CN110106491A - 蒸镀凸台夹持架 - Google Patents

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吴永胜
张帆
李培双
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Fujian Trillion Photoelectric Co Ltd
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Fujian Trillion Photoelectric Co Ltd
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders

Abstract

本发明涉及一种蒸镀凸台夹持架,包括柱型主体,所述柱型主体的上端部沿长度方向开设有槽,所述槽内侧设置有至少一个环形轴承,在所述环形轴承的内圈中插入凸台单元的轴并对其进行支撑。该夹持架可以减小使用中的磨损,提高使用寿命和使用稳定性。

Description

蒸镀凸台夹持架
技术领域
本发明涉及蒸镀设备领域,具体涉及一种电子束蒸镀装置的蒸镀凸台夹持架。
背景技术
在半导体装置的制造中,反复进行薄膜的形成过程和蚀刻过程。电子束蒸镀装置是在晶片上形成薄膜的蒸镀设备之一,其包括容纳源物质的坩锅、电子束发射源、包括凸台的凸台单元。如果来自电子束发射源的电子束施加于源物质,则源物质蒸发并在夹持于凸台单元的凸台的晶片表面沉积。
图1是现有技术中蒸镀凸台夹持架(1)及凸台单元的轴(200)的结构示意图。图1的(a)和(b)分别示出了凸台单元的轴(200)加装于夹持架(1)的状态和分离的状态。现有技术的蒸镀凸台夹持架(1)是具有供凸台单元的轴(200)的端部插入的槽(3)的柱型。供凸台单元的轴(200)端部插入的夹持架的槽(3)具有既定深度,包括在内面形成的固定层(4)。凸台单元的轴(200)的端部插入于夹持架(1)的槽(3)中,实现夹持架(1)与凸台单元轴(200)的连接。在凸台单元轴(200)端部的外周面,为了夹持架(1)与凸台单元轴(200)的坚固结合状态而形成有锯齿(210)。在蒸镀工序中存在使凸台旋转的动作,凸台单元轴(200)的锯齿(210)给夹持架槽(3)的固定层(4)造成磨损。因此,会产生颗粒,引起蒸镀膜品质下降。进一步而言,固定层(4)的长期磨损导致凸台单元轴(200)与夹持架(1)结合状态松驰,会发生附属于凸台的部件掉落甚至晶片掉落的事故。因此,需提早更换夹持架(1),因而生产率低下。
发明内容
本发明的目的在于提供一种蒸镀凸台夹持架,该夹持架可以减小使用中的磨损,提高使用寿命和使用稳定性。
为实现上述目的,本发明的技术方案是:一种蒸镀凸台夹持架,包括柱型主体,所述柱型主体的上端部沿长度方向开设有槽,所述槽内侧设置有至少一个环形轴承,在所述环形轴承的内圈中插入凸台单元的轴并对其进行支撑。
进一步地,所述环型轴承的内圈与所述凸台单元的轴紧密配合。
进一步地,所述环型轴承的内圈的部分或全部内侧壁具有与所述凸台单元的轴的下端部外侧壁形成的表面结构相对应的表面结构,以与所述凸台单元的轴的下端部外侧壁配合增加摩擦力。
相较于现有技术,本发明的有益效果是:通过在用于插置凸台单元的轴的槽中配置环型轴承,减小了磨损的发生。通过抑制磨损,可以长期坚固地支撑凸台单元,提高生产率。另外,可以使因磨损产生的颗粒最小化,在蒸镀装置中生产出优质的薄膜。
附图说明
图1是现有技术中蒸镀凸台夹持架和凸台单元的轴的结构示意图。
图2是本发明实施例中蒸镀凸台夹持架与凸台单元的轴的分离状态示意图。
图3是本发明实施例中蒸镀凸台夹持架与凸台单元的轴的连接状态示意图。
图4是图3的剖面图。
图1中:1、蒸镀凸台夹持架,3、夹持架的槽,4、固定层,200、凸台单元的轴,210、锯齿。
图2-4中:10、蒸镀凸台夹持架,11、柱型主体,12、底座,13、槽,14、环型轴承,141、锯齿,200、凸台单元的轴。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步的详细说明。
图2是本发明优选实施例的蒸镀凸台夹持架与凸台单元的轴的分离状态示意图。图3是凸台单元的轴插置于蒸镀凸台夹持架中的连接状态示意图。图4是图3的剖面图。在图2-4中,对本发明的蒸镀凸台夹持架整体上赋予附图标记10。插入加装于本发明的蒸镀凸台夹持架(10)并进行支撑的凸台单元的轴赋予附图标记200。虽然图中未示出,但在凸台单元的轴(200)上连接有夹持晶片的凸台。
本发明的蒸镀凸台夹持架(10)包括柱型主体(11),在柱型主体(11)的下端,可以配备用于使主体(11)直立的底座(12)。
在柱型主体(11)的端部开设有槽(13)。槽(13)可以沿柱型主体(11)的长度方向形成,具有既定深度。在槽(13)中装设有至少一个环型轴承(14)。环型轴承(14)可以插入加装于槽(13)中并固定,但不限定于此。
如图3及4所示,凸台单元的轴(200)的下端部插入到环型轴承(14)的内圈中。因此,凸台单元的轴(200)能拆卸地支撑于柱型主体(11)的槽(13)中。
环型轴承(14)的内圈与凸台单元的轴(200)紧密配合。由于有环型轴承,因此当凸台单元的轴(200)旋转时,在夹持架(10)的柱型主体(11)形成的槽(13)的内面,不引起摩擦损伤。凸台单元的轴(200)紧密地插入于环型轴承(14)的内圈中,这意味着在凸台单元的轴(200)的下端部外侧壁与各环型轴承(14)的内圈的内侧壁的摩擦力提高。
在凸台单元的轴(200)的下端部外侧壁可以形成锯齿(210)。优选地,可以在环型轴承(14)的内圈的内侧圆周壁面的一部分或全部,形成与在凸台单元的轴(200)的下端部外侧壁形成的诸如锯齿(210)的表面结构配对的表面结构。如果这种表面是锯齿(210),则与之配对的对应锯齿(141)可以在环型轴承(14)内圈的内侧壁的一部分或全部形成。因此,当凸台旋转时,环型轴承(14)自然地旋转,而几乎不发生磨损。
下表1比较了现有的夹持架与本发明的夹持架的使用效果。
表1
如上面表1所示,现有的夹持架槽的入口直径因磨损而增大,因而凸台单元轴发生倾斜。因此,旋转困难,在旋转中晶片等掉落的可能性高。相反,本发明的夹持架采用通常以合金制造的环型轴承,因而夹持架几乎不发生磨损,可以使凸台单元长时间直立。因此,不仅可以保障夹持架的长寿命,而且不发生颗粒,可以生产优质的薄膜。
以上是本发明的较佳实施例,凡依本发明技术方案所作的改变,所产生的功能作用未超出本发明技术方案的范围时,均属于本发明的保护范围。

Claims (3)

1.一种蒸镀凸台夹持架,其特征在于,包括柱型主体,所述柱型主体的上端部沿长度方向开设有槽,所述槽内侧设置有至少一个环形轴承,在所述环形轴承的内圈中插入凸台单元的轴的下端部并对其进行支撑。
2.根据权利要求1所述的蒸镀凸台夹持架,其特征在于,所述环型轴承的内圈与所述凸台单元的轴紧密配合。
3.根据权利要求2所述的蒸镀凸台夹持架,其特征在于,所述环型轴承的内圈的部分或全部内侧壁具有与所述凸台单元的轴的下端部外侧壁形成的表面结构相对应的表面结构,以与所述凸台单元的轴的下端部外侧壁配合增加摩擦力。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11128779A (ja) * 1997-10-24 1999-05-18 Asahi Sunac Corp 回転霧化式塗装用スプレイガン
CN201109794Y (zh) * 2007-08-24 2008-09-03 比亚迪股份有限公司 一种真空离子镀膜夹具
CN206219650U (zh) * 2016-12-01 2017-06-06 无锡市精盛洲科技有限公司 小型汽车灯具真空镀铝夹持装置
CN206843582U (zh) * 2017-04-14 2018-01-05 北京北方华创微电子装备有限公司 一种石英轴固定装置、旋转升降装置和沉积腔室
CN207027206U (zh) * 2017-07-08 2018-02-23 东莞超阳五金制品有限公司 一种具有夹持功能的板材抛光设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11128779A (ja) * 1997-10-24 1999-05-18 Asahi Sunac Corp 回転霧化式塗装用スプレイガン
CN201109794Y (zh) * 2007-08-24 2008-09-03 比亚迪股份有限公司 一种真空离子镀膜夹具
CN206219650U (zh) * 2016-12-01 2017-06-06 无锡市精盛洲科技有限公司 小型汽车灯具真空镀铝夹持装置
CN206843582U (zh) * 2017-04-14 2018-01-05 北京北方华创微电子装备有限公司 一种石英轴固定装置、旋转升降装置和沉积腔室
CN207027206U (zh) * 2017-07-08 2018-02-23 东莞超阳五金制品有限公司 一种具有夹持功能的板材抛光设备

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