CN109957768A - 玻璃减薄镀膜方法及设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种玻璃减薄镀膜方法，先将基片固定在基片架上，将基片架送入进口室，密封后进行低真空抽气；再将基片架送入进口缓冲室，进行高真空抽气；然后基片架送入进口传送室，在高真空下对基片进行预热；基片架送入工艺室，进行镀膜处理，镀膜时对基片进行加热，基片温度为150～250℃；镀膜后的基片送出。本发明还公开一种玻璃减薄镀膜设备，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述设备还包括真空泵，所述真空泵为分子泵，所述分子泵安装于门板上；进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室都设有加热装置。

Description

玻璃减薄镀膜方法及设备

技术领域

本发明涉及玻璃镀膜结构技术领域，尤其涉及一种玻璃减薄镀膜方法及设备。

背景技术

镀膜玻璃(Coated glass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。

随着移动手机、平板电脑等电子消费品尺寸越来越大及轻薄化的趋势不断发展，对玻璃基板减薄的要求将日益提高。

显示面板经过减薄后具备主要两方面的优势：面板厚度减少(现阶段至少40％以上)；面板质量大幅提升，如反射性能及导电系数大幅提升。追求更纤细(Slimmer)的显示面板，首先带来的效益是可以增加电池容量与供电时效。现有的锂电池科技进步相当缓慢却又不可或缺，其电力储存容量与供电时间跟电池体积成正比。如果把LCD模组厚度减少25％，空出来的空间可以让锂电池容量增加10％，假使以1部智能手机使用1,200mAH锂聚合物电池来看，多出来的120mAH相当于增加了可以多看2小时电影的电量。

另一个效益则是减少重量，当显示面板的LCD模组厚度减少10％，整个装置重量可以减少15％，同时更纤细化将带动潮流。苹果的产品除了Interface好用之外，简洁与时尚(Stylish)的产品外型设计也是一个卖点。这几年从强调功能、规格的工程师思维产品(EngineerProduct)，已逐渐转变成强调生活应用，甚至以时尚外观供女性做为装饰品的一部分。

目前的导电玻璃生产线可以归纳为两大类：第一类是设备两侧均设镀膜靶位，靶位较少，适合于传统导电玻璃的生产，此类设备无法生产多层膜产品或者高透类产品，但是生产常规产品产量高，第二类是设备单面设有镀膜靶位，靶位设置较多，真空室的数量也较多，这类设备所生产产品除涵盖前一类设备的产品外，由于靶位增多，还可以生产高透膜产品以及多层膜产品，但是相比前一类设备产量减半，而且这两类设备的设计基本上是基于小尺寸玻璃考虑，但是产量较低，镀膜利用率不高，而且对于超薄玻璃，其良品率不高，生产过程中易出现破损现象，以上两类设备存在以下不足之处：

1、第一类设备虽产量较高，但是产品涵盖范围窄，不利于公司产品的升级换代；第二类设备虽涵盖产品范围广，但是产量过低，无法提高生产效率。即适用范围窄产量低，不利于产品拓展。

2、该两类设备的设计以355.6X406.4mm尺寸的产品为主流标准产品，因此其基片架及夹具等的设计均按照355.6X406.4mm尺寸考虑，所采取的弹簧夹具与基片架上下横梁焊接在一起，所以玻璃尺寸变更，会出现夹具错位或者一片玻璃要横跨两个夹具的现象，易造成玻璃划伤或者因夹具夹不紧掉片。为避免上述情况可能针对不同尺寸的产品设计对应的横梁夹具，这样在产品更换时就需要更换整套横梁，耽误生产、时间较长且成本高；对于尺寸稍大的玻璃其镀膜有效区利用率低，这也直接导致这两类设备生产稍大尺寸玻璃产量极低的原因。主要适用于小尺寸玻璃，不适合大尺寸玻璃。

3、这两类设备的基片架及靶位的设计均与水平面垂直，这种设计对于小尺寸厚玻璃而言(1.1mm，0.7mm等)，可以完全满足其生产需要，但是对于3代以上尺寸的薄玻璃(0.4mm、0.33mm)，如果以这种方式装夹，易造成玻璃弯曲破裂，而且在基片架的行走过程中，会由于传动的稍微不平稳造成玻璃的颤动，使玻璃易与腔体内的加热器等部件擦碰。因此这两类设备不适合大尺寸薄玻璃的生产。

发明内容

本发明要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本发明提供一种玻璃减薄镀膜设备，克服了传统生产线，透过率范围不高，无传送室，基片装载架的传送速度转换比小，生产效率较低等缺陷，且适合用于各类显示面板、太阳能面板和装饰面板的透明导电膜、抗反射膜、高反射膜等大面积玻璃镀膜的生产。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：

一种玻璃减薄镀膜方法，包括以下步骤：

a、基片固定在基片架上，将基片架送入进口室，密封后进行低真空抽气，真空度达到5～8Pa；

b、基片架送入进口缓冲室，进行高真空抽气，真空度达到2～5×10－1Pa；

c、基片架送入进口传送室，在高真空下对基片进行预热；

d、基片架送入工艺室，进行镀膜处理，镀膜时对基片进行加热，基片温度为150～250℃；

e、镀膜后的基片送入出口传送室，保持高真空状态；

f、基片架送入出口缓冲室，出口缓冲室为低真空状态；

g、基片架送出。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述步骤d中，镀膜时温度150～250℃，温度维持范围为±5℃。

一种上述镀膜方法的玻璃减薄镀膜设备，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述设备还包括真空泵，所述真空泵为分子泵，所述分子泵安装于门板上；进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室都设有加热装置。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述进口缓冲室、进口传送室、出口传送室、出口缓冲室在前侧板和后侧板上分别安装有加热装置，所述加热装置和进口缓冲室或者出口缓冲室的箱体之间设有隔热件。

所述隔热件为四层不锈钢镜面板。

所述工艺室的底板设有三段加热装置，非靶位侧板设有五段加热装置，加热装置与箱体之间设有隔热件，所述隔热件为四层不锈钢镜面板，加热装置与基片架之间设有钛板。

所述设备还包括磁导向摩擦传动装置，所述磁导向摩擦传动装置包括多个传动轮和传动带，所述传动轮通过传动带带动转动，基片架的底部设有滚轴，所述滚轴位于传动轮的轮槽内，所述基片架通过传动轮的滚动在各个室之间移动。

所述磁控溅射腔设有惰性气体管道和氧气管道，所述惰性气体管道为多孔电极形成均匀的喷射式气流管道。

与现有技术相比，本发明的优点在于：

本发明的玻璃减薄镀膜方法及设备，可以适用于各种面积的基片溅射，镀膜效果好，所制备的膜具有电阻均匀性好、电阻率低、高透过率等性能。本发明的玻璃减薄镀膜设备，分子泵安装在门板上，分子泵排气管道与前级泵管道连接利用气动结构实现自动密封和自动打开，开关门时不用人工拆卸抽气管道。本发明的玻璃减薄镀膜设备，采用磁导向摩擦传动装置能确保制动的平稳和精确定位。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图号说明：

1、磁控溅射腔；2、旋转阴极；3、移动磁场阴极。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

图1示出了本发明玻璃减薄镀膜设备的一种实施方式，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，工艺室包括多个磁控溅射腔，磁控溅射腔1设有旋转阴极2，多个磁控溅射腔1的旋转阴极2不全位于同一侧；生产线还包括传送系统，传送系统包括磁导向摩擦传动装置。

本实施例的权利要求1镀膜方法的玻璃减薄镀膜设备，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，设备还包括真空泵，真空泵为分子泵，分子泵安装于门板上；进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室都设有加热装置。

本实施例中，进口缓冲室、进口传送室、出口传送室、出口缓冲室在前侧板和后侧板上分别安装有加热装置，加热装置和进口缓冲室或者出口缓冲室的箱体之间设有隔热件。

本实施例中，隔热件为四层不锈钢镜面板。

本实施例中，工艺室的底板设有三段加热装置，非靶位侧板设有五段加热装置，加热装置与箱体之间设有隔热件，隔热件为四层不锈钢镜面板，加热装置与基片架之间设有钛板。

本实施例中，还包括磁导向摩擦传动装置，磁导向摩擦传动装置包括多个传动轮和传动带，传动轮通过传动带带动转动，行程由光电定位。基片架的底部设有滚轴，滚轴位于传动轮的轮槽内，基片架通过传动轮的滚动在各个室之间移动。

本实施例中，磁控溅射腔设有惰性气体管道和氧气管道，惰性气体管道为多孔电极形成均匀的喷射式气流管道。

本实施例的玻璃减薄镀膜方法，包括以下步骤：

a、基片固定在基片架上，将基片架送入进口室，密封后进行低真空抽气，真空度达到5～8Pa；

b、完成低真空抽气后，将基片架送入进口缓冲室，进行高真空抽气，真空度达到2～5×10－1Pa；

c、完成高真空抽气后，将基片架送入进口传送室，在高真空下对基片进行预热，基片架传送速度由传送速度转变成镀膜传送速度；

d、基片架送入工艺室，进行镀膜处理，镀膜时对基片进行加热，基片温度为150～250℃，温度维持范围为±5℃；

e、镀膜后的基片送入出口传送室，保持高真空状态，基片架传送速度由镀膜传送速度转变成传送速度；

f、基片架送入出口缓冲室，出口缓冲室为低真空状态；

g、基片架送出。

上述只是本发明的较佳实施例，并非对本发明作任何形式上的限制。虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均应落在本发明技术方案保护的范围内。

Claims (8)

1.一种玻璃减薄镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

a、基片固定在基片架上，将基片架送入进口室，密封后进行低真空抽气，真空度达到5～8Pa；

b、基片架送入进口缓冲室，进行高真空抽气，真空度达到2～5×10^－1Pa；

c、基片架送入进口传送室，在高真空下对基片进行预热；

d、基片架送入工艺室，进行镀膜处理，镀膜时对基片进行加热，基片温度为150～250℃；

e、镀膜后的基片送入出口传送室，保持高真空状态；

f、基片架送入出口缓冲室，出口缓冲室为低真空状态；

g、基片架送出。

2.根据权利要求1所述的玻璃减薄镀膜方法，其特征在于，所述步骤d中，镀膜时温度150～250℃，温度维持范围为±5℃。

3.一种权利要求1所述镀膜方法的玻璃减薄镀膜设备，其特征在于，依次包括进口室、进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室和出口室，所述设备还包括真空泵，所述真空泵为分子泵，所述分子泵安装于门板上；进口缓冲室、进口传送室、工艺室、出口传送室、出口缓冲室都设有加热装置。

4.根据权利要求3所述的玻璃减薄镀膜设备，其特征在于，所述进口缓冲室、进口传送室、出口传送室、出口缓冲室在前侧板和后侧板上分别安装有加热装置，所述加热装置和进口缓冲室或者出口缓冲室的箱体之间设有隔热件。

5.根据权利要求4所述的玻璃减薄镀膜设备，其特征在于，所述隔热件为四层不锈钢镜面板。

6.根据权利要求3所述的玻璃减薄镀膜设备，其特征在于，所述工艺室的底板设有三段加热装置，非靶位侧板设有五段加热装置，加热装置与箱体之间设有隔热件，所述隔热件为四层不锈钢镜面板，加热装置与基片架之间设有钛板。

7.根据权利要求3所述的玻璃减薄镀膜设备，其特征在于，还包括磁导向摩擦传动装置，所述磁导向摩擦传动装置包括多个传动轮和传动带，所述传动轮通过传动带带动转动，基片架的底部设有滚轴，所述滚轴位于传动轮的轮槽内，所述基片架通过传动轮的滚动在各个室之间移动。

8.根据权利要求1所述的玻璃减薄镀膜设备，其特征在于，所述磁控溅射腔设有惰性气体管道和氧气管道，所述惰性气体管道为多孔电极形成均匀的喷射式气流管道。