塔重新分离；精二甲塔3塔顶温度控制在98.3℃，塔顶压力控制在0.13MPa，二甲基二氯硅烷产品9纯度99.96%。
一甲塔4塔釜采出一甲基三氯硅烷产品12，塔顶采出进入低沸物塔5；一甲塔4塔顶温度控制在80.16℃，塔顶压力控制在0.14MPa，一甲基三氯硅烷产品12纯度高于99.06%。
低沸物塔5塔顶采出低沸物产品12，塔釜采出进入三甲塔6；低沸物塔5塔顶温度控制在74.5℃，塔顶压力控制在0.25MPa，低沸物产品12去低沸歧化工序重新重排循环生产粗单体。
三甲塔6塔釜采出三甲基一氯硅烷产品13，塔顶采出进入含氢塔7；三甲塔6塔顶温度控制在76.3℃，塔顶压力控制在0.15MPa，三甲基一氯硅烷产品13主含量99.53%。
含氢塔7塔顶采出一甲基二氯硅烷产品14，塔釜采出氯硅烷废物2；含氢塔7塔顶温度控制在75.5℃，塔顶压力控制在0.18MPa，一甲基二氯硅烷产品14主含量99.52%。
Claims (8)
1.一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，将来自单体合成的甲基氯硅烷粗单体直接进入二元塔，二元塔塔顶采出进入一甲塔，塔釜采出的粗二甲基二氯硅烷进入精二甲塔；
精二甲塔塔顶采出精二甲基二氯硅烷产品，塔釜采出高沸物产品；
一甲塔塔釜采出一甲基三氯硅烷产品，塔顶采出进入低沸物塔；
低沸物塔塔顶采出低沸物产品，塔釜采出进入三甲塔；
三甲塔塔釜采出三甲基一氯硅烷产品，塔顶采出进入含氢塔；
含氢塔塔顶采出一甲基二氯硅烷产品，塔釜采出氯硅烷废物。
2.如权利要求1所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，所述二元塔塔釜温度控制在99-130℃，塔釜压力控制在0.15-0.4MPa。
3.如权利要求1所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，所述精二甲塔塔顶采出二甲基二氯硅烷产品，塔釜采出高沸物产品，塔顶温度控制在80-100℃，塔顶压力控制在0.03-0.15MPa。
4.如权利要求1所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，所述一甲塔塔釜采出一甲基三氯硅烷产品，塔顶温度控制在70-90℃，塔顶压力控制在0.03-0.15MPa。
5.如权利要求1所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，所述低沸物塔塔顶采出低沸物产品，塔顶温度控制在60-80℃，塔顶压力控制在0.10-0.30MPa。
6.如权利要求1所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，所述三甲塔塔釜采出三甲基一氯硅烷产品，塔顶温度控制在65-80℃，塔顶压力控制在0.05-0.18MPa。
7.如权利要求1所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺，其特征在于，所述含氢塔塔顶采出一甲基二氯硅烷产品，塔釜采出氯硅烷废物，塔顶温度控制在60-80℃，塔顶压力控制在0.08-0.20MPa。
8.进行如权利要求1-7任一项所述的甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺所用的系统，其特征在于，二元塔（1）顶部与一甲塔（4）连接，底部与精二甲塔（3）连接；一甲塔（4）顶部与低沸物塔（5）连接；低沸物塔（5）底部与三甲塔（6）连接；三甲塔（6）顶部与含氢塔（7）连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910286402.5A CN110128463A (zh) | 2019-04-10 | 2019-04-10 | 一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910286402.5A CN110128463A (zh) | 2019-04-10 | 2019-04-10 | 一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110128463A true CN110128463A (zh) | 2019-08-16 |
Family
ID=67569615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910286402.5A Pending CN110128463A (zh) | 2019-04-10 | 2019-04-10 | 一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN110128463A (zh) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1092778A (zh) * | 1993-01-11 | 1994-09-28 | 瓦克化学有限公司 | 分离四氯硅烷-三甲基氯硅烷共沸物的方法 |
| CN101429211A (zh) * | 2008-12-01 | 2009-05-13 | 山东东岳有机硅材料有限公司 | 一种有机硅生产中甲基混合单体分离工艺 |
| CN101798322A (zh) * | 2010-03-26 | 2010-08-11 | 天津大学 | 节能节水型有机硅单体精馏方法 |
| CN102617629A (zh) * | 2012-02-14 | 2012-08-01 | 吉林化工学院化工分离技术开发中心 | 一种有机硅混合单体甲基氯硅烷的分离新工艺 |
| CN103524550A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-01-22 | 泸州北方化学工业有限公司 | 直接法合成有机硅混合单体的分离工艺 |
| CN105503933A (zh) * | 2015-12-21 | 2016-04-20 | 山东聊城中盛蓝瑞化工有限公司 | 一种化工单体节能精馏系统及方法 |
| CN109134527A (zh) * | 2018-09-07 | 2019-01-04 | 江西蓝星星火有机硅有限公司 | 一种洗涤塔系统及其在分离甲基氯硅烷单体的应用 |
| CN109224492A (zh) * | 2018-11-28 | 2019-01-18 | 天津乐科节能科技有限公司 | 有机硅单体自回热精馏装置及方法 |
-
2019
- 2019-04-10 CN CN201910286402.5A patent/CN110128463A/zh active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1092778A (zh) * | 1993-01-11 | 1994-09-28 | 瓦克化学有限公司 | 分离四氯硅烷-三甲基氯硅烷共沸物的方法 |
| CN101429211A (zh) * | 2008-12-01 | 2009-05-13 | 山东东岳有机硅材料有限公司 | 一种有机硅生产中甲基混合单体分离工艺 |
| CN101798322A (zh) * | 2010-03-26 | 2010-08-11 | 天津大学 | 节能节水型有机硅单体精馏方法 |
| CN102617629A (zh) * | 2012-02-14 | 2012-08-01 | 吉林化工学院化工分离技术开发中心 | 一种有机硅混合单体甲基氯硅烷的分离新工艺 |
| CN103524550A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-01-22 | 泸州北方化学工业有限公司 | 直接法合成有机硅混合单体的分离工艺 |
| CN105503933A (zh) * | 2015-12-21 | 2016-04-20 | 山东聊城中盛蓝瑞化工有限公司 | 一种化工单体节能精馏系统及方法 |
| CN109134527A (zh) * | 2018-09-07 | 2019-01-04 | 江西蓝星星火有机硅有限公司 | 一种洗涤塔系统及其在分离甲基氯硅烷单体的应用 |
| CN109224492A (zh) * | 2018-11-28 | 2019-01-18 | 天津乐科节能科技有限公司 | 有机硅单体自回热精馏装置及方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104945428B (zh) | 一种制备二甲基二氯硅烷的方法 | |
| CN217828930U (zh) | 粗单体精馏节能装置 | |
| CN103012460B (zh) | 一种甲基三甲氧基硅烷醇解工艺 | |
| CN110078080A (zh) | 一种结合渣浆处理与裂解反应的氯硅烷高沸物回收工艺 | |
| CN107226909A (zh) | 一种制织物柔软剂用环氧改性硅油制备方法 | |
| CN102079754A (zh) | 一甲基三乙氧基硅烷制备工艺 | |
| CN102924504A (zh) | 一种丙基三甲氧基硅烷的制备方法 | |
| CN101429211B (zh) | 一种有机硅生产中甲基混合单体分离工艺 | |
| CN103524550A (zh) | 直接法合成有机硅混合单体的分离工艺 | |
| CN109320541A (zh) | 塔式缚酸剂法连续生产氰乙基三乙氧基硅烷的方法 | |
| CN205653378U (zh) | 一种二甲基二氯硅烷的提纯系统 | |
| CN209940873U (zh) | 一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯系统 | |
| CN106397481A (zh) | 一种膦酰基乙酸三乙酯的合成方法 | |
| CN110128463A (zh) | 一种甲基氯硅烷混合单体的分离提纯工艺及系统 | |
| CN110041359A (zh) | 一种单体分离节能工艺及系统 | |
| CN217939189U (zh) | 粗单体分离节能装置 | |
| CN102070663B (zh) | 二甲基二乙氧基硅烷制备工艺 | |
| CN217828931U (zh) | 粗单体分离装置 | |
| CN110041358A (zh) | 一种粗单体分离工艺及系统 | |
| CN209361889U (zh) | 有机硅单体自回热精馏装置 | |
| CN115557987A (zh) | 一种有机硅低沸物高效精馏及综合利用方法 | |
| CN217526448U (zh) | 有机硅酸性水解物脱酸装置 | |
| CN115228118A (zh) | 一种粗单体精馏节能方法及装置 | |
| CN110128462A (zh) | 一种单体精馏工艺及系统 | |
| CN115282625A (zh) | 一种粗单体分离方法及装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |