CN110096175A - 显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板，其包括：基板，通过低温工艺形成的阴极层，阴极层上形成有第一间隙，触控功能层，至少一个触控功能层未设置于阴极层远离基板一侧，触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙，其中，第二间隙与第一间隙满足预设条件以及使得触控构件形成触控功能单元；在此结构中，基于阴极层上形成的第一间隙，手指接触屏幕后，所产生的电场线没有被阴极层所屏蔽，可以穿透到阴极之下的结构，这样触控功能层可以全部或者部分不设置在阴极层远离背板的方向上，解决了现有显示面板存在触控结构只能采用On Cell方式实现的技术问题，同时，阴极层通过低温工艺形成，避免了对发光材料的损坏。

Description

显示面板
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板。
背景技术
在AMOLED显示面板结构中，现有触控结构采用On Cell方式实现，即所有的触控功能层都贴合在OLED最上层的阴极层(即Cathode)远离背板的方向上，这是因为Cathode采用Common Mask蒸镀工艺制作出，结构是整面性的，手指接触屏幕后，所产生的电场线被Cathode层所屏蔽，无法穿透到Cathode之下的结构。
即现有显示面板存在触控结构只能采用On Cell方式实现的技术问题。
发明内容
本发明提供一种显示面板，以解决现有显示面板存在的触控结构只能采用OnCell方式实现的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明实施例提供一种显示面板，其包括：
基板；
阴极层，通过低温工艺形成，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙；
触控功能层，至少一个触控功能层未设置于所述阴极层远离所述基板一侧，所述触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙；
其中，所述第二间隙与所述第一间隙满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元。
在本发明的显示面板中，所述显示面板包括像素定义层，所述像素定义层之上设置有支撑挡墙，所述支撑挡墙的高度大于所述阴极层的厚度，将所述阴极层分割以形成所述第一间隙。
在本发明的显示面板中，所述支撑挡墙的截面为三角形。
在本发明的显示面板中，所述支撑挡墙的截面为梯形。
在本发明的显示面板中，所述支撑挡墙的截面为倒梯形。
在本发明的显示面板中，所述阴极层包括第一区域以及第二区域，所述第一区域与第二区域之间形成所述第一间隙，所述第一区域内的阴极层与第二区域的阴极层通过多道工艺形成。
在本发明的显示面板中，所述触控功能层与所述阴极层为同一层，所述第一区域内的阴极层形成第一触控电极，所述第二区域的阴极层形成第二触控电极。
在本发明的显示面板中，所述第一触控电极为驱动电极，所述第二触控电极为感应电极；或者，所述第一触控电极为感应电极，所述第二触控电极为驱动电极。
在本发明的显示面板中，所述显示面板包括依次设置于所述阴极层之上的钝化层和保护层，所述第一间隙为对所述钝化层、保护层以及阴极层在一道工艺中蚀刻形成的。
在本发明的显示面板中，所述第一间隙为设置于所述阴极层之下的剥离层，剥离形成的。
本发明的有益效果为：本发明提供一种新的显示面板，其包括：基板，通过低温工艺形成的阴极层，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙，触控功能层，至少一个触控功能层未设置于所述阴极层远离所述基板一侧，所述触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙，其中，所述第二间隙与所述第一间隙满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元；在此结构中，基于阴极层上形成的第一间隙，手指接触屏幕后，所产生的电场线没有被Cathode层所屏蔽，可以穿透到Cathode之下的结构，这样触控功能层可以全部或者部分不设置在OLED最上层的阴极层远离背板的方向上，解决了现有显示面板存在触控结构只能采用On Cell方式实现的技术问题，同时，阴极层通过低温工艺形成，避免了对发光材料的损坏。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的显示面板的截面示意图。
图2为本发明实施例提供的触控功能层与阴极层的第一种设置示意图。
图3为本发明实施例提供的触控功能层与阴极层的第二种设置示意图。
图4为本发明实施例提供的触控功能层与阴极层的第三种设置示意图。
图5为本发明实施例提供的触控功能层与阴极层的第四种设置示意图。
图6为本发明实施例提供的显示面板的设置示意图。
图7为本发明实施例提供的阴极层的形成示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
针对现有显示面板存在的触控结构只能采用On Cell方式实现的技术问题，本发明实施例可以解决这个问题。
在一种实施例中，如图1所示，本发明提供的显示面板1包括：
基板11；
阴极层12，通过低温工艺形成，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙121；
触控功能层13，至少一个触控功能层13未设置于所述阴极层12远离所述基板11一侧，所述触控功能层13形成有触控构件131，位于同一触控功能层的相邻触控构件131形成有第二间隙132；
其中，所述第二间隙132与所述第一间隙121满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元。
本实施例提供的显示面板，其包括：基板，通过低温工艺形成的阴极层，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙，触控功能层，至少一个触控功能层未设置于所述阴极层远离所述基板一侧，所述触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙，其中，所述第二间隙与所述第一间隙满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元；在此结构中，基于阴极层上形成的第一间隙，手指接触屏幕后，所产生的电场线没有被Cathode层所屏蔽，可以穿透到Cathode之下的结构，这样触控功能层可以全部或者部分不设置在OLED最上层的阴极层远离背板的方向上，解决了现有显示面板存在触控结构只能采用On Cell方式实现的技术问题，同时，阴极层通过低温工艺形成，避免了对发光材料的损坏。
触控构件包括光学式触控单元和电容式触控单元等，电容式触控单元包括互容式触控功能单元和自容式触控功能单元，本发明可以运用到所有的触控构件实现方式中。
在一种实施例中，光学式触控单元包括光发射单元和光接收单元(两者之间形成第二间隙)，阴极层的第一间隙至少设置在光传输路径上，光传输路径包括发射路径和接收路径，这样光线就可以穿过阴极层到达终端表面，进而实现触控功能。
在一种实施例中，同一触控功能层的触控构件包括驱动电极以及感应电极，相邻的驱动电极和感应电极之间形成有所述第二间隙；所述驱动电极以及所述感应电极之间的电感线穿过所述第一间隙，形成互容式触控功能单元。
在一种实施例中，所述触控功能层设置于所述阴极层与所述基板之间；沿垂直于所述基板的投影方向，所述第一间隙在所述基板上的第一投影，覆盖所述第二间隙在所述基板上的第二投影。
在一种实施例中，所述触控功能层设置于所述阴极层与所述基板之间；沿垂直于所述基板的投影方向，所述第一间隙在所述基板上的第一投影，与所述第二间隙在所述基板上的第二投影重合。
在一种实施例中，所述触控功能层与所述显示面板的信号走线层同层设置。
本发明实施例可以借用现有LTPS Array图层，如Vi和VDD等对应的信号走线层制作驱动电极TX和感应电极RX的传感器Sensor，同时借用现有像素驱动信号，在触控构件的工作时段提供给Sensor驱动信号，TX和RX相邻区域，正上方的cathode被切除。如图2及图3所示，以菱形和矩形为列说明，其他形状如三角形等亦属于本发明所涵盖的内容。
如图2中(1)所示，信号走线层S21图案化之后，形成菱形的传感器，同一行的驱动电极21通过走线直接电连接，同一列的感应电极22通过过桥的方式电连接，相邻的驱动电极21和感应电极22之间形成第二间隙23；在一种实施例中，驱动电极21和感应电极22相邻的区域边界可以不是完全的直线空隙，例如设置为相互咬合的复杂边界，这样可以形成较好的触控效果。
如图2中(2)所示，阴极层S22图案化之后，形成多个菱形结构24，相邻菱形结构24之间形成第一间隙25，第二间隙23与第一间隙25的形状大小相同。
如图3中(1)所示，信号走线层S31图案化之后，形成矩形的传感器，同一行的驱动电极31通过过桥或者过孔的方式电连接，感应电极32则直接连接至驱动芯片，相邻的驱动电极31和感应电极32之间形成第二间隙33；在一种实施例中，驱动电极31和感应电极32相邻的区域边界可以不是完全的直线空隙，例如设置为相互咬合的复杂边界，这样可以形成较好的触控效果。
如图3中(2)所示，阴极层S32图案化之后，形成多个矩形结构34，相邻矩形结构34之间形成第一间隙35，第二间隙33与第一间隙35的形状相同。
在一种实施例中，同一触控功能层的触控构件包括驱动电极以及感应电极，相邻的驱动电极和感应电极之间形成有所述第二间隙，所述触控功能层与所述阴极层同层设置；所述第一间隙与所述第二间隙重合。
本实施例利用Cathode形成触控电极Tx和Rx走线，在显示和触控阶段分时复用，Tx或者Rx连线设置在Cathode的上方或者下方，走线与阴极层之间设置有透明的绝缘层绝缘。
如图4所示，阴极层S41图案化之后形成矩形的传感器，同一行的驱动电极41通过过孔42和走线43组合的方式电连接，走线43设置在阴极层S41朝向背板的一侧，走线43与阴极层S41之间设置有绝缘层S42，感应电极44则直接连接至驱动芯片，相邻的驱动电极41和感应电极44之间形成第二间隙45，也即第一间隙；在一种实施例中，驱动电极和感应电极相邻的区域边界可以不是完全的直线空隙，例如设置为相互咬合的复杂边界，这样可以形成较好的触控效果。
在一种实施例中，走线43设置在阴极层远离背板的一侧，走线43与阴极层之间设置有绝缘层。
在一种实施例中，阴极层图案化之后，形成菱形的传感器，同一行的驱动电极通过走线直接电连接，同一列的感应电极通过过桥的方式电连接，相邻的驱动电极和感应电极之间形成第二间隙，也即第一间隙；在一种实施例中，驱动电极和感应电极相邻的区域边界可以不是完全的直线空隙，例如设置为相互咬合的复杂边界，这样可以形成较好的触控效果。
在一种实施例中，同一触控功能层的触控构件包括触控电极，相邻的触控电极之间形成有所述第二间隙；所述触控电极之间的电感线穿过所述第一间隙，形成自容式触控功能单元。
在一种实施例中，所述触控功能层设置于所述阴极层与所述基板之间；沿垂直于所述基板的投影方向，所述第一间隙在所述基板上的第一投影，覆盖所述第二间隙在所述基板上的第二投影。
在一种实施例中，所述触控功能层设置于所述阴极层与所述基板之间；沿垂直于所述基板的投影方向，所述第一间隙在所述基板上的第一投影，与所述第二间隙在所述基板上的第二投影重合。
在一种实施例中，所述触控功能层与所述显示面板的信号走线层同层设置。
在一种实施例中，同一触控功能层的触控构件包括触控电极，相邻的触控电极之间形成有所述第二间隙，所述触控功能层与所述阴极层同层设置；所述第一间隙与所述第二间隙重合。
针对自容式触控功能单元，各触控电极(一般都是驱动电极)的设置方式可以参照互容式触控功能单元，不再赘述。
在一种实施例中，所述触控功能层包括第一触控功能层和第二触控功能层，所述第一触控功能层形成第一触控电极，所述第二触控功能层形成感应电极；所述第一触控功能层与所述阴极层同层设置，相邻的第一触控电极形成所述第一间隙，相邻的第二触控电极形成所述第二间隙；沿垂直于所述基板的投影方向，所述第一间隙在所述基板上的第一投影，与所述第二间隙在所述基板上的第二投影相交；所述第一触控电极以及所述第二触控电极之间的电感线穿过所述第一间隙，形成互容式触控功能单元。
在一种实施例中，所述第一间隙在所述基板上的第一投影，与所述第二间隙在所述基板上的第二投影垂直。
如图5所示，在一种实施例中，本发明利用阴极层S51形成第一触控电极51(为Tx或者Rx其中一种走线)，同行/列的电极51通过过孔与走线配合的方式相连，第一触控电极51之间形成第一间隙52，另一触控功能层S52形成第二触控电极53(Rx或Tx电极)，第二触控电极53之间形成第二间隙54，第二间隙54与第一间隙52垂直。触控功能层S52设置在阴极层S51朝向背板的方向上，触控功能层S52与阴极层S51直接设置有绝缘层S53，在显示和触控阶段，通过分时复用的方式实现显示与触控。
在一种实施例中，相邻的第一触控电极51直接通过走线连接。
在一种实施例中，触控功能层S52设置在阴极层S51远离背板的方向上，触控功能层S52与阴极层S51直接设置有绝缘层。
为了实现低温工艺形成阴极层，避免损坏发光材料层，本发明也提供了多种实现方式。
现有支持挡墙PS柱是截面为正梯形高度为1.5um的高圆柱状支撑柱，起到了的支撑蒸镀用掩模板Masks的作用，然后会在上面覆盖有一整面的阴极层。本发明将PS柱的高度相对提高，这样按照原有工艺沉积的Cathode材料，将不再能完整覆盖整个膜层，露出由于较高PS柱使得cathode分隔开形成间隙，使得Cathode图案化方案得以实现。
在一种实施例中，如图6所示，显示面板包括像素定义层S61，所述像素定义层S61之上设置有支撑挡墙62，所述支撑挡墙62的高度大于所述阴极层S62的厚度，将所述阴极层S62分割以形成所述第一间隙。
在一种实施例中，如图6中(1)所示，所述支撑挡墙62的截面为三角形。
在一种实施例中，支撑挡墙62的截面为等腰三角形。
本实施例将PS柱制作成高度较高，截面为等腰三角形的形状，分隔开Cathode材料，实现Cathode的图案化。
在一种实施例中，如图6中(2)所示，所述支撑挡墙62的截面为梯形。
在一种实施例中，所述支撑挡墙62的截面为等腰梯形。
本实施例将PS柱做成高度较高，截面为等腰正梯形的圆柱状支撑柱，由于高度较高，在Cathode沉积工艺不变的情况下，能分隔开Cathode材料，实现Cathode的图案化。
在一种实施例中，如图6中(3)所示，所述支撑挡墙62的截面为倒梯形。
在一种实施例中，所述支撑挡墙62的截面为倒等腰梯形。
本实施例将PS柱做成高度较高，截面为倒等腰梯形的圆柱状支撑柱，由于其高度较高，上宽下窄的形状，使得其更能分隔开Cathode材料，实现Cathode的图案化的效果最好，相邻同类Sensor pads间(不同行或列的Tx/Rx)以及相邻不同类Sensor pads之间(如相邻Tx和Rx之间)被PS柱隔开，实现Cathode图案化。
现有制作Cathode层的方法是利用Common Metal Mask(CMM)，在发光材料EL层上方沉积制作整面的Cathode，而OLED器件的RGB像素材料则是利用Fine Metal Mask(FMM)制作。因此在图案化Cathode时，本发明直接利用FMM实现其图案化，可以确保其精度满足显示区高PPI设计。
在一种实施例中，如图7所示，所述阴极层包括交错设置的第一区域S71以及第二区域S72，所述第一区域与第二区域之间形成所述第一间隙73，所述第一区域内的阴极层与第二区域的阴极层通过多道工艺形成。
如图7中(1)所示，首先使用第一层FMM，选择性沉积形成第一区域S71，作为驱动电极Tx电极74，并使其连接Tx行/列连线75；
如图7中(2)所示，然后使用第二层FMM，选择性沉积形成第二区域S72，作为Rx电极76，使其与Tx和Tx line隔离；
最后沉积一层TFE封装整个Cathode层；
整个过程无需photo和Etch参与，可以避免photo和Etch损伤下方的OLED发光器件。
在一种实施例中，所述触控功能层与所述阴极层为同一层，所述第一区域内的阴极层形成第一触控电极，所述第二区域的阴极层形成第二触控电极。
在一种实施例中，所述第一触控电极为驱动电极，所述第二触控电极为感应电极；或者，所述第一触控电极为感应电极，所述第二触控电极为驱动电极。
在一种实施例中，本发明采用低温材料和制程，使用光阻和低温PR胶，使用传统过程刻蚀，在过程中增加钝化层和保护层，避免刻蚀过刻，伤害OLED发光器件，从而实现Cathode图案化。在本实施例中，所述显示面板包括依次设置于所述阴极层之上的钝化层和保护层，所述第一间隙为对所述钝化层、保护层以及阴极层在一道工艺中蚀刻形成的。
在一种实施例中，本发明沉积整面Cathode之前，涂布图案化的剥离胶，沉积Cathode后，撕去剥离胶，实现Cathode的图案化。在本实施例中，所述第一间隙为设置于所述阴极层之下的剥离层，剥离形成的。
同时，在一种实施例中，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括显示面板，其显示面板包括：
基板；
阴极层，通过低温工艺形成，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙；
触控功能层，至少一个触控功能层未设置于所述阴极层远离所述基板一侧，所述触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙；
其中，所述第二间隙与所述第一间隙满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述显示面板包括像素定义层，所述像素定义层之上设置有支撑挡墙，所述支撑挡墙的高度大于所述阴极层的厚度，将所述阴极层分割以形成所述第一间隙。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述支撑挡墙的截面为三角形。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述支撑挡墙的截面为梯形。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述支撑挡墙的截面为倒梯形。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述阴极层包括第一区域以及第二区域，所述第一区域与第二区域之间形成所述第一间隙，所述第一区域内的阴极层与第二区域的阴极层通过多道工艺形成。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述触控功能层与所述阴极层为同一层，所述第一区域内的阴极层形成第一触控电极，所述第二区域的阴极层形成第二触控电极。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述第一触控电极为驱动电极，所述第二触控电极为感应电极；或者，所述第一触控电极为感应电极，所述第二触控电极为驱动电极。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述显示面板包括依次设置于所述阴极层之上的钝化层和保护层，所述第一间隙为对所述钝化层、保护层以及阴极层在一道工艺中蚀刻形成的。
在一种实施例中，在本发明的显示装置中，所述第一间隙为设置于所述阴极层之下的剥离层，剥离形成的。
根据上述实施例可知：
本发明提供一种新的显示面板，其包括：基板，通过低温工艺形成的阴极层，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙，触控功能层，至少一个触控功能层未设置于所述阴极层远离所述基板一侧，所述触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙，其中，所述第二间隙与所述第一间隙满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元；在此结构中，基于阴极层上形成的第一间隙，手指接触屏幕后，所产生的电场线没有被Cathode层所屏蔽，可以穿透到Cathode之下的结构，这样触控功能层可以全部或者部分不设置在OLED最上层的阴极层远离背板的方向上，解决了现有显示面板存在触控结构只能采用On Cell方式实现的技术问题，同时，阴极层通过低温工艺形成，避免了对发光材料的损坏。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
基板；
阴极层，通过低温工艺形成，设置于所述基板上方，所述阴极层上形成有第一间隙；
触控功能层，至少一个触控功能层未设置于所述阴极层远离所述基板一侧，所述触控功能层形成有触控构件，位于同一触控功能层的相邻触控构件形成有第二间隙；
其中，所述第二间隙与所述第一间隙满足预设条件，所述预设条件使得所述触控构件形成触控功能单元。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括像素定义层，所述像素定义层之上设置有支撑挡墙，所述支撑挡墙的高度大于所述阴极层的厚度，将所述阴极层分割以形成所述第一间隙。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述支撑挡墙的截面为三角形。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述支撑挡墙的截面为梯形。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述支撑挡墙的截面为倒梯形。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阴极层包括第一区域以及第二区域，所述第一区域与第二区域之间形成所述第一间隙，所述第一区域内的阴极层与第二区域的阴极层通过多道工艺形成。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述触控功能层与所述阴极层为同一层，所述第一区域内的阴极层形成第一触控电极，所述第二区域的阴极层形成第二触控电极。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一触控电极为驱动电极，所述第二触控电极为感应电极；或者，所述第一触控电极为感应电极，所述第二触控电极为驱动电极。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括依次设置于所述阴极层之上的钝化层和保护层，所述第一间隙为对所述钝化层、保护层以及阴极层在一道工艺中蚀刻形成的。
10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一间隙为设置于所述阴极层之下的剥离层，剥离形成的。
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