CN110034037A - 对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，包括：基板外壳，以晶圆形状构成；静电传感器组件，包括与上述基板外壳相互间隔一定距离安装的第1静电传感器部以及第2静电传感器部；电源供应部，用于向上述静电传感器组件供应电源；以及，控制部，以从上述第1静电传感器部获取到的第1电容值为基础获取第1静电传感器部与腔室内部喷头之间的第1距离信息，以从上述第2静电传感器部获取到的第2电容值为基础获取第2静电传感器部与腔室内部喷头之间的第2距离信息，并以上述第1距离信息以及上述第2距离信息为基础生成间隙信息。

Description

对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器

技术领域

本发明涉及一种对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器。

背景技术

通常，半导体制造工程包括晶圆制造及光掩膜工程、前工程以及后工程。其中，晶圆制造工程需要在晶圆腔室的内部对晶圆执行如蚀刻(Etching)、薄膜、蒸镀等具体工程。

因为半导体具有精密的回路，因此在各个制造工程中即使是发生非常细微的误差也会造成产品的不良并因此进一步导致生产性的下降。尤其是，因为在晶圆室内部执行的工程是在高温高压条件下对晶圆进行加工的工程，因此当晶圆的安置姿势不稳定时，可能会导致制造工程方面的直接问题。因此，必须执行对晶圆在晶圆腔室内部的安置姿势相关的平坦度以及倾斜度等进行检测以及校正的检查步骤。

为了解决如上所述的现有问题，目前采用通过光学检查装置对位于腔室内部的晶圆的影像信息进行检测并对其安置姿势进行评估的方式。但是，如上所述的以影像信息为基础的姿势检查方式因为受到影像像素的限制而难以对细微的位移进行测定。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够更加准确地对晶圆腔室内部的平坦度以及倾斜度相关的细微的位移进行测定的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器。

为了实现如上所述的课题，适用本发明之一实施例的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，能够包括：基板外壳，以晶圆形状构成；静电传感器组件，包括与上述基板外壳相互间隔一定距离安装的第1静电传感器部以及第2静电传感器部；电源供应部，用于向上述静电传感器组件供应电源；以及，控制部，以从上述第1静电传感器部获取到的第1电容值为基础获取第1静电传感器部与腔室内部喷头之间的第1距离信息，以从上述第2静电传感器部获取到的第2电容值为基础获取第2静电传感器部与腔室内部喷头之间的第2距离信息，并以上述第1距离信息以及上述第2距离信息为基础生成间隙信息。

其中，上述静电传感器组件，能够包括与上述第1静电传感器部以及上述第2静电传感器部间隔一定距离安装的第3静电传感器部，上述第1静电传感器部至第3静电传感器部，能够以上述基板外壳的中心点为中心以构成正三角形的形态进行配置。

其中，上述第1静电传感器部至第3静电传感器部，能够采用相同的形态，上述第1静电传感器部，能够采用同心圆形状。

其中，上述第1静电传感器部，能够包括：主电场用电极，向上述喷头生成主电场；以及，保护电场用电极，生成用于防止在上述主电场上生成干扰电场的保护电场。

其中，上述主电场用电极，能够包括：测定电极，在中心部以圆形进行配置；以及，对向电极，与上述测定电极间隔一定距离并以同心圆形状安装。

其中，上述保护电场用电极，能过包括：第1保护电极，在上述测定电极以及上述对向电极之间以同心圆形状安装，生成用于防止在上述测定电极上生成的电场被直接传递到上述对向电极中的第1保护电场；以及，第2保护电极，以围绕上述对向电极的周围的同心圆形状安装，生成用于防止在上述第1静电传感器部外部生成的电场被传递到上述对向电极中的第2保护电场。

其中，上述主电场用电极以及上述保护电场用电极，能够输出相同的方波频率。

其中，上述基板外壳，能够在其内部空间形成对用于引入上述腔室内部的空气即外部气体的入口以及上述入口相反一侧的出口进行贯通的外部气体移动路径，还能够包括：发光部，配备于上述内部空间，用于向通过上述外部气体移动路径的上述外部气体照射检查光线；以及，受光部，安装在形成于上述内部空间的上述外部气体移动路径上的受光槽中，对因为上述外部气体中所包含的微粒而在上述检查光线上发生散射的散射光线进行接收并生成与其相关的光量信息；上述控制部，能够以上述光量信息为基础生成上述外部气体中所包含的微粒相关的信息即微粒信息。

其中，上述基板外壳，能够配备与上述外部气体移动路径在水平面上的一个位置形成交叉点的直线路径即发光路径，上述静电传感器组件，还能够包括第3静电传感器部以及第4静电传感器部，上述第1静电传感器部至上述第4静电传感器部，能够按照以上述基板外壳的中心点为中心形成正方形形状的方式分别配置在由上述外部气体移动路径和上述发光路径划分出的4个区域上，上述控制部，能够利用以上述第1静电传感器部至上述第4静电传感器部分别获取到的电容值为基础的距离信息生成上述间隙信息。

通过如上所述构成的适用本发明的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，能够利用分别配置在不同位置上的多个静电传感器部更加准确地对腔室内部的间隙信息进行测定。

此外，还能够利用配备有保护电极的静电传感器部将所发生的干扰最小化并对测定值的可靠性进行提升。

此外，还能够通过利用发光信息输出测定结果而对管理人员的使用便利性进行提升。

此外，还能够通过在获取间隙信息的同时获取包括微粒信息在内的综合信息而对传感器的功能性进行扩展。

附图说明

图1是用于对适用本发明之一实施例的间隙检测传感器100的工作方法进行简要说明的概念图。

图2是用于对适用本发明之一实施例的间隙检测传感器100的整体构成进行说明的斜视图。

图3是用于对适用本发明之一实施例的静电传感器组件130的工作方法进行说明的概念图。

图4是用于对适用本发明之一实施例的发光显示部210进行说明的斜视图。

图5是用于对适用本发明之一实施例的本发明的电气构成进行说明的块图。

图6是用于对适用本发明之另一实施例的利用间隙检测传感器的间隙测定方法进行说明的流程图。

图7是用于对适用本发明之又一实施例的具有微粒检测功能的间隙检测传感器400进行说明的斜视图。

标号说明

100：间隙检测传感器

230：环境传感器部

110：基板外壳

250：控制部

130：静电传感器组件

C：晶圆腔室

150：电源供应部

E：晶圆支撑部

170：通信部

F：喷头

190：内存部

M：主电场

210：发光显示部

S：保护电场

具体实施方式

接下来，将结合附图对适用本发明之较佳实施例的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器进行详细的说明。在本说明书中，即使是属于不同的实施例，也将为相同或类似的构成分配相同或类似的参考符号，且相关的说明将利用最初的说明进行替代。图1是用于对适用本发明之一实施例的间隙检测传感器100的工作方法进行简要说明的概念图。

如图所示，晶圆腔室C是用于将晶圆收容到密闭的内部空间并对其进行加工的手段。在晶圆腔室C的内部空间，能够安装用于收容晶圆并对其进行安置的晶圆支撑部E。晶圆支撑部E能够具有用于对晶圆进行安置的平面部。在将晶圆安置到相应的平面部中的状态下，能够对其进行各种类型的加工。

此时，如果晶圆支撑部E因为弯曲或倾斜而没有处于水平状态，则安装在其上方的晶圆也将处于不水平的安置姿势，这会造成所适用的工程中的工程结果不均匀的现象并进一步导致产品的不良。

为此，在本发明中为了解决如上所述的问题，将采用以晶圆形状形成且能够以静电容量方式对间隙(Gapping)信息进行检测的的间隙检测传感器100。借此，能够通过将间隙检测传感器100以与晶圆相同的姿势安置到晶圆支撑部E上，借助于静电容量方式以传感器与腔室内部顶面的喷头F之间的距离信息为基础生成腔室的平坦度、倾斜度以及弯曲相关的间隙信息。

作为间隙测定方式，在间隙检测传感器中，包含于静电传感器组件130的第1静电传感器部131以及第2静电传感器部133被分别配置在不同的位置，在各个位置上接收由电源供应部供应的电源并分别向喷头F生成电场，然后对因此而生成的第1电容值以及第2电容值进行检测。接下来能够以通过如上所述的方式检测到的第1电容值以及第2电容值为基础计算出第1距离信息以及第2距离信息，且能够参考所计算出的第1距离信息以及第2距离信息生成与腔室内部的平坦度、倾斜度以及弯曲相关的间隙信息。通过如上所述的方式在间隙检测传感器100上生成的间隙信息，能够被传送到对晶圆腔室工程进行整体控制的晶圆腔室工程系统或位于外部的管理者的外部终端中。

通过如上所述的间隙检测传感器100，不仅能够借助于静电容量方式的测定方法对细微的位移进行测定，还能够通过计算出从与晶圆类似的基板形状传感器的多个位置到喷头F之间的距离而进一步提升测定的准确性。

在上述内容中，对间隙检测传感器100的工作方法进行了简要描述。接下来将结合图2至图5，对间隙检测传感器100的构成以及具体工作方法进行详细的说明。

图2是用于对适用本发明之一实施例的间隙检测传感器100的整体构成进行说明的斜视图，图3是用于对适用本发明之一实施例的静电传感器组件130的工作方法进行说明的概念图，图4是用于对适用本发明之一实施例的发光显示部210进行说明的斜视图，图5是用于对适用本发明之一实施例的本发明的电气构成进行说明的块图。

如图所示，间隙检测传感器100，能够包括：基板外壳110、静电传感器组件130、电源供应部150、通信部170、内存部190、发光显示部210、环境传感器部230以及控制部250。

基板外壳110能够采用与晶圆相同的极板形状构成，可供后续说明的静电传感器组件130结合。基板外壳110能够以平板形态形成，在被配置到晶圆支撑部(图1中的E，以下省略)上时能够根据晶圆支撑部的接触面的状态决定其水平度。虽然在本实施例中没有具体进行图示，但是能够为了提升基板外壳100的耐久性而在其表面利用保护成分进行涂布。

静电传感器组件130能够以水平于基板外壳110的状态结合，且能够利用向晶圆腔室(图1中的C，以下省略)内部空间的喷头(图1中的F，以下省略)形成电场的静电容量方式对电容值进行测定。为此，静电传感器组件130，能够包括分别配置在不同位置上的多个静电传感器部131、133、135。在本实施例中，能够包括以基板外壳110的中心点C为中心按照正三角形形状配置的第1静电传感器部131、第2静电传感器部133以及第3静电传感器部135。但是，静电传感器部的适用数量以及配置结构能够根据试验以及工程条件进行变更。此外，在本实施例中，是以静电传感器组件130的一侧面裸露在基板外壳110的上部面的状态结合，但是并不限定于此，也能够以全部裸露在基板外壳110上的状态结合。

本实施例中所适用的间隙检测传感器100按照如下所述的工作方式工作。虽然在本实施例中没有进行图示，但是间隙检测传感器100能够由电极板构成，且能够包括配备于内部的高频振荡器、信号级别检测器、输出开关元件等。借此，能够根据所加载的电压由高频振荡器向电极板加载高频电压。电极板能够借助于高频电压输出方波频率并形成电场，从而具有与其对应的电容值。此时，如果在电场范围内有对象物质存在，则相应的对象物质将会导致振荡器的振荡频率发生变化且电容值也将随之发生变化。与其相关的公式如下所述。

(C：电容，A：检测面面积/：电解质，d：距离)

考虑到测定空间为晶圆腔室的内部空间且作为检测面的腔室内部顶面即喷头的面积固定，电容值C的结果将与距离d成反比例关系。换言之，当间隙检测传感器100与喷头之间的距离较近时会导致电容值的增加，而在距离较远时会导致电容值的减小。

通过如上所述的间隙测定方式，能够通过将分别配置在不同位置上的各个静电传感器部131、133、135所检测到的电容值与保存在内存部中的基准值进行比较而生成与喷头之间的距离信息并借此进一步计算出间隙信息。

如上所述的静电传感器组件130的详细构成如图3所示，能够包括主电场用电极131a、131b以及保护电场用电极131c、131d。

主电场用电极131a、131b，能够是为了对电容值进行测定而根据电源供应向喷头生成主电场的手段。为此，主电场用电极131a、131b，能够包括：测定电极131a，在中心部以圆形进行配置；以及，对向电极131b，与测定电极131a间隔一定距离并以同心圆形状安装。借此，测定电极131a以及对向电极131b能够被设定为相互相反的极性(阳极、阴极)，从而能够生成从高电位的阳极向低电位的阴极的电场。

保护电场用电极131c、131d，能够是生成用于防止在主电场上生成干扰电场的保护电场S的手段。为此，保护电场用电极131c、131d，能够包括：第1保护电极131c；以及，第2保护电极131d。

第1保护电极131c，在测定电极131a以及对向电极131b之间以同心圆形状安装，用于防止在测定电极131a上生成的电场被直接传递到对向电极131b中。为此，第1保护电极131c能够以与测定电极131a相反极性的电极构成，从而能够在与测定电极131a之间生成第1保护电场S1。借此，通过在主电场M之间生成第1保护电场S1，能够防止没有从测定电极131a朝向喷头F的主电场M中的一部分被直接传递到对向电极131b中，从而提升喷头F的电容值的准确性。

第2保护电极131d，能够是用于防止在其他静电传感器部中产生的电场被传递到主电场M中的手段。为此，第2保护电极131d，能够以围绕对向电极131b的周围的同心圆形状安装，并以对向电极131b之外的其他极性的电极形成，从而生成第2保护电场S2。

通过如上所述的保护电场用电极131c、131d，能够在测定电极131a与对向电极131b之间生成第1保护电场S1，并在对向电极131b与外部空间之间生成第2保护电场S2。借此，能够防止因为主电场M自身而导致的干扰发生(从测定电极131a向对向电极131b的直接电场移动)以及因为外部静电传感器部而导致的干扰发生(第2静电传感器部133以及第3静电传感器部135的主电场传递)。

如上所述的主电场用电极131a、131b以及保护电场用电极131c、131d的构成，也能够相同地适用于其他静电传感器部133、135。

通信部170，能够起到将各个静电传感器部131、133、135所检测出的信息或控制部250所生成的信息传送到晶圆工程系统或外部终端中的功能。

电源供应部150，是用于向电气构成选择性地供应电源的手段，虽然在本实施例中没有具体进行图示，但是能够被安装在基板外壳110的一侧。电源供应部150，能够适用如锂(Lithium)电池等电池方式，也能够适用与晶圆腔室C连接的有线形式。

内存部190，能够是用于对各个传感器所测定出的测定值、预先设定的基准值、晶圆工程系统以及从外部终端传送过来的数据信息等进行保存的手段。

发光显示部210，能够是根据后续说明的控制部250所生成的间隙信息进行发光的手段，如图4所示，能够配备与各个静电传感器部131、133、135对应的数量，从而能够根据各个静电传感器部131、133、135的电容值进行发光。例如，当第1静电传感器部131的电容值超出基准值时，能够根据控制部250的控制进行发光。此时，发光显示部210，能够在静电传感器部131、133、135的动作或测定值正常的情况下以绿色或蓝色系列的颜色进行发光，还能够在动作以及测定值不正常的情况下以红色或黄色系列的颜色进行发光。此外，发光显示部210，还能够对其发光强度进行调节。不仅如此，发光显示部210，还能够根据在后续说明的环境传感器部230所检测到的环境信息选择性地进行发光。

环境传感器部230，能够是用于对晶圆腔室C内部空间的环境信息进行采集的手段，能够被安装在基板外壳110的一侧。如上所述的环境传感器部230，能够包括用于对温度信息进行采集的温度传感器部、用于对湿度信息进行采集的湿度传感器部以及用于对起亚信息进行采集的气压传感器部等。通过如上所述环境传感器部230采集到的传感信息能够被传递到控制部250中，从而在控制部250生成间隙信息时作为参考信息进行使用。

控制部250，能够是对如上所述的电气构成进行控制的手段，基本上能够在从静电传感器部131、133、135接收到电容值的情况下，以上述电容值为基础获取各个传感器部131、133、135与喷头F之间的距离相关的各个距离信息，然后通过在各个距离信息之间进行比较或将其与基准值进行比较的方法而生成间隙信息。

在间隙信息中，能够包括与腔室的平坦程度相关的平坦度信息以及与倾斜程度相关的倾斜度信息等。控制部250，能够将通过如上所述的方式生成的间隙信息传送到晶圆工程系统或外部终端中，从而能够通过晶圆工程系统对工程进行控制或使管理人员对腔室的状态进行认知。

其中，电源供应部150、通信部170、内存部190以及控制部250能够被集成到单一的PCB基板上并被配置到基板外壳110中。

在上述内容中，对间隙检测传感器100的构成进行了描述。接下来，将结合图6对如上所述的间隙检测传感器100的驱动方法按照步骤顺序进行详细的说明。图6中所记载的术语是用于以图1至图5中所记载的内容为基础对其动作进行说明，对相同术语的附图编号将被省略。

图6是用于对适用本发明之另一实施例的利用间隙检测传感器的位移测定方法进行说明的流程图。

首先，能够利用拾取-贴装设备(Pick And Place)将间隙检测传感器移动到晶圆腔室的内部空间。被移动的间隙检测传感器能够被安置在位于腔室内部的晶圆支撑部中。间隙检测传感器的基板外壳采用与晶圆类似的基板形状形成，能够通过与晶圆相同的方式被安置在晶圆支撑部上。

在完成如上所述的将间隙检测传感器安置到晶圆支撑部中的准备步骤之后，在步骤S11中，间隙检测传感器的控制部能够对是否接收到开始执行间隙测定相关的输入信息进行判断。开始执行间隙测定相关的输入信息，能够由晶圆工程系统或腔室外部的管理人员所使用的外部终端进行传送，并通过间隙检测传感器的通信部进行接收。或者，还能够根据在内存部中预先设定的时间信息而自动生成。

在步骤S13中，当接收到开始执行间隙测定的输入信息时，控制部能够通过对电源供应部进行控制而向静电传感器部加载电源。静电传感器部能够由配置在基板外壳的不同位置上的，具体来讲是采用三角架形配置结构的第1静电传感器部、第2静电传感器部以及第3静电传感器部构成。静电传感器部能够是在有电压加载时形成电场并对在相应电场下的电容值进行测定的静电容量间隙检测传感器，控制部能够按照向多个静电传感器部依次加载电压的方式进行控制。

例如，能够首先向第1静电传感器部加载电压，在如上所述的情况下能够断开向第2静电传感器部以及第3静电传感器部加载的电压。接下来，控制部能够在已完成对第1静电传感器部的电容值的测定之后断开向第1静电传感器部加载的电压，接下来再向第2静电传感器部以及第3静电传感器部中的某一个加载电压并对其电容值进行测定。这是一种能够将向多个静电传感器部同时加载电压时因为多个电场而导致的干扰发生将至最低的方案。

在通过加载电压而生成静电传感器部的电场时，能够通过测定电极以及对向电极生成主电场，并通过配置在两者之间的第1保护电极以及第2保护电极形成保护电场。保护电场能够对不通过对象物质即喷头而直接向临近电极接近的主电场进行阻隔，从而对干扰信号进行衰减。

在通过如上所述的方式完成对多个静电传感器部的电容值的测定之后，在步骤S15中，控制部能够对是否接收到相应的电容值进行判断，并在已接收到时以电容值为基础分别计算出从传感器部到喷头之间的距离信息。在步骤S17中，能够通过在按照如上所述的方式计算出的距离信息之间进行比较或将其分别与基准值进行比较而生成比较结果，并以上述比较结果为基础进一步生成与腔室的平坦度、倾斜度、弯曲相关的间隙信息。

在间隙信息中，能够包括与距离信息相关的数值信息以及图像信息中的至少某一种信息。此外，控制部不仅能够生成间隙信息，还能够利用环境传感器部生成环境信息。在环境信息中，能够包括晶圆腔室内部的温度、湿度、气压等信息。因此，控制部不仅能够只通过静电传感器部的电容值生成间隙信息，还能够通过在此基础上进一步适用环境信息而生成适用环境信息的间隙信息。

不仅如此，控制部还能够通过在从静电传感器部接收到的电容值的基础上适用环境信息而生成补正电容值。

在通过如上所述的方式生成间隙信息之后，在步骤S19中，控制部能够通过对通信部进行控制而将间隙信息传送到晶圆工程系统或外部终端中。晶圆工程系统能够是对晶圆固定设施进行综合管理和控制的系统，而外部终端能够是对晶圆腔室进行管理的管理人员的终端，所接收到的间隙信息能够以数值信息以及图像信息中的至少一种形式进行输出。借此，管理人员能够轻易地对当前腔室的平坦度、倾斜度、弯曲等状态进行确认，还能够根据相应的信息自动地对晶圆工程进行控制。此时，因为在间隙信息中还能够包括环境信息，因此还能够将晶圆腔室内部的环境状态传送到晶圆工程系统或外部终端中并以此为基础对腔室工程进行控制。

此外，控制部能够根据间隙信息对发光显示部的发光动作进行控制。发光显示部能够是安装在基板外壳上并照射光线的手段，能够根据间隙信息通过控制部对其发光颜色、发光强度、闪烁速度等进行控制。如上所述的发光显示部以与多个静电传感器部对应的方式进行配置，能够使发生异常的静电传感器部或正常工作的静电传感器部对应地发光。

进而，控制部还能够根据环境信息对发光显示部的发光进行控制。通过如上所述的方式，能够借助于发光显示部的发光动作使得位于腔室外部的使用者方便地对腔室的状态进行视觉认知。

通过如上所述的利用间隙检测传感器的位移测定方法，能够将干扰信号将至最低并通过反应周边环境状态而计算出更为准确的晶圆腔室的间隙信息。

图7是用于对适用本发明之又一实施例的具有微粒检测功能的间隙检测传感器进行说明的斜视图。

如图所示，适用本实施例的间隙检测传感器400，能够具有对腔室内部的污染物质即如灰尘等微粒(P：Particle)进行检测的功能。为此，间隙检测传感器400需要在基板外壳410等中采用不同的结构。

基板外壳410，能够在其内部空间形成对用于引入腔室内部的空气即外部气体A的入口411以及入口411相反一侧的出口413进行贯通的外部气体移动路径R1。此外，基板外壳410，能够配备与外部气体移动路径R1在水平面上的一个位置形成交叉点的直线移动路径即发光路径R2-1、R2-2。借此，基板外壳410能够通过外部气体移动路径R1以及发光路径R2划分成4个区域。在本实施例中，外部气体移动路径R1以及发光路径R2-1、R2-2能够相互交叉配置。此外，发光路径R2-1、R2-2能够具有被外部气体移动路径R1划分的第1发光路径R2-1以及第2发光路径R2-2。

为了能够在通过如上所述的方式划分成4个区域的基板外壳的各个区域分别配置静电传感器部431、433、435、437，静电传感器部能够包括具有相同结构的第1静电传感器部431、第2静电传感器部433、第3静电传感器部435以及第4静电传感器部437。

借此，控制部(图5中的250，以下省略)，能够以分别配置在不同区域中的4个静电传感器部431、433、435、437所检测到的电容值为基础计算出各个距离信息，然后利用对相应的距离信息进行相互比较或将其与基准值进行比较的方法生成间隙信息，并将其传送到晶圆工程系统或外部终端中。

在上述基础上，在间隙检测传感器400中作为用于对微粒进行检测的构成要素，还能够包括：送风部440、发光部450、镜头部460、受光部470、光吸收部480以及过滤部490。

送风部440，能够是用于使存在于腔室内部的外部气体A流入到基板外壳410的内部空间即外部气体移动路径R1中的手段。为此，送风部450能够被安装在入口411处。

发光部450，能够被安装在第1发光路径R2-1的一端并向外部气体移动路径R1与发光路径R2的交叉点照射检查光线L1。

镜头部460，能够是用于对由发光部450所照射的检查光线L1进行集光的手段，能够被安装在第1发光路径R2-1上。此时，镜头部460，能够包括用于对检查光线L1进行准直(Collimating)的第1镜头部461和第2镜头部462，以及用于对经过准直的检查光线L1进行集光的第3镜头部465。

受光部470，能够被配置于在外部气体移动路径R1与发光路径R2-1、R2-2的交叉点上凹陷形成的受光槽415中，能够通过对检查光线L1与包含在外部气体A中的微粒P碰撞而发生散射的散射光线进行受光而生成与其相关的光量信息。

光吸收部480，能够被安装在第2发光路径R2-2上并对流入到第2发光路径R2-2中的检查光线L1进行吸收。因此，受光部470能够只对散射光线进行受光。

过滤部490，能够被安装在外部移动路径R1的出口413处并对包含在外部气体A中的微粒P进行过滤。

控制部，能够以散射光线的光量信息为基础生成包含在外部气体A中的微粒P相关的信息即微粒信息并将其传送到晶圆工程系统或外部终端中。

如上所述，间隙检测传感器400通过配备用于对腔室内部的外部气体A中所包含的微粒信息进行检测的构成，能够在生成间隙信息的同时还生成微粒信息并向管理人员进行通知。

Claims (9)

1.一种对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于，包括：

基板外壳，以晶圆形状构成；

静电传感器组件，包括与上述基板外壳相互间隔一定距离安装的第1静电传感器部以及第2静电传感器部；

电源供应部，用于向上述静电传感器组件供应电源；以及，

控制部，以从上述第1静电传感器部获取到的第1电容值为基础获取第1静电传感器部与腔室内部喷头之间的第1距离信息，以从上述第2静电传感器部获取到的第2电容值为基础获取第2静电传感器部与腔室内部喷头之间的第2距离信息，并以上述第1距离信息以及上述第2距离信息为基础生成间隙信息。

2.根据权利要求1所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述静电传感器组件，

包括与上述第1静电传感器部以及上述第2静电传感器部间隔一定距离安装的第3静电传感器部，

上述第1静电传感器部至第3静电传感器部，

以上述基板外壳的中心点为中心以构成正三角形的形态进行配置。

3.根据权利要求2所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述第1静电传感器部至第3静电传感器部，采用相同的形态，

上述第1静电传感器部，

采用同心圆形状。

4.根据权利要求3所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述第1静电传感器部，包括：

主电场用电极，向上述喷头生成主电场；以及，

保护电场用电极，生成用于防止在上述主电场上生成干扰电场的保护电场。

5.根据权利要求4所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述主电场用电极，包括：

测定电极，在中心部以圆形进行配置；以及，

对向电极，与上述测定电极间隔一定距离并以同心圆形状安装。

6.根据权利要求5所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述保护电场用电极，包括：

第1保护电极，在上述测定电极以及上述对向电极之间以同心圆形状安装，生成用于防止在上述测定电极上生成的电场被直接传递到上述对向电极中的第1保护电场；以及，

第2保护电极，以围绕上述对向电极的周围的同心圆形状安装，生成用于防止在上述第1静电传感器部外部生成的电场被传递到上述对向电极中的第2保护电场。

7.根据权利要求4所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述主电场用电极以及上述保护电场用电极，

输出相同的方波频率。

8.根据权利要求1所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述基板外壳，在其内部空间形成对用于引入上述腔室内部的空气即外部气体的入口以及上述入口相反一侧的出口进行贯通的外部气体移动路径，

还包括：

发光部，配备于上述内部空间，用于向通过上述外部气体移动路径的上述外部气体照射检查光线；以及，

受光部，安装在形成于上述内部空间的上述外部气体移动路径上的受光槽中，对因为上述外部气体中所包含的微粒而在上述检查光线上发生散射的散射光线进行接收并生成与其相关的光量信息；

上述控制部，

以上述光量信息为基础生成上述外部气体中所包含的微粒相关的信息即微粒信息。

9.根据权利要求8所述的对晶圆腔室的间隙进行检测的晶圆式间隙检测传感器，其特征在于：

上述基板外壳，配备与上述外部气体移动路径在水平面上的一个位置形成交叉点的直线路径即发光路径，

上述静电传感器组件，

还包括第3静电传感器部以及第4静电传感器部，

上述第1静电传感器部至上述第4静电传感器部，

按照以上述基板外壳的中心点为中心形成正方形形状的方式分别配置在由上述外部气体移动路径和上述发光路径划分出的4个区域上，

上述控制部，

利用以上述第1静电传感器部至上述第4静电传感器部分别获取到的电容值为基础的距离信息生成上述间隙信息。