CN109985745B - 可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置 - Google Patents

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Abstract

一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，包括有：一上盖及一底座；其中，该上盖设一支撑架，该支撑架底部设一罐体，该罐体中供置入涂料，该罐体底部设复数个小孔，该等小孔呈同心圆阵列排列；该底座结合于该上盖底部，该底座上端设一倾斜平台，该倾斜平台上设至少三个定位柱，该等定位柱上供承载待喷涂之一曲面物体，该倾斜平台一侧设一把手，令能以该把手控制并固定该曲面物体之喷涂角度，该底座上设一气源口及一电源，其中该气源口与该罐体相接，该气源口可与一气压帮浦相接，令该气压帮浦提供一高压气体予该罐体，使该罐体中之涂料藉由高压气体之推送，可经由该等小孔构成的阵列洒落，而提高喷涂之均匀度。

Description

可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置
技术领域
本发明系一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，尤指一种于曲面物体上喷涂二氧化钛(TiO2)，可提高均匀性之喷涂装置。
背景技术
按，手机之曲面盖板，于制造过程中，待测手机曲面盖板在使用扫描时，需要以二氧化钛(TiO2)覆盖其表面，以避免机台投射之蓝光直接穿透待测物，而不是反射回两侧的镜头。
目前的方式，是通过喷枪将二氧化钛(TiO2)附着在待测物表面。虽然喷涂时会保持一段距离，让雾化后的涂料可以比较均匀的覆盖，但靠近喷枪口中心的区域，涂料还是较浓的，再加上个人喷涂手法的不同，导致待测物喷涂后的厚度与均匀度有一定程度的差异，也就是说，涂料会集中于喷口中心，若技巧不够好，甚至会差到50um以上，相当不便利。
由此可见，上述习用物品仍有诸多缺失，实非一良善之设计者，而亟待加以改良。
发明内容
有鉴于此，本案发明人本于多年从事相关产品之制造开发与设计经验，针对上述之目标，详加设计与审慎评估后，终得一确具实用性之本发明。
本发明之目的，在提供一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，系于曲面物体上喷涂二氧化钛(TiO2)，可提高覆盖其表面之二氧化钛的均匀性。
根据上述之目的，本发明之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其主要系包括有：一上盖及一底座；其中，该上盖设有一支撑架，该支撑架中央底部设有中空之一罐体，该罐体中供置入涂料(如：二氧化钛(TiO2))，该罐体底部设有复数个小孔，该等小孔呈同心圆阵列排列于该罐体底部上；该底座结合于该上盖底部，该底座上端对应该等小孔之位置上设有一倾斜平台，该倾斜平台上设有至少三个定位柱，该等定位柱上供承载待喷涂之一曲面物体，该倾斜平台一侧边设有一把手，该把手之外端凸伸出该底座之侧边，该倾斜平台在对应该把手外端之另一侧边设有一枢接端，该枢接端枢设于该底座之另一侧边，令能以该把手之外端控制并固定该倾斜平台上曲面物体之喷涂角度，该底座之底部一侧边设有一气源口及一电源，其中该气源口与该罐体相接，而该电源则提供动作时所需之电力，该气源口可与一气压帮浦相接，令该气压帮浦提供一高压气体予该罐体，使该罐体中之涂料藉由高压气体之推送，可经由该等小孔构成的阵列洒落，而提高喷涂之均匀度；藉此，利用把手控制并固定喷涂角度，即可提高喷涂之均匀度。
附图说明
图1为本发明可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置之立体外观图。
图2为本发明可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置之上视图。
图3为本发明可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置之部份透视图。
图4为图3中A之底面示意图。
附图标记：
上盖10
支撑架11
罐体12
小孔121
第一观景窗13
喷涂量调节钮14
刻度141
启动开关15
底座20
倾斜平台21
定位柱211
把手22
枢接端221
气源口23
电源24
第二观景窗25
具体实施方式
本发明乃有关一种「可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置」，请参阅图1、图2、图3和图4所示，本发明之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其主要系包括有：一上盖10及一底座20。
其中，该上盖10设有一支撑架11，该支撑架11中央底部设有中空之一罐体12，该罐体12中供置入涂料(如：二氧化钛(TiO2))(图中未示)，该罐体12底部设有复数个小孔121(如图3所示)，该等小孔121呈同心圆阵列排列于该罐体12底部上(如图4所示)。
该底座20结合于该上盖10底部，该底座20上端对应该等小孔之位置上设有一倾斜平台21，该倾斜平台21上设有至少三个定位柱211，该等定位柱211上供承载待喷涂之一曲面物体(图中未示)，该倾斜平台21一侧边设有一把手22，该把手22之外端凸伸出该底座20之侧边，该倾斜平台21在对应该把手22外端之另一侧边设有一枢接端221，该枢接端221枢设于该底座20之另一侧边，令能以该把手22之外端控制并固定该倾斜平台21上曲面物体之喷涂角度。
又，该底座20之底部一侧边设有一气源口23及一电源24，其中该气源口23与该罐体12相连接，而该电源24则提供动作时所需之电力，该气源口23可与一气压帮浦相接(图中未示)，令该气压帮浦提供一高压气体予该罐体12，使该罐体12中之涂料藉由高压气体之推送，可经由该等小孔121构成的阵列洒落，而提高喷涂之均匀度。(本发明将喷涂方式由单点扩散改为数个小孔121构成的阵列洒落，而提高均匀度)
藉上述构件之组成，使用时，将待喷涂之曲面物体置入该倾斜平台21之定位柱211上，利用把手22控制并固定喷涂角度，通过该等小孔121构成的阵列洒落，即可提高喷涂之均匀度。
复请参阅图1、图2、图3所示，该支撑架11之顶面设有镂空之一第一观景窗13，而该底座20上端外侧并设有镂空之一第二观景窗25，使藉由该第一观景窗13、该第二观景窗25之设置，方便从该上盖10、该底座20外侧确认喷涂进度。又，该第一观景窗13、该第二观景窗25上并装设一透明之热塑式玻璃(PMMA)。
复请参阅图1、图2、图3所示，该支撑架11在该罐体12上方设有一喷涂量调节钮14，该喷涂量调节钮14与该罐体12相接，用以供调节喷涂量而控制喷涂速度。
复请参阅图1、图2、图3所示，该喷涂量调节钮14上并设置有一刻度141，以方便调转该喷涂量调节钮14而控制喷涂速度。
复请参阅图1、图2、图3所示，该支撑架11在该喷涂量调节钮14一侧边设有一启动开关15，该启动开关15与该电源24相接，用以供开启/关闭作动时所需之电力。
复请参阅图1、图2、图3、图4所示，该等小孔121与待喷涂之该曲面物体之间(即喷口与喷涂面之间)可维持12～20mm之适当距离。
复请参阅图1、图2、图3、图4所示，该等小孔121构成的阵列之间距(Pitch)可为5mm。
复请参阅图1、图2、图3、图4所示，该支撑架11、该罐体12之材质可为铝。
复请参阅图1、图2、图3、图4所示，该底座20之材质可为铝，而具有稳固性。
综合上所述，本发明之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，确实具有前所未有之创新构造，其既未见于任何刊物，且市面上亦未见有任何类似的产品，是以，其具有新颖性应无疑虑。另外，本发明所具有之独特特征以及功能远非习用所可比拟，所以其确实比习用更具有其进步性，而符合我国专利法有关发明专利之申请要件之规定，乃依法提起专利申请。
以上所述，仅为本发明最佳具体实施例，惟本发明之构造特征并不局限于此，任何熟悉该项技艺者在本发明领域内，可轻易思及之变化或修饰，皆可涵盖在以下本案之专利范围。

Claims (5)

1.一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其特征在于，包括：
一上盖，该上盖设有一支撑架，该支撑架中央底部设有中空之一罐体，该罐体中供置入涂料，该罐体底部设有复数个小孔，该等小孔呈阵列排列于该罐体底部上；及
一底座，该底座结合于该上盖底部，该底座上端对应该等小孔之位置上设有一倾斜平台，该倾斜平台上设有至少三个定位柱，该等定位柱上供承载待喷涂之一曲面物体，该倾斜平台一侧边设有一把手，该把手之外端凸伸出该底座之侧边，该倾斜平台在对应该把手外端之另一侧边设有一枢接端，该枢接端枢设于该底座之另一侧边，令能以该把手之外端控制并固定该倾斜平台上曲面物体之喷涂角度，该底座之底部一侧边设有一气源口及一电源，其中该气源口与该罐体相接，而该电源则提供动作时所需之电力，该气源口可与一气压帮浦相接，令该气压帮浦提供一高压气体予该罐体，使该罐体中之涂料藉由高压气体之推送，可经由该等小孔构成的阵列洒落，而提高喷涂之均匀度，其中该支撑架之顶面设有镂空之一第一观景窗，而该底座上端外侧并设有镂空之一第二观景窗，使藉由该第一观景窗、该第二观景窗之设置，方便从该上盖、该底座外侧确认喷涂进度，该第一观景窗、该第二观景窗上并装设一透明之热塑式玻璃，该支撑架在该罐体上方设有一喷涂量调节钮，该喷涂量调节钮与该罐体相接，用以供调节喷涂量而控制喷涂速度，该等小孔与待喷涂之该曲面物体之间可维持12～20mm之适当距离，该等小孔构成的阵列之间距为5mm。
2.如权利要求 1 所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该涂料为二氧化钛。
3.如权利要求 1 所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该喷涂量调节钮上设置有一刻度。
4.如权利要求 1 所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该支撑架、该罐体之材质为铝。
5.如权利要求 1 所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该底座之材质为铝。
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