CN110016576A - 锡铜合金靶生产工艺 - Google Patents

锡铜合金靶生产工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN110016576A
CN110016576A CN201910294918.4A CN201910294918A CN110016576A CN 110016576 A CN110016576 A CN 110016576A CN 201910294918 A CN201910294918 A CN 201910294918A CN 110016576 A CN110016576 A CN 110016576A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
gun
power
metal
production technology
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910294918.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110016576B (zh
Inventor
许宏智
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongguan Oulai Sputtering Target Co Ltd
Original Assignee
Dongguan Oulai Sputtering Target Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongguan Oulai Sputtering Target Co Ltd filed Critical Dongguan Oulai Sputtering Target Co Ltd
Priority to CN201910294918.4A priority Critical patent/CN110016576B/zh
Publication of CN110016576A publication Critical patent/CN110016576A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110016576B publication Critical patent/CN110016576B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/02Making non-ferrous alloys by melting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/06Making non-ferrous alloys with the use of special agents for refining or deoxidising
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Abstract

本发明涉及靶材生产工艺领域,特别是涉及一种锡铜合金靶生产工艺,包括以下步骤,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料,复磅,装炉,开炉,功率开至15~25KW加温预热,加温30分钟后,增加功率35~45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率50~60KW,直至锡锭熔化,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化,继续搅拌使熔融液体均匀,将加热炉功率调到10~25KW,加入除气剂,并将浮渣捞出,将加热炉功率调到10~20KW,搅拌使熔融液体均匀,并调温,浇铸,保温、静置、排渣,冷却,随后出炉去模具,对靶管机加工,对成品进行C‑scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率≤5×10E‑10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金靶。本发明提供一种稳定性好、纯度高的锡铜合金靶生产工艺。

Description

锡铜合金靶生产工艺
技术领域
本发明涉及靶材生产工艺领域,特别是涉及一种锡铜合金靶生产工艺。
背景技术
磁控溅射镀膜,与传统的化学镀、电镀、蒸发镀膜相比,有着显著的薄膜品质上的优势,电磁场的精确控制,极大的提高了镀膜过程的精确控制和薄膜的成膜质量。薄膜技术随着磁控溅射技术的广泛应用蓬勃发展,从low-E玻璃,手机外壳,到太阳能电池,显示面板和芯片,磁控溅射镀膜在功能镀层、装饰镀层和集成电路等方方面面都发挥着不可替代的作用。靶材作为磁控溅射的源材料,在品种和数量上都快速的增长,根据客户的使用需求,不断有新的靶材被研发出来,靶材的需求量,也逐年翻倍增长。根据客户的使用和制程需求,薄膜需要满足电阻率、腐蚀系、颜色光泽、透光波段透光率等许多方面的性能要求,相应的需求的靶材涉及的元素和组元比例也各不相同,根据特殊的材料成分和技术要求,靶材的生产考察诸多工艺方式的优缺点,来确定最佳的工艺方法。
金属浇铸是是现代装置制造工业的基础工艺之一,是将金属熔炼成符合一定要求的液体并浇进模具里,经冷却凝固处理后得到有预定形状、尺寸和性能的铸件的工艺过程。金属浇铸是将通过熔炼的金属液体浇入浇铸模具内,经冷却凝固获得所需形状的零件的制作过程。制造成本低、工艺灵活性大而且可以获得形状复杂的铸件和大型的铸件,因此在机械零件的制造中被广泛应用。
在合金靶浇铸成型过程中,需要将锡铜加热混合后进行浇铸,传统浇铸不足在于,熔融金属温度高,容易在混料过程中容易出现安全问题,人工操作风险大,难度大,操作精度难控制,品质难保证,产品批次稳定性差,其中操作精度问题,严重影响产品品质和成品率。浇注位置、浇注速度影响熔融金属的流动轨迹对合金均匀性、温度分布和冷却收缩过程都有很大的影响。需要对此进行精确计算,来优化工艺控制过程稳定性。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供一种稳定性好、纯度高的锡铜合金靶生产工艺。
本发明采用如下技术方案:
锡铜合金靶生产工艺,包括以下步骤,
S1,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料;
S2,复磅:按实际物料复磅,并做记录;
S3,装炉:检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内;
S4,开炉:将加热炉的功率开至15~25KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至35~45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至50~60KW,直至锡锭全部熔化;
S5,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化;
S6,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到10~25KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出;
S7,将加热炉功率调到10~20KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温;
S8,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸;
S9,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却,随后出炉去模具;
S10,根据靶材图纸,对靶管进行机加工;
S11,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率≤5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶。
对上述技术方案的进一步改进为,在步骤S8中,所述浇铸温度为250~350℃。
对上述技术方案的进一步改进为,在步骤S9中,所述冷却方法为水冷冷却或风冷冷却中的一种,并冷却至室温。
对上述技术方案的进一步改进为,在步骤S6中,所述除气剂为脱水氯化锌、氯化锰、氯化铁、四氯化碳中的一种。
对上述技术方案的进一步改进为,所述铜采用边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状金属铜。
本发明的有益效果:
1、本发明包括以下步骤,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料,按实际物料复磅,并做记录,检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内,将加热炉的功率开至15~25KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至35~45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至50~60KW,直至锡锭全部熔化,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到10~25KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出,将加热炉功率调到10~20KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却,随后出炉去模具,根据靶材图纸,对靶管进行机加工,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率≤5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶,锡铜合金的导电率和热导率性能优异,并经过以上步骤生产,锡铜靶材组织细密均匀,有效提高了纯度,镀膜性能稳定,实用性强。
2、在步骤S8中,浇铸温度为250~350℃,在此温度区间内,有效确保锡铜合金的浇铸,保证锡铜靶材组织细密均匀,纯度高,实用性强。
3、在步骤S9中,冷却方法为水冷冷却或风冷冷却中的一种,并冷却至室温,有效提高冷却效率,保证锡铜靶材组织细密均匀,实用性强。
4、在步骤S6中,除气剂为脱水氯化锌、氯化锰、氯化铁、四氯化碳中的一种,进一步提高成品纯度,保证锡铜靶材组织细密均匀,实用性强。
5、铜采用边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状金属铜,铜与锡相比,铜含量低很多,为了确保铜分散均匀,铜的原材料采用,边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状,装炉前经过表面抛光,去除表面的杂质和吸附物。薄片状,与熔融液体的接触面较大,熔化和合金化界面大,有利于融液整体的均匀一致。铜的密度是8.96,不同状态的锡的密度是5.75-7.28,锡熔融后,加入铜薄片,薄片的以45°角倾斜加入,延长铜片的滑入和接触时间,更利于铜均匀分散。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
实施例一:
锡铜合金靶生产工艺,包括以下步骤,
S1,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料;
S2,复磅:按实际物料复磅,并做记录;
S3,装炉:检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内;
S4,开炉:将加热炉的功率开至15~25KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至35~45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至50~60KW,直至锡锭全部熔化;
S5,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化;
S6,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到10~25KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出;
S7,将加热炉功率调到10~20KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温;
S8,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸;
S9,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却,随后出炉去模具;
S10,根据靶材图纸,对靶管进行机加工;
S11,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率≤5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶。
在步骤S8中,浇铸温度为250~350℃,在此温度区间内,有效确保锡铜合金的浇铸,保证锡铜靶材组织细密均匀,纯度高,实用性强。
在步骤S9中,冷却方法为水冷冷却或风冷冷却中的一种,并冷却至室温,有效提高冷却效率,保证锡铜靶材组织细密均匀,实用性强。
在步骤S6中,除气剂为脱水氯化锌、氯化锰、氯化铁、四氯化碳中的一种,进一步提高成品纯度,保证锡铜靶材组织细密均匀,实用性强。
铜采用边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状金属铜,铜与锡相比,铜含量低很多,为了确保铜分散均匀,铜的原材料采用,边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状,装炉前经过表面抛光,去除表面的杂质和吸附物。薄片状,与熔融液体的接触面较大,熔化和合金化界面大,有利于融液整体的均匀一致。铜的密度是8.96,不同状态的锡的密度是5.75-7.28,锡熔融后,加入铜薄片,薄片的以45°角倾斜加入,延长铜片的滑入和接触时间,更利于铜均匀分散。
本发明包括以下步骤,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料,按实际物料复磅,并做记录,检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内,将加热炉的功率开至15KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至35KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至50KW,直至锡锭全部熔化,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到15KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出,将加热炉功率调到10KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸,浇铸温度为250℃,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却至室温,随后出炉去模具,根据靶材图纸,对靶管进行机加工,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率为5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶,锡铜合金的导电率和热导率性能优异,并经过以上步骤生产,锡铜靶材组织细密均匀,有效提高了纯度,镀膜性能稳定,实用性强。
实施例二:
锡铜合金靶生产工艺,包括以下步骤,
S1,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料;
S2,复磅:按实际物料复磅,并做记录;
S3,装炉:检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内;
S4,开炉:将加热炉的功率开至15~25KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至35~45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至50~60KW,直至锡锭全部熔化;
S5,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化;
S6,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到10~25KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出;
S7,将加热炉功率调到10~20KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温;
S8,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸;
S9,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却,随后出炉去模具;
S10,根据靶材图纸,对靶管进行机加工;
S11,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率≤5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶。
在步骤S8中,浇铸温度为250~350℃,在此温度区间内,有效确保锡铜合金的浇铸,保证锡铜靶材组织细密均匀,纯度高,实用性强。
在步骤S9中,冷却方法为水冷冷却或风冷冷却中的一种,并冷却至室温,有效提高冷却效率,保证锡铜靶材组织细密均匀,实用性强。
在步骤S6中,除气剂为脱水氯化锌、氯化锰、氯化铁、四氯化碳中的一种,进一步提高成品纯度,保证锡铜靶材组织细密均匀,实用性强。
铜采用边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状金属铜,铜与锡相比,铜含量低很多,为了确保铜分散均匀,铜的原材料采用,边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状,装炉前经过表面抛光,去除表面的杂质和吸附物。薄片状,与熔融液体的接触面较大,熔化和合金化界面大,有利于融液整体的均匀一致。铜的密度是8.96,不同状态的锡的密度是5.75-7.28,锡熔融后,加入铜薄片,薄片的以45°角倾斜加入,延长铜片的滑入和接触时间,更利于铜均匀分散。
本发明包括以下步骤,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料,按实际物料复磅,并做记录,检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内,将加热炉的功率开至25KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至60KW,直至锡锭全部熔化,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到25KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出,将加热炉功率调到20KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸,浇注温度为350℃,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却至室温,随后出炉去模具,根据靶材图纸,对靶管进行机加工,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率小于5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶,锡铜合金的导电率和热导率性能优异,并经过以上步骤生产,锡铜靶材组织细密均匀,有效提高了纯度,镀膜性能稳定,实用性强。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (5)

1.锡铜合金靶生产工艺,其特征在于:包括以下步骤,
S1,提供锡锭和铜,按需求计算比例配料;
S2,复磅:按实际物料复磅,并做记录;
S3,装炉:检查水电,清洗坩埚内壁,检查无杂物后装炉,将锡锭加进坩埚内;
S4,开炉:将加热炉的功率开至15~25KW加温预热,并做开炉记录,加温至30分钟后,增加功率至35~45KW,待坩埚底部开始有金属融化时,增加功率至50~60KW,直至锡锭全部熔化;
S5,往坩埚内加入铜,并搅拌至铜全部熔化;
S6,继续搅拌使合金熔融液体均匀,将加热炉功率调到10~25KW,加入除气剂,并将漂浮在熔融液体表面的氧化皮及杂物浮渣捞出;
S7,将加热炉功率调到10~20KW,使用搅拌棒搅拌使合金熔融液体均匀,并调温;
S8,将坩埚内的合金熔融液体倒入模具中,进行浇铸;
S9,对模具进行保温、静置、排渣操作,然后进行冷却,随后出炉去模具;
S10,根据靶材图纸,对靶管进行机加工;
S11,对靶材成品进行C-scan扫描,检测内部无气孔、裂纹等组织缺陷,经氦质谱检漏仪检漏,漏率≤5×10E-10Pa·m3/s,得到合格锡铜合金旋转靶。
2.根据权利要求1所述的锡铜合金靶生产工艺,其特征在于:在步骤S8中,所述浇铸温度为250~350℃。
3.根据权利要求1所述的锡铜合金靶生产工艺,其特征在于:在步骤S9中,所述冷却方法为水冷冷却或风冷冷却中的一种,并冷却至室温。
4.根据权利要求1所述的锡铜合金靶生产工艺,其特征在于:在步骤S6中,所述除气剂为脱水氯化锌、氯化锰、氯化铁、四氯化碳中的一种。
5.根据权利要求1所述的锡铜合金靶生产工艺,其特征在于:所述铜采用边长为25~35mm、厚度为3~5mm的薄片状金属铜。
CN201910294918.4A 2019-04-12 2019-04-12 锡铜合金靶生产工艺 Active CN110016576B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910294918.4A CN110016576B (zh) 2019-04-12 2019-04-12 锡铜合金靶生产工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910294918.4A CN110016576B (zh) 2019-04-12 2019-04-12 锡铜合金靶生产工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110016576A true CN110016576A (zh) 2019-07-16
CN110016576B CN110016576B (zh) 2022-03-01

Family

ID=67191257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910294918.4A Active CN110016576B (zh) 2019-04-12 2019-04-12 锡铜合金靶生产工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110016576B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114951608A (zh) * 2022-05-31 2022-08-30 广东先导微电子科技有限公司 一种高纯锑棒的制备方法
CN115287497A (zh) * 2022-07-29 2022-11-04 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种锡银铜靶材及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57185973A (en) * 1981-05-07 1982-11-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Production of target for sputtering
CN102069354A (zh) * 2010-12-25 2011-05-25 安徽鑫科新材料股份有限公司 一种锡铜合金带材的生产工艺
CN104032271B (zh) * 2014-06-20 2016-04-06 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 一种生产铜锌锡旋转靶材的模具及其方法
CN106460162A (zh) * 2014-05-21 2017-02-22 贺利氏德国有限责任两合公司 CuSn、CuZn 和Cu2ZnSn 溅射靶
CN108468025A (zh) * 2018-02-11 2018-08-31 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 铬平面靶材热等静压处理方法
CN107075667B (zh) * 2014-11-07 2019-08-20 住友金属矿山株式会社 铜合金靶

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57185973A (en) * 1981-05-07 1982-11-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Production of target for sputtering
CN102069354A (zh) * 2010-12-25 2011-05-25 安徽鑫科新材料股份有限公司 一种锡铜合金带材的生产工艺
CN106460162A (zh) * 2014-05-21 2017-02-22 贺利氏德国有限责任两合公司 CuSn、CuZn 和Cu2ZnSn 溅射靶
CN104032271B (zh) * 2014-06-20 2016-04-06 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 一种生产铜锌锡旋转靶材的模具及其方法
CN107075667B (zh) * 2014-11-07 2019-08-20 住友金属矿山株式会社 铜合金靶
CN108468025A (zh) * 2018-02-11 2018-08-31 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 铬平面靶材热等静压处理方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114951608A (zh) * 2022-05-31 2022-08-30 广东先导微电子科技有限公司 一种高纯锑棒的制备方法
CN114951608B (zh) * 2022-05-31 2024-04-12 广东先导微电子科技有限公司 一种高纯锑棒的制备方法
CN115287497A (zh) * 2022-07-29 2022-11-04 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种锡银铜靶材及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110016576B (zh) 2022-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2021018203A1 (zh) 一种非真空下引连铸铜铁合金扁锭的生产工艺
CN105734369B (zh) φ784mm的7xxx系超硬铝合金圆棒的热顶铸造工艺
CN107008873B (zh) 多模式电磁场均质化金属连铸坯的制备方法及其装置
EP3553199B1 (en) A method of preparing magnesium-zinc-yttrium quasicrystal and boron carbide mixed reinforced magnesium-based composite material
CN110814305B (zh) 一种Cu-Fe复合材料双熔体混合铸造装备与工艺
CN105463272A (zh) 一种5005铝合金圆铸锭的生产方法
CN106399728B (zh) 高锰铝青铜合金的熔炼方法
CN110016576A (zh) 锡铜合金靶生产工艺
CN105506318B (zh) 一种超硬铝合金的生产工艺
CN104894443B (zh) 一种5356铝合金铸锭的制备方法
CN108220670B (zh) 一种Cu-Ni-Si-Mg合金板带铸轧方法及铸轧设备
CN109518040B (zh) 利用超声处理连续制备Al-Ti-B晶粒细化剂的方法
CN107475545A (zh) 一种采用工业硅直接制备铝硅系铸造合金的方法
CN106119617A (zh) 一种铝锆合金及其粉末冶金成型方法
CN114410999A (zh) 一种3014铝合金板带的连铸连轧生产工艺
CN116121548B (zh) 一种电渣重熔中铸锭局部凝固时间控制方法、系统及设备
CN110280745B (zh) 一种控制直径1米级2219铝合金圆锭成分偏析的多源超声布控方法
CN106480338A (zh) 用于调整热浸镀液成分的锌铝镁合金及其直接熔炼方法
CN113046586A (zh) 一种Cu-Cr合金及其超声辅助熔炼方法
CN109454214B (zh) 一种超声波压铸制备高导热烤盘的方法
CN108384972A (zh) 一种联合细化变质剂的制造方法
CN107937769A (zh) 一种具有高强度耐海水腐蚀的铝合金及其制备方法
CN113245530A (zh) 一种铜合金真空连续熔炼铸造方法
CN110317964A (zh) 一种熔炼铝合金的方法
CN104141065A (zh) 铜合金铸件的精密铸造工艺

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant